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掺硼金刚石薄膜电极的制备及电化学特性
被引量：
3
1
作者
王帅
檀柏梅
+2 位作者
高宝红
张男男
安卫静
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第5期378-381,共4页
通过热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,在钽衬底上制备了p型掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。利用原子力显微镜(AFM)分析丙酮体积分数对BDD电极的表面形貌和成膜质量的影响,利用循环伏安法(CV)分析BDD电极在不同种类、不同浓度电解液中的电化学特...
通过热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,在钽衬底上制备了p型掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。利用原子力显微镜(AFM)分析丙酮体积分数对BDD电极的表面形貌和成膜质量的影响,利用循环伏安法(CV)分析BDD电极在不同种类、不同浓度电解液中的电化学特性。结果表明,当丙酮体积分数为1.5%时,金刚石薄膜表现出优异的附着力,并且BDD电极具有稳定的电化学特性。采用制备的BDD电极,在不同浓度的KCl和KH2PO4电解液中使用,得出电势窗口均在3.4 V以上。
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关键词
掺硼金钢石(BDD)薄膜电极
热丝化学气相淀积(HFCVD)
循环伏安法(CV)
丙酮体积分数
电化学窗口
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职称材料
题名
掺硼金刚石薄膜电极的制备及电化学特性
被引量：
3
1
作者
王帅
檀柏梅
高宝红
张男男
安卫静
机构
河北工业大学微电子研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第5期378-381,共4页
基金
国家科技重大专项资助项目(2009ZX02308-003
2014ZX02301003-007)
文摘
通过热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,在钽衬底上制备了p型掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。利用原子力显微镜(AFM)分析丙酮体积分数对BDD电极的表面形貌和成膜质量的影响,利用循环伏安法(CV)分析BDD电极在不同种类、不同浓度电解液中的电化学特性。结果表明,当丙酮体积分数为1.5%时,金刚石薄膜表现出优异的附着力,并且BDD电极具有稳定的电化学特性。采用制备的BDD电极,在不同浓度的KCl和KH2PO4电解液中使用,得出电势窗口均在3.4 V以上。
关键词
掺硼金钢石(BDD)薄膜电极
热丝化学气相淀积(HFCVD)
循环伏安法(CV)
丙酮体积分数
电化学窗口
Keywords
boron-doped diamond （BDD） film electrode
hot filament chemical vapor deposition （HFCVD）
cyclic voltammetry （CV）
acetone volume fraction
electrochemical window
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
TN304.18 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
掺硼金刚石薄膜电极的制备及电化学特性
王帅
檀柏梅
高宝红
张男男
安卫静
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2015
3
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