三氧化钨薄膜的红外发射率调制技术 被引量：4

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作者 路远 冯万鼎 乔亚 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2011年第7期1221-1224,共4页

研究了利用载流子对材料表面的红外发射率进行调制的方法。根据电磁波理论,讨论了物体表面的发射率与折射率的关系,折射率大的物体发射率低。物质的折射率与其中的载流子浓度有关,通过控制载流子的浓度可以对材料的发射率进行调制。以... 研究了利用载流子对材料表面的红外发射率进行调制的方法。根据电磁波理论,讨论了物体表面的发射率与折射率的关系,折射率大的物体发射率低。物质的折射率与其中的载流子浓度有关,通过控制载流子的浓度可以对材料的发射率进行调制。以磁控溅射方法在ITO玻璃上制备了氧化钨薄膜。利用电化学方法对三氧化钨薄膜进行了H+离子和电子的注入和抽取,此薄膜中载流子的浓度发生了变化。在着色态,三氧化钨薄膜具有较高的光谱反射率;在褪色态,三氧化钨薄膜具有较低的光谱反射率。结果表明,通过控制材料中载流子的浓度可以对材料的红外发射率进行调制。 展开更多

关键词 红外发射率 折射率 调制 三氧化钨薄膜

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三氧化钨薄膜表面分子结构空间形态的AFM研究

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作者 韩贤武 苏小平 +2 位作者 杨学恒 刘安平 徐艳 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第F11期335-337,共3页

详细介绍了一种高精度原子力显微镜AFM.IPC-208B的结构与性能以及三氧化钨溶胶-凝胶掺铂薄膜和三氧化钨磁控离子溅射掺铂薄膜的制备。利用AFM.IPC-208B研究了2种三氧化钨晶化薄膜表面的分子结构,并对其X射线衍射谱进行了分析。结果发现... 详细介绍了一种高精度原子力显微镜AFM.IPC-208B的结构与性能以及三氧化钨溶胶-凝胶掺铂薄膜和三氧化钨磁控离子溅射掺铂薄膜的制备。利用AFM.IPC-208B研究了2种三氧化钨晶化薄膜表面的分子结构,并对其X射线衍射谱进行了分析。结果发现,磁控溅射三氧化钨掺铂复合薄膜在400℃下晶化,(106)面为其自然生长面,自然生长面上含有3个钨离子,7个氧离子(或2个钨离子,8个氧离子),分别位于4个相连的四边形的顶点,晶格常数为0.35±0.05nm,1.35±0.05nm;三氧化钨溶胶-凝胶掺铂复合薄膜经460℃热处理后晶化,自然生长面为(002)面,在(002)面上有5个离子,4个氧离子位居四边形的顶点,钨离子处于四边形的中心,氧离子间距为0.55±0.05 nm,晶格常数为0.75±0.05nm。同时,原子力显微镜图像所测得各晶格常数得到了X射线衍射谱的验证。 展开更多

关键词 AFM 三氧化钨晶化薄膜 X射线衍射谱 分子结构

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添加聚乙烯醇改善三氧化钨电致变色薄膜性能的研究 被引量：3

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作者 姚妍 马立群 +2 位作者 丁毅 王琳瑛 杨猛 《无机盐工业》 CAS 北大核心 2009年第8期30-32,共3页

为改善三氧化钨薄膜的电致变色性能,采用钨粉过氧化聚钨酸溶胶-凝胶法制备了添加聚乙烯醇的三氧化钨电致变色薄膜。采用扫描电镜、紫外可见分光光度计和CH I电化学工作站分别测定和分析了三氧化钨薄膜的微观结构、光透过性能和循环伏安... 为改善三氧化钨薄膜的电致变色性能,采用钨粉过氧化聚钨酸溶胶-凝胶法制备了添加聚乙烯醇的三氧化钨电致变色薄膜。采用扫描电镜、紫外可见分光光度计和CH I电化学工作站分别测定和分析了三氧化钨薄膜的微观结构、光透过性能和循环伏安特性。结果表明,添加一定量的聚乙烯醇可使薄膜的结构更加平整,变色更为均匀;在着色态、褪色态下的光透过率之差达到60%以上,变色可调范围变大。电致变色可逆性能和光谱性能较不添加聚乙烯醇有所提高。 展开更多

