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AlCl_3催化1,1,1-三甲基-2,2,2-三氯二硅烷裂解的理论研究 被引量:3
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作者 徐文媛 龙威 +2 位作者 杜瑞焕 郝伟 李敏 《郑州大学学报(理学版)》 CAS 北大核心 2012年第1期96-101,共6页
结合采用DFT(B3LYP)及二级微扰方法对AlCl3催化1,1,1-三甲基-2,2,2-三氯二硅烷裂解反应的机理进行了研究.通过计算数据结果表明,此裂解反应为放热反应,理论产率比较高.反应可以同时按2种通道进行,其中通道2反应较为容易,其3步反应的焓... 结合采用DFT(B3LYP)及二级微扰方法对AlCl3催化1,1,1-三甲基-2,2,2-三氯二硅烷裂解反应的机理进行了研究.通过计算数据结果表明,此裂解反应为放热反应,理论产率比较高.反应可以同时按2种通道进行,其中通道2反应较为容易,其3步反应的焓变依次为:ΔH1(86.963 kJ.mol-1),ΔH2(-237.596 kJ.mol-1),ΔH3(-127.568 kJ.mol-1).通道2的各步正反应活化能数值表明,第3步为速控步,其正反应的活化能E3为214.913 kJ.mol-1. 展开更多
关键词 1 1 1-三甲基-2 2 2-三氯 理论研究 反应机理
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炉温对化学气相沉积SiC涂层组成及显微结构的影响 被引量:5
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作者 刘荣军 周新贵 +1 位作者 张长瑞 曹英斌 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期23-26,共4页
采用SEM、EDX、XRD测试手段对沉积炉壁产物进行了分析,结果表明:低温区沉积的SiC涂层全为β SiC;高温区SiC涂层中含有少量的游离态Si和α SiC;高温区SiC颗粒的形核和生长速率大于低温区;所以温度是影响化学气相沉积SiC涂层组成及显微结... 采用SEM、EDX、XRD测试手段对沉积炉壁产物进行了分析,结果表明:低温区沉积的SiC涂层全为β SiC;高温区SiC涂层中含有少量的游离态Si和α SiC;高温区SiC颗粒的形核和生长速率大于低温区;所以温度是影响化学气相沉积SiC涂层组成及显微结构的主要因素。 展开更多
关键词 涂层组成 显微结构 炉温梯度 化学气相沉积 SIC涂层 碳化陶瓷材料 三氯甲基硅烷
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Chemical vapor deposition of SiC at different molar ratios of hydrogen to methyltrichlorosilane 被引量:1
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作者 杨艳 张伟刚 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2009年第5期730-737,共8页
Chemical vapor deposition(CVD) of SiC from methyltrichlorosilane(MTS) was studied at two different molar ratios of H2 to MTS(n(H2) /n(MTS) ) . The total pressure was kept as 100 kPa and the temperature was varied from... Chemical vapor deposition(CVD) of SiC from methyltrichlorosilane(MTS) was studied at two different molar ratios of H2 to MTS(n(H2) /n(MTS) ) . The total pressure was kept as 100 kPa and the temperature was varied from 850 to 1 100 ℃ at a total residence time of 1 s. Steady-state deposition rates as functions of reactor length and of temperature,investigated at different n(H2) /n(MTS) values,show that hydrogen exhibits strongly influences on the deposition rate. Especially,the deposition of Si co-deposit can be obtained in broader substrate length and at higher temperatures with increasing hydrogen partial pressure. Influence of hydrogen on the deposition process was also studied using gas phase composition and deposit composition analysis at various n(H2) /n(MTS) . SEM micrographs directly show the variation of surface morphologies at various n(H2) /n(MTS) . It can be found that the crystal grain of the deposit at 1 100 ℃ is better developed and the crystallization is also improved with increasing n(H2) /n(MTS) . 展开更多
关键词 METHYLTRICHLOROSILANE silicon carbide H2 MTS
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