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全息光刻和二次显影法制备柱形二维光子晶体(英文)
被引量：
4
1
作者
曹远迎
张永刚
+3 位作者
李耀耀
顾溢
李爱珍
李好斯白音
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第1期45-49,共5页
采用全息光刻和二次显影的方法制备了柱形二维光子晶体.在此过程中,二维点状的周期结构首先在正性光刻胶上直接形成,然后经由Si3N4硬掩模转移到衬底材料上.利用二次显影的方法,曝光强度最强和曝光强度中等区域的光刻胶能够被同时充分显...
采用全息光刻和二次显影的方法制备了柱形二维光子晶体.在此过程中,二维点状的周期结构首先在正性光刻胶上直接形成,然后经由Si3N4硬掩模转移到衬底材料上.利用二次显影的方法,曝光强度最强和曝光强度中等区域的光刻胶能够被同时充分显影,而曝光强度最弱区域的光刻胶则可以完全被保留下来.通过调节入射角,可以方便地调节二维结构的周期.利用此方法,在相对较大的面积上制备了不同周期的二维结构,二维结构具有很好的均匀性和重复性.文章对有关的工艺参数进行了详细讨论.
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关键词
全息光刻
二
维光子晶体
柱形
二次显影
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职称材料
题名
全息光刻和二次显影法制备柱形二维光子晶体(英文)
被引量：
4
1
作者
曹远迎
张永刚
李耀耀
顾溢
李爱珍
李好斯白音
机构
中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第1期45-49,共5页
基金
Supported by the National Basic Research Program of China under grant No.2012CB619200
the National Natural Science Foundation of China under grant No.61275113 and 61204133
文摘
采用全息光刻和二次显影的方法制备了柱形二维光子晶体.在此过程中,二维点状的周期结构首先在正性光刻胶上直接形成,然后经由Si3N4硬掩模转移到衬底材料上.利用二次显影的方法,曝光强度最强和曝光强度中等区域的光刻胶能够被同时充分显影,而曝光强度最弱区域的光刻胶则可以完全被保留下来.通过调节入射角,可以方便地调节二维结构的周期.利用此方法,在相对较大的面积上制备了不同周期的二维结构,二维结构具有很好的均匀性和重复性.文章对有关的工艺参数进行了详细讨论.
关键词
全息光刻
二
维光子晶体
柱形
二次显影
Keywords
holographic lithography
two dimensional photonic crystals
column shape
double developments
分类号
TN2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
全息光刻和二次显影法制备柱形二维光子晶体(英文)
曹远迎
张永刚
李耀耀
顾溢
李爱珍
李好斯白音
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
4
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