期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
2
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
三氧化钨晶化薄膜的制备及微观结构研究
1
作者
白海会
杨学恒
《天津师范大学学报(自然科学版)》
CAS
北大核心
2009年第2期35-37,共3页
研究了三氧化钨(WO3)晶化薄膜表面分子结构的AFM表征及X射线衍射谱.结果发现,WO3溶胶掺铂薄膜经460℃热处理后晶化,元胞为正六面体,内含1个WO6八面体,氧离子位居6个面心,钨离子处在体心,晶格常数为(0.75±0.05)nm,自然生长面为002面...
研究了三氧化钨(WO3)晶化薄膜表面分子结构的AFM表征及X射线衍射谱.结果发现,WO3溶胶掺铂薄膜经460℃热处理后晶化,元胞为正六面体,内含1个WO6八面体,氧离子位居6个面心,钨离子处在体心,晶格常数为(0.75±0.05)nm,自然生长面为002面,在002面上的元胞中有5个离子,4个氧离子位居四边形的顶点,钨离子处于中心,氧离子的间距为(0.55±0.05)nm.
展开更多
关键词
AFM
三氧化钨晶化薄膜
X射线衍射谱
分子结构
在线阅读
下载PDF
职称材料
三氧化钨薄膜表面分子结构空间形态的AFM研究
2
作者
韩贤武
苏小平
+2 位作者
杨学恒
刘安平
徐艳
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第F11期335-337,共3页
详细介绍了一种高精度原子力显微镜AFM.IPC-208B的结构与性能以及三氧化钨溶胶-凝胶掺铂薄膜和三氧化钨磁控离子溅射掺铂薄膜的制备。利用AFM.IPC-208B研究了2种三氧化钨晶化薄膜表面的分子结构,并对其X射线衍射谱进行了分析。结果发现...
详细介绍了一种高精度原子力显微镜AFM.IPC-208B的结构与性能以及三氧化钨溶胶-凝胶掺铂薄膜和三氧化钨磁控离子溅射掺铂薄膜的制备。利用AFM.IPC-208B研究了2种三氧化钨晶化薄膜表面的分子结构,并对其X射线衍射谱进行了分析。结果发现,磁控溅射三氧化钨掺铂复合薄膜在400℃下晶化,(106)面为其自然生长面,自然生长面上含有3个钨离子,7个氧离子(或2个钨离子,8个氧离子),分别位于4个相连的四边形的顶点,晶格常数为0.35±0.05nm,1.35±0.05nm;三氧化钨溶胶-凝胶掺铂复合薄膜经460℃热处理后晶化,自然生长面为(002)面,在(002)面上有5个离子,4个氧离子位居四边形的顶点,钨离子处于四边形的中心,氧离子间距为0.55±0.05 nm,晶格常数为0.75±0.05nm。同时,原子力显微镜图像所测得各晶格常数得到了X射线衍射谱的验证。
展开更多
关键词
AFM
三氧化钨晶化薄膜
X射线衍射谱
分子结构
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
三氧化钨晶化薄膜的制备及微观结构研究
1
作者
白海会
杨学恒
机构
天津师范大学物理与电子信息学院
重庆大学恒瑞纳米技术中心
出处
《天津师范大学学报(自然科学版)》
CAS
北大核心
2009年第2期35-37,共3页
基金
天津师范大学校青年教育基金项目(52LJ75)
文摘
研究了三氧化钨(WO3)晶化薄膜表面分子结构的AFM表征及X射线衍射谱.结果发现,WO3溶胶掺铂薄膜经460℃热处理后晶化,元胞为正六面体,内含1个WO6八面体,氧离子位居6个面心,钨离子处在体心,晶格常数为(0.75±0.05)nm,自然生长面为002面,在002面上的元胞中有5个离子,4个氧离子位居四边形的顶点,钨离子处于中心,氧离子的间距为(0.55±0.05)nm.
关键词
AFM
三氧化钨晶化薄膜
X射线衍射谱
分子结构
Keywords
AFM
WO3 crystal film
XRD spectrum
molecular structure
分类号
O484.5 [理学—固体物理]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
三氧化钨薄膜表面分子结构空间形态的AFM研究
2
作者
韩贤武
苏小平
杨学恒
刘安平
徐艳
机构
重庆大学机械传动国家重点实验室
重庆大学数理学院
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第F11期335-337,共3页
文摘
详细介绍了一种高精度原子力显微镜AFM.IPC-208B的结构与性能以及三氧化钨溶胶-凝胶掺铂薄膜和三氧化钨磁控离子溅射掺铂薄膜的制备。利用AFM.IPC-208B研究了2种三氧化钨晶化薄膜表面的分子结构,并对其X射线衍射谱进行了分析。结果发现,磁控溅射三氧化钨掺铂复合薄膜在400℃下晶化,(106)面为其自然生长面,自然生长面上含有3个钨离子,7个氧离子(或2个钨离子,8个氧离子),分别位于4个相连的四边形的顶点,晶格常数为0.35±0.05nm,1.35±0.05nm;三氧化钨溶胶-凝胶掺铂复合薄膜经460℃热处理后晶化,自然生长面为(002)面,在(002)面上有5个离子,4个氧离子位居四边形的顶点,钨离子处于四边形的中心,氧离子间距为0.55±0.05 nm,晶格常数为0.75±0.05nm。同时,原子力显微镜图像所测得各晶格常数得到了X射线衍射谱的验证。
关键词
AFM
三氧化钨晶化薄膜
X射线衍射谱
分子结构
Keywords
atomic force microscopy, tungsten trioxide crystal film, XRD spectrum, molecular structure.
分类号
O614.613 [理学—无机化学]
O561.1 [理学—原子与分子物理]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
三氧化钨晶化薄膜的制备及微观结构研究
白海会
杨学恒
《天津师范大学学报(自然科学版)》
CAS
北大核心
2009
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
三氧化钨薄膜表面分子结构空间形态的AFM研究
韩贤武
苏小平
杨学恒
刘安平
徐艳
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部