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火焰水解淀积Si02膜的退火研究
1
作者
张乐天
王昕
+4 位作者
吴远大
邢华
李爱武
郑伟
张玉书
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第0Z2期239-243,共5页
本文采用火焰水解法在Si衬底上淀积了用于光波导下包层材料的SiO2膜,然后将其放入高温炉在空气中进行不同温度的退火处理。我们利用原子力量微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射仪(XRD)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对...
本文采用火焰水解法在Si衬底上淀积了用于光波导下包层材料的SiO2膜,然后将其放入高温炉在空气中进行不同温度的退火处理。我们利用原子力量微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射仪(XRD)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对SiO2膜进行了测试分析。当退火温度达到1400℃时,SiO2膜致密均匀,适合用作波导的下包层。
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关键词
硅衬底
光波导
SIO2膜
退火处理
下包层材料
淀积
火焰水解
光通信
波分复用系统
二氧化硅膜
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职称材料
题名
火焰水解淀积Si02膜的退火研究
1
作者
张乐天
王昕
吴远大
邢华
李爱武
郑伟
张玉书
机构
吉林大学集成光电子国家重点实验室
吉林大学文学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第0Z2期239-243,共5页
文摘
本文采用火焰水解法在Si衬底上淀积了用于光波导下包层材料的SiO2膜,然后将其放入高温炉在空气中进行不同温度的退火处理。我们利用原子力量微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射仪(XRD)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对SiO2膜进行了测试分析。当退火温度达到1400℃时,SiO2膜致密均匀,适合用作波导的下包层。
关键词
硅衬底
光波导
SIO2膜
退火处理
下包层材料
淀积
火焰水解
光通信
波分复用系统
二氧化硅膜
分类号
TN252 [电子电信—物理电子学]
TN929. [电子电信—通信与信息系统]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
火焰水解淀积Si02膜的退火研究
张乐天
王昕
吴远大
邢华
李爱武
郑伟
张玉书
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
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