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缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤阈值的影响
被引量：
2
1
作者
谭天亚
于撼江
+3 位作者
吴炜
郭永新
范正修
邵建达
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第10期2613-2617,共5页
采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm,532nm二倍频增透膜.利用Lambda900分光光度计和调Q脉冲激光装置对样品的光学性能和抗激光损伤性能进行了测试分析.结果表明,所有样品在1064nm和532nm波长的剩余...
采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm,532nm二倍频增透膜.利用Lambda900分光光度计和调Q脉冲激光装置对样品的光学性能和抗激光损伤性能进行了测试分析.结果表明,所有样品在1064nm和532nm波长的剩余反射率都分别小于0.1%和0.2%.与无缓冲层样品相比,采用SiO2和MgF2缓冲层薄膜的激光损伤阈值分别提高了23.1%和25.8%,而Al2O3缓冲层的插入却导致薄膜的激光损伤阈值降低.通过观察薄膜的激光损伤形貌,分析破斑的深度信息和电场分布,表明LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤破坏主要表现为膜层剥落,激光产生的热冲击应力使薄膜应力发生很大变化,超过膜层之间的结合而引起膜层之间的分离.采用SiO2或MgF2缓冲层可改进Al2O3膜层的质量,从而有利于提高薄膜的激光损伤阈值.
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关键词
光学薄膜
二倍频增透膜
LBO晶体
激光损伤阈值
缓冲层
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职称材料
缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm增透膜附着力的影响
被引量：
3
2
作者
谭天亚
吴炜
+2 位作者
郭永新
邵建达
范正修
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第9期1343-1346,共4页
采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064 nm,532 nm二倍频增透膜。利用分光光度计、纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力以及抗激光损伤性能进行了测试分析。结果表明:所有...
采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064 nm,532 nm二倍频增透膜。利用分光光度计、纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力以及抗激光损伤性能进行了测试分析。结果表明:所有样品在1064 nm和532 nm波长的剩余反射率都分别小于0.1%和0.2%;与无缓冲层样品相比,预镀Al2O3缓冲层样品的附着力提高了43.1%,具有SiO2缓冲层样品的附着力显著提高,而MgF2缓冲层的插入却导致薄膜附着力降低。应用全塑性压痕理论和剪切理论对薄膜的附着力增强机制进行了分析。薄膜的抗激光损伤性能分析表明,SiO2缓冲层也有助于改进薄膜的激光损伤阈值。
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关键词
二倍频增透膜
LBO晶体
附着力
缓冲层
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职称材料
题名
缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤阈值的影响
被引量：
2
1
作者
谭天亚
于撼江
吴炜
郭永新
范正修
邵建达
机构
辽宁大学物理学院
沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室
中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第10期2613-2617,共5页
基金
沈阳市科学技术计划项目(1071115-1-00)
辽宁省教育厅科研项目(2008224)
辽宁省科技厅科研项目(20081030)资助
文摘
采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm,532nm二倍频增透膜.利用Lambda900分光光度计和调Q脉冲激光装置对样品的光学性能和抗激光损伤性能进行了测试分析.结果表明,所有样品在1064nm和532nm波长的剩余反射率都分别小于0.1%和0.2%.与无缓冲层样品相比,采用SiO2和MgF2缓冲层薄膜的激光损伤阈值分别提高了23.1%和25.8%,而Al2O3缓冲层的插入却导致薄膜的激光损伤阈值降低.通过观察薄膜的激光损伤形貌,分析破斑的深度信息和电场分布,表明LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤破坏主要表现为膜层剥落,激光产生的热冲击应力使薄膜应力发生很大变化,超过膜层之间的结合而引起膜层之间的分离.采用SiO2或MgF2缓冲层可改进Al2O3膜层的质量,从而有利于提高薄膜的激光损伤阈值.
关键词
光学薄膜
二倍频增透膜
LBO晶体
激光损伤阈值
缓冲层
Keywords
Optical thin films
Frequency-doubled antireflection coating i LBO crystal
Laser-induced damage threshold
Buffer layer
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm增透膜附着力的影响
被引量：
3
2
作者
谭天亚
吴炜
郭永新
邵建达
范正修
机构
辽宁大学物理学院
沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室
中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第9期1343-1346,共4页
基金
沈阳市科技计划项目(1071115-1-00)
辽宁省教育厅科研计划项目(2008224)
辽宁省科技厅科研计划项目(20081030)
文摘
采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064 nm,532 nm二倍频增透膜。利用分光光度计、纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力以及抗激光损伤性能进行了测试分析。结果表明:所有样品在1064 nm和532 nm波长的剩余反射率都分别小于0.1%和0.2%;与无缓冲层样品相比,预镀Al2O3缓冲层样品的附着力提高了43.1%,具有SiO2缓冲层样品的附着力显著提高,而MgF2缓冲层的插入却导致薄膜附着力降低。应用全塑性压痕理论和剪切理论对薄膜的附着力增强机制进行了分析。薄膜的抗激光损伤性能分析表明,SiO2缓冲层也有助于改进薄膜的激光损伤阈值。
关键词
二倍频增透膜
LBO晶体
附着力
缓冲层
Keywords
frequency-doubled antireflection coating
LBO crystal
adhesion
buffer layer
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤阈值的影响
谭天亚
于撼江
吴炜
郭永新
范正修
邵建达
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
2
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2
缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm增透膜附着力的影响
谭天亚
吴炜
郭永新
邵建达
范正修
《强激光与粒子束》
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CSCD
北大核心
2009
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