关键词 溶胶-凝胶 三氧化钨薄膜 聚乙烯醇 电致变色

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三氧化钨晶化薄膜的制备及微观结构研究

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作者 白海会 杨学恒 《天津师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2009年第2期35-37,共3页

研究了三氧化钨(WO3)晶化薄膜表面分子结构的AFM表征及X射线衍射谱.结果发现,WO3溶胶掺铂薄膜经460℃热处理后晶化,元胞为正六面体,内含1个WO6八面体,氧离子位居6个面心,钨离子处在体心,晶格常数为(0.75±0.05)nm,自然生长面为002面... 研究了三氧化钨(WO3)晶化薄膜表面分子结构的AFM表征及X射线衍射谱.结果发现,WO3溶胶掺铂薄膜经460℃热处理后晶化,元胞为正六面体,内含1个WO6八面体,氧离子位居6个面心,钨离子处在体心,晶格常数为(0.75±0.05)nm,自然生长面为002面,在002面上的元胞中有5个离子,4个氧离子位居四边形的顶点,钨离子处于中心,氧离子的间距为(0.55±0.05)nm. 展开更多

关键词 AFM 三氧化钨晶化薄膜 X射线衍射谱 分子结构

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煅烧温度对阳极氧化WO_3多孔薄膜的形貌及光电化学性能的影响(英文) 被引量：2

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作者 黄晔 刘昱阳 +1 位作者 李文章 陈启元 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2012年第4期865-870,共6页

采用一步式阶跃电压加压方法,在NH4F/(NH4)2SO4电解质溶液中对W片进行阳极氧化处理制备了WO3多孔薄膜,通过后续热处理温度的控制,制备了性能规律性变化的WO3多孔纳米薄膜材料.用场发射扫描电镜(FE-SEM)、X射线衍射(XRD)分析等手段考察... 采用一步式阶跃电压加压方法,在NH4F/(NH4)2SO4电解质溶液中对W片进行阳极氧化处理制备了WO3多孔薄膜,通过后续热处理温度的控制,制备了性能规律性变化的WO3多孔纳米薄膜材料.用场发射扫描电镜(FE-SEM)、X射线衍射(XRD)分析等手段考察了热处理温度对氧化钨晶体结构和形貌影响的规律,在450°C以下的煅烧温度下,薄膜保持50-100nm孔径;通过对光电化学性质、光催化降解甲基橙动力学行为的研究,考察了不同热处理温度对WO3多孔薄膜光电转换性能影响的规律.研究表明,450°C煅烧处理后的WO3薄膜在500W氙灯光源照射及1.2V偏压下,光电流密度达到5.11mA·cm-2;340及400nm单色光辐射下光电转换效率(IPCE)值分别达到87.4%及22.1%.电化学交流阻抗谱显示,450°C煅烧处理后的WO3薄膜表现出最佳的导电率及最小的界面电荷转移电阻.实验结果证明,高结晶度的多孔结构是WO3薄膜具有高光电转换效率的主要因素,控制热处理温度是实现薄膜具有高孔隙率、完整结晶度、低电阻的重要手段. 展开更多

关键词 三氧化钨多孔薄膜 光电化学性质 光降解 光电转换效率

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热处理对WO_3薄膜光学性质的影响 被引量：6

6

作者 杨晓红 孙彩琴 闫勇彦 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1047-1049,共3页

