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中频磁控溅射AlN薄膜的电学性能研究
1
作者
贾贞
翁卫祥
+3 位作者
袁军林
张杰
李昱
郭太良
《光电子技术》
CAS
北大核心
2010年第2期122-126,共5页
利用中频反应磁控溅射在玻璃衬底上沉积了不同溅射功率的AlN薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜和电击穿场强测试系统研究了薄膜的结构和电学性能,并对该介质薄膜的导通机制进行了分析。结果表明,所制备的薄膜呈非晶态,5kW溅射功率下...
利用中频反应磁控溅射在玻璃衬底上沉积了不同溅射功率的AlN薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜和电击穿场强测试系统研究了薄膜的结构和电学性能,并对该介质薄膜的导通机制进行了分析。结果表明,所制备的薄膜呈非晶态,5kW溅射功率下制备的薄膜具有较好的表面结构,并具有较高的耐击穿场强,约为2.1MV/cm;结合理论分析发现,AlN在不同的场强条件下以某一种导通作为主要的导通机制:低场强区服从欧姆定律,随着场强升高,在不同的阶段分别以肖特基效应,普尔-弗兰凯尔效应和F-N效应为主。
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关键词
ALN薄膜
中频反应磁控溅射
电学性能
导通机制
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职称材料
周期结构对AlTiN多层薄膜结合能影响
被引量：
4
2
作者
罗庆洪
杨会生
+3 位作者
陆永浩
娄艳芝
于栋利
王燕斌
《航空材料学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期45-50,共6页
使用TiAl合金靶,利用中频反应磁控溅射系统,通过交替改变氮气流量的方法,在高速钢(W18Cr4V)基体上沉积了氮含量周期性改变的AlTiN多层薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和高分辨透射电镜(HRTEM)等方法研究了AlTiN多...
使用TiAl合金靶,利用中频反应磁控溅射系统,通过交替改变氮气流量的方法,在高速钢(W18Cr4V)基体上沉积了氮含量周期性改变的AlTiN多层薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和高分辨透射电镜(HRTEM)等方法研究了AlTiN多层薄膜微观组织和结构;AlTiN多层薄膜的力学以及膜基结合性能用纳米压痕硬度仪和划痕试验得到。结果表明,制备的AlTiN薄膜,尽管交替的两层中氮含量不同,但每一单层都为非晶包裹纳米晶的纳米复合结构,所不同的是,低氮含量层中纳米晶密度较小。多层结构的形成能够很大的提高AlTiN多层薄膜的临界载荷和结合能,同时硬度和弹性模量值均有微小的提高,氮气流量的增加有利于多层膜性能的改善。
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关键词
中频反应磁控溅射
AlTiN多层薄膜
显微结构
结合能
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职称材料
题名
中频磁控溅射AlN薄膜的电学性能研究
1
作者
贾贞
翁卫祥
袁军林
张杰
李昱
郭太良
机构
福州大学物理与信息工程学院
出处
《光电子技术》
CAS
北大核心
2010年第2期122-126,共5页
基金
国家"863"计划重大专项(2008AA03A313)
福建省重大科技专项(2004HZ01-2)
文摘
利用中频反应磁控溅射在玻璃衬底上沉积了不同溅射功率的AlN薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜和电击穿场强测试系统研究了薄膜的结构和电学性能,并对该介质薄膜的导通机制进行了分析。结果表明,所制备的薄膜呈非晶态,5kW溅射功率下制备的薄膜具有较好的表面结构,并具有较高的耐击穿场强,约为2.1MV/cm;结合理论分析发现,AlN在不同的场强条件下以某一种导通作为主要的导通机制:低场强区服从欧姆定律,随着场强升高,在不同的阶段分别以肖特基效应,普尔-弗兰凯尔效应和F-N效应为主。
关键词
ALN薄膜
中频反应磁控溅射
电学性能
导通机制
Keywords
AlN thin film
medium frequency magnetron reaction sputtering
electrical proprety
conduction mechanism
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
周期结构对AlTiN多层薄膜结合能影响
被引量：
4
2
作者
罗庆洪
杨会生
陆永浩
娄艳芝
于栋利
王燕斌
机构
北京科技大学材料物理与化学系
北京航空材料研究院
燕山大学材料科学与工程学院
出处
《航空材料学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期45-50,共6页
基金
国家自然科学基金(50871018)
文摘
使用TiAl合金靶,利用中频反应磁控溅射系统,通过交替改变氮气流量的方法,在高速钢(W18Cr4V)基体上沉积了氮含量周期性改变的AlTiN多层薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)和高分辨透射电镜(HRTEM)等方法研究了AlTiN多层薄膜微观组织和结构;AlTiN多层薄膜的力学以及膜基结合性能用纳米压痕硬度仪和划痕试验得到。结果表明,制备的AlTiN薄膜,尽管交替的两层中氮含量不同,但每一单层都为非晶包裹纳米晶的纳米复合结构,所不同的是,低氮含量层中纳米晶密度较小。多层结构的形成能够很大的提高AlTiN多层薄膜的临界载荷和结合能,同时硬度和弹性模量值均有微小的提高,氮气流量的增加有利于多层膜性能的改善。
关键词
中频反应磁控溅射
AlTiN多层薄膜
显微结构
结合能
Keywords
MF-Reactive sputtering
AlTiN multilayer coating
microstructure
adhesion
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
O484.4 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
中频磁控溅射AlN薄膜的电学性能研究
贾贞
翁卫祥
袁军林
张杰
李昱
郭太良
《光电子技术》
CAS
北大核心
2010
0
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职称材料
2
周期结构对AlTiN多层薄膜结合能影响
罗庆洪
杨会生
陆永浩
娄艳芝
于栋利
王燕斌
《航空材料学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
4
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职称材料
已选择
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