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二次离子质谱分析 被引量:9
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作者 王铮 曹永明 +1 位作者 李越生 方培源 《上海计量测试》 2003年第3期42-46,共5页
一、引言 二次离子质谱(SecondaryIon Mass Spectrometry)是一种用于分析固体材料表面组分和杂质的分析手段.通过一次离子溅射,SIMS可以对样品进行质谱分析、深度剖析或成二次离子像.
关键词 固体材料 表面组分 二次离子质谱分析 SIMS 工作原理 深度剖析 离子
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多晶硅/氧化硅界面的二次离子质谱分析 被引量:1
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作者 赵杰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第10期64-67,72,共5页
利用二次离子质谱仪对多晶硅/氧化硅界面进行分析,发现多晶硅/氧化硅界面不是突变的,而存在着一个过渡区;根据多晶硅薄膜的成核理论,分析该过渡区形成的物理起源和机理,并利用“氧化层电导”模型,定量分析过渡区对器件栅氧化层电导的影响。
关键词 多晶硅 氧化硅 界面 二次离子质谱分析 过渡区 栅氧化层电导 硅栅
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离子束流剖面分布离线诊断方法探索 被引量:3
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作者 杨振 龙继东 +3 位作者 蓝朝晖 李杰 刘平 石金水 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期41-45,共5页
提出了一种基于二次离子质谱分析技术的离子束流剖面分布的离线诊断方法,具有分辨率高、可同时给出束流剖面分布和成分信息的特点。利用数值模拟方法对该诊断方法的可行性进行了分析和讨论,并结合原理实验给出了验证结果。结果表明:该... 提出了一种基于二次离子质谱分析技术的离子束流剖面分布的离线诊断方法,具有分辨率高、可同时给出束流剖面分布和成分信息的特点。利用数值模拟方法对该诊断方法的可行性进行了分析和讨论,并结合原理实验给出了验证结果。结果表明:该方法可以用于真空密封型中子发生器离子束流剖面分布的诊断,能够成为其他诊断方法的验证手段和有力补充。 展开更多
关键词 真空密封型中子发生器 真空弧离子 束流剖面 二次离子质谱分析
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As在HgCdTe外延层中的扩散系数 被引量:5
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作者 徐非凡 吴俊 +3 位作者 巫艳 陈路 于梅芳 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期7-10,共4页
使用二次离子质谱分析(SIMS)方法研究了As在碲镉汞分子束外延样品中的扩散系数.获得了在240℃,380℃和440℃温度下As在碲镉汞材料中的扩散系数,并发现它与退火过程中Hg的分压有关,且Hg空位对As的扩散有明显的辅助增强作用.研究表明在低... 使用二次离子质谱分析(SIMS)方法研究了As在碲镉汞分子束外延样品中的扩散系数.获得了在240℃,380℃和440℃温度下As在碲镉汞材料中的扩散系数,并发现它与退火过程中Hg的分压有关,且Hg空位对As的扩散有明显的辅助增强作用.研究表明在低温段的240℃/24~48小时的退火中As的扩散非常有限,对样品中As的浓度分布影响不大,而在高温段380℃/16小时和440℃/30分钟退火中,As扩散较为明显,能使原来的PN突变结变缓.综合比较As杂质的电学激活以及As扩散因素,高温段440℃/30分钟的退火条件较理想. 展开更多
关键词 外延层 碲镉汞材料 退火过程 二次离子质谱分析 SIMS 分压 扩散 辅助 PN 突变
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TOF SIMS Study on PAHs in Individual Particle from a Power Station 被引量:1
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作者 梁汉东 于春海 +1 位作者 周强 李艳芳 《Journal of China University of Mining and Technology》 2001年第2期150-154,共5页
The individual particles collected from a power station were analyzed by time of flight secondary ion mass spectrometry (TOF SIMS). The result indicates the presence of the polycyclic aromatic hydrocarbon (PAHs) as we... The individual particles collected from a power station were analyzed by time of flight secondary ion mass spectrometry (TOF SIMS). The result indicates the presence of the polycyclic aromatic hydrocarbon (PAHs) as well as the oxygenated one. They might be derived from the incomplete combustion of coals. SIMS has proved to be a rapid method for the qualitative analysis of PAHs and OPAHs absorbed on the aerosol particles. New perspectives for better understanding the SIMS spectra obtained from complex mixture such as environmental samples have been opened. 展开更多
关键词 TOF SIMS polycyclic aromatic hydrocarbon (PAHs) oxygenated polycyclic aromatic hydrocarbon (OPAHs) environmental particles power station
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ION BEAM AND SIMS ANALYSIS ON DAMAGE OF GaAs DOPED WITH N^+
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作者 吴小山 林振金 +1 位作者 姬成周 杨锡震 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 1994年第3期154-161,共8页
The Rutherford backscattering (RBS) spectra of N+-implanted GaAs are measured with a He+ ion beam of 2.1MeV. The backscattering yield along 【 100 】 aligned incidence increases with the increase in implanted doses. T... The Rutherford backscattering (RBS) spectra of N+-implanted GaAs are measured with a He+ ion beam of 2.1MeV. The backscattering yield along 【 100 】 aligned incidence increases with the increase in implanted doses. The depth profiles of nitrogen and arsenic are measured by secondary ion mass spectrometer (SIMS).The diffusion of nitrogen in the implanted layers is explained as interstitial migration. The damage is very severe during the ion implantation, and it can be recovered psrtly by annealing. The two-step annealing improves the effect obviously. The calculstion on distribution of damage shows that the recovery is proceeded from the inner side to the surface during the annealing. The mechanism of damage is discussed briefly. 展开更多
关键词 Ion implantation Damage RBS channeling SIMS Depth profile
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