直流反应磁控溅射法制备了WO3薄膜,薄膜在723K纯N2气中被退火处理。热处理前WO3薄膜为无定形态,热处理后为多晶态。采用透射谱和单谐振子模型获得了薄膜的折射率和消光系数,得到退火前后谐振子能量分别为5.77和5.28eV,色散能为19.9和15.... 直流反应磁控溅射法制备了WO3薄膜,薄膜在723K纯N2气中被退火处理。热处理前WO3薄膜为无定形态,热处理后为多晶态。采用透射谱和单谐振子模型获得了薄膜的折射率和消光系数,得到退火前后谐振子能量分别为5.77和5.28eV,色散能为19.9和15.9eV。分析表明退火前后吸收边附近均表现出间接带隙的两段线性关系,间接带隙分别为3.14和2.96eV,声子能量为32和149meV,退火后带隙减小推测可能是由于退火薄膜晶化,氧填隙粒子导致的带尾态效应消失的结果。 展开更多

关键词 三氧化钨薄膜 退火 光学常数 间接带隙

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Sol-Gel法制备WO_3薄膜的研究 被引量：4

7

作者 徐键 王民权 +1 位作者 张勇 陆杭 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 1998年第5期61-63,共3页

采用络合物ｓｏｌ－ｇｅｌ浸渍提拉法以过钨酸脂的乙醇溶液为先驱物制备出了ＷＯ３薄膜，研究了有机添加剂草酸对膜结构的影响，并对所得薄膜进行了红外光谱、可见光谱和ＳＥＭ等测试和观察。结果表明该法能制得质量好的ＷＯ３薄膜，在... 采用络合物ｓｏｌ－ｇｅｌ浸渍提拉法以过钨酸脂的乙醇溶液为先驱物制备出了ＷＯ３薄膜，研究了有机添加剂草酸对膜结构的影响，并对所得薄膜进行了红外光谱、可见光谱和ＳＥＭ等测试和观察。结果表明该法能制得质量好的ＷＯ３薄膜，在溶液中加入草酸可以有效地控制裂纹扩展。因此在优化工艺条件后将能得到无裂纹的ＷＯ３薄膜。 展开更多

关键词 SOL-GEL法 薄膜 微结构 三氧化钨薄膜

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WO_3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析 被引量：2

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作者 方国家 刘祖黎 姚凯伦 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期139-144,共6页

采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术，在Ｓｉ（１１１）单晶衬底上沉积了 ＷＯｘ薄膜．采用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、喇曼光谱（ＲＳ）、付里叶红外光谱（ＦＴ－ＩＲ）及透射电镜扫描附件（ＳＴＥＭ）对不同条件下沉积的样品进行了结... 采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术，在Ｓｉ（１１１）单晶衬底上沉积了 ＷＯｘ薄膜．采用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、喇曼光谱（ＲＳ）、付里叶红外光谱（ＦＴ－ＩＲ）及透射电镜扫描附件（ＳＴＥＭ）对不同条件下沉积的样品进行了结构分析．结果表明，氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数．在沉积温度３００℃以上及２０Ｐａ氧压下得到了三斜相纳米晶ＷＯ３薄膜． 展开更多

关键词 三氧化钨薄膜 纳米晶 脉冲准分子激光沉积 PLD 结构分析 SI(111)衬底 性能 WO3薄膜 电致变色材料

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WO_3薄膜的显色性和敏感性研究 被引量：5

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作者 陈祥君 邵丙铣 +1 位作者 郑庆平 宗祥福 《功能材料》 EI CAS CSCD 1993年第4期314-318,共5页

本文利用反应离子束溅射技术制备WO_3薄膜,在衬底温度为室温时,溅射制备的薄膜经电子束(?)时,说明它是无定形的。在电化学过程中,氢离子注入WO_3薄膜,使薄膜显示出蓝色,薄膜的电阻率随之降低.这种显色性和敏感性使WO_3薄膜在显示器件和p... 本文利用反应离子束溅射技术制备WO_3薄膜,在衬底温度为室温时,溅射制备的薄膜经电子束(?)时,说明它是无定形的。在电化学过程中,氢离子注入WO_3薄膜,使薄膜显示出蓝色,薄膜的电阻率随之降低.这种显色性和敏感性使WO_3薄膜在显示器件和pH值敏感器件中得到应用。 展开更多

