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面向三重版图曝光约束的详细布线算法
1
作者
梁小宇
孙若涵
+1 位作者
徐宁
张亚东
《计算机辅助设计与图形学学报》
EI
CSCD
北大核心
2024年第4期575-581,共7页
在进一步缩小特征尺寸的问题上,三重版图曝光技术(triplepatterninglithography,TPL)发挥着重要的作用.针对TPL中的版图分解问题,提出了一种基于TPL约束的详细布线算法.将版图分解问题转化为满足同色间距约束和最小间距约束的详细布线问...
在进一步缩小特征尺寸的问题上,三重版图曝光技术(triplepatterninglithography,TPL)发挥着重要的作用.针对TPL中的版图分解问题,提出了一种基于TPL约束的详细布线算法.将版图分解问题转化为满足同色间距约束和最小间距约束的详细布线问题,使用网格编码的方法来满足2种间距约束;利用与2种间距约束相结合的Hannan网格来提升布线资源的利用率以及布线的速度;结合多源迪杰斯特拉算法进行多端线网的最短路径搜索;最后将布线结果进行版图分解,实现最小化冲突数量和缝合点数量的目标.算法在2.20 GHzCPU和32 GB内存的Ubuntu20.04环境下运行,使用2018年ISPD详细布线比赛的测试集.实验结果表明,与普通详细布线相比,可降低约60%的冲突数量以及70%的缝合点数量.
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关键词
三重版图曝光
版
图
分解
详细布线
缝合点
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职称材料
题名
面向三重版图曝光约束的详细布线算法
1
作者
梁小宇
孙若涵
徐宁
张亚东
机构
武汉理工大学信息工程学院
北京华大九天科技股份有限公司
出处
《计算机辅助设计与图形学学报》
EI
CSCD
北大核心
2024年第4期575-581,共7页
基金
科技创新2030——“新一代人工智能”重大项目(2021ZD0114600)。
文摘
在进一步缩小特征尺寸的问题上,三重版图曝光技术(triplepatterninglithography,TPL)发挥着重要的作用.针对TPL中的版图分解问题,提出了一种基于TPL约束的详细布线算法.将版图分解问题转化为满足同色间距约束和最小间距约束的详细布线问题,使用网格编码的方法来满足2种间距约束;利用与2种间距约束相结合的Hannan网格来提升布线资源的利用率以及布线的速度;结合多源迪杰斯特拉算法进行多端线网的最短路径搜索;最后将布线结果进行版图分解,实现最小化冲突数量和缝合点数量的目标.算法在2.20 GHzCPU和32 GB内存的Ubuntu20.04环境下运行,使用2018年ISPD详细布线比赛的测试集.实验结果表明,与普通详细布线相比,可降低约60%的冲突数量以及70%的缝合点数量.
关键词
三重版图曝光
版
图
分解
详细布线
缝合点
Keywords
triple pattern lithography
layout decomposition
detail routing
stitch
分类号
TP391.41 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
面向三重版图曝光约束的详细布线算法
梁小宇
孙若涵
徐宁
张亚东
《计算机辅助设计与图形学学报》
EI
CSCD
北大核心
2024
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