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火焰水解淀积Si02膜的退火研究
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作者 张乐天 王昕 +4 位作者 吴远大 邢华 李爱武 郑伟 张玉书 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第0Z2期239-243,共5页
本文采用火焰水解法在Si衬底上淀积了用于光波导下包层材料的SiO2膜,然后将其放入高温炉在空气中进行不同温度的退火处理。我们利用原子力量微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射仪(XRD)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对... 本文采用火焰水解法在Si衬底上淀积了用于光波导下包层材料的SiO2膜,然后将其放入高温炉在空气中进行不同温度的退火处理。我们利用原子力量微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射仪(XRD)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对SiO2膜进行了测试分析。当退火温度达到1400℃时,SiO2膜致密均匀,适合用作波导的下包层。 展开更多
关键词 硅衬底 光波导 SIO2膜 退火处理 下包层材料 淀积 火焰水解 光通信 波分复用系统 二氧化硅膜
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