关键词 三氧化钨薄膜 电致显示性 显示器件

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热蒸镀法制备WO_3薄膜及其电致变色性能 被引量：7

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作者 陈中威 强鹏飞 +2 位作者 杨培华 麦文杰 李玲 《暨南大学学报（自然科学与医学版）》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期196-200,共5页

采用热蒸镀法在氟掺杂的锡氧化物（fluorine-doped tin oxide，FTO）导电玻璃衬底上沉积了一层WO3薄膜，运用X线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）等手段对样品进行表征，并运用紫外-可见光谱法表征了薄膜样品... 采用热蒸镀法在氟掺杂的锡氧化物（fluorine-doped tin oxide，FTO）导电玻璃衬底上沉积了一层WO3薄膜，运用X线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）等手段对样品进行表征，并运用紫外-可见光谱法表征了薄膜样品的电致变色性能．结果表明，该氧化钨薄膜在外加电压作用下，从褪色态（＋0.9 V）到着色态（-2.0 V），颜色由淡蓝色变为不透明的深蓝色，光透过率（波长为632.8 nm）由～72％下降为～0％，光学调节幅度高达72％，光密度（optical density，OD）变化量达到3，着色/褪色响应速度分别为30/20 s，循环（-1.8 V/＋0.8 V）30周期后变色性能保持良好，综合性能优于目前文献报道．由于该法制备的氧化钨薄膜电致变色综合性能突出，特别是光密度变化量大，在变色玻璃、智能窗户等环保节能领域将有广泛的应用前景． 展开更多

关键词 三氧化钨薄膜 电致变色 热蒸镀

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薄膜光学理论与膜系设计

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《中国光学》 EI CAS 1999年第3期52-54,共3页

O484.4 99031765电沉积三氧化钨薄膜电致变色及其光电化学性能=Study of electrochromism and photo chemicalperformance of the electrodeposited WO₃ film[刊,中]/徐敏华,苏连永,肖忠党,陆祖宏,韦钰（东南大... O484.4 99031765电沉积三氧化钨薄膜电致变色及其光电化学性能=Study of electrochromism and photo chemicalperformance of the electrodeposited WO₃ film[刊,中]/徐敏华,苏连永,肖忠党,陆祖宏,韦钰（东南大学江苏,南京（210096））//电子元件与材料.—1998,17（1）.-17-19电沉积WO₃ 展开更多

关键词 膜系设计 电致变色 电沉积 非晶薄膜 三氧化钨薄膜 光电化学性能 可逆光致变色 光电子能谱 薄膜显示 物理学报

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基于原位聚合离子液体凝胶的固态电致变色器件的制备及性能研究

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作者 张欣妍 孙洁 +4 位作者 秦军荣 刘艳芳 厉孝广 王鑫 王荣 《化学研究与应用》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期822-828,共7页

本文通过在离子液体BmimPF6中原位热聚合甲基丙烯酸甲酯得到了透明的离子液体凝胶。通过交流阻抗测定,当BmimPF6与甲基丙烯酸甲酯的质量比为5∶1时,离子液体凝胶的导电率为1.33×10-3Scm-1。将通过电化学沉积制得的三氧化钨(WO3)和... 本文通过在离子液体BmimPF6中原位热聚合甲基丙烯酸甲酯得到了透明的离子液体凝胶。通过交流阻抗测定,当BmimPF6与甲基丙烯酸甲酯的质量比为5∶1时,离子液体凝胶的导电率为1.33×10-3Scm-1。将通过电化学沉积制得的三氧化钨(WO3)和普鲁士蓝(PB)修饰FTO电极,与上述离子液体凝胶一起组装得到了全固态的电致变色器件。原位吸收光谱数据显示所制得的电致变色器件,在±2V的工作电压下,具有稳定的电致变色响应,其着色和褪色时间分别为4.5s和4.0s,着色效率达190cm2C-1(λ=660nm)。 展开更多

关键词 离子液体凝胶 电致变色器件 三氧化钨薄膜 普鲁士蓝薄膜

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