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密闭式热场下<111>晶向Si单晶高晶转生长研究
被引量:
1
1
作者
刘锋
韩焕鹏
+4 位作者
李丹
王世援
吴磊
周传月
莫宇
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期136-139,共4页
在Kayex CG6000单晶炉上采用优化的350 mm密闭式热场,在23~25 r/min高晶转下用直拉法拉制出了Φ76.2~125 mm、n型高阻〈111〉晶向Si单晶,单晶的外形和径向电阻率均匀性良好。对〈111〉晶向Si单晶在高晶转下生长容易出现扭曲变形、棱面...
在Kayex CG6000单晶炉上采用优化的350 mm密闭式热场,在23~25 r/min高晶转下用直拉法拉制出了Φ76.2~125 mm、n型高阻〈111〉晶向Si单晶,单晶的外形和径向电阻率均匀性良好。对〈111〉晶向Si单晶在高晶转下生长容易出现扭曲变形、棱面较宽现象的原因进行了分析。通过添加热屏,加强热场的保温和热屏的隔热作用,及缩小等径生长阶段熔Si液面与热屏间的距离,提高了晶体结晶前沿的温度梯度。从而避免了〈111〉晶向Si单晶的扭曲变形,减小了单晶棱面宽度,同时有利于消除晶体的漩涡缺陷。
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关键词
硅单
晶
〈111〉晶向
直拉法
高
晶
转
密闭式热场
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职称材料
题名
密闭式热场下<111>晶向Si单晶高晶转生长研究
被引量:
1
1
作者
刘锋
韩焕鹏
李丹
王世援
吴磊
周传月
莫宇
机构
中国电子科技集团公司第四十六研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期136-139,共4页
文摘
在Kayex CG6000单晶炉上采用优化的350 mm密闭式热场,在23~25 r/min高晶转下用直拉法拉制出了Φ76.2~125 mm、n型高阻〈111〉晶向Si单晶,单晶的外形和径向电阻率均匀性良好。对〈111〉晶向Si单晶在高晶转下生长容易出现扭曲变形、棱面较宽现象的原因进行了分析。通过添加热屏,加强热场的保温和热屏的隔热作用,及缩小等径生长阶段熔Si液面与热屏间的距离,提高了晶体结晶前沿的温度梯度。从而避免了〈111〉晶向Si单晶的扭曲变形,减小了单晶棱面宽度,同时有利于消除晶体的漩涡缺陷。
关键词
硅单
晶
〈111〉晶向
直拉法
高
晶
转
密闭式热场
Keywords
silicon single crystal
<
111
>-orientation
CZ method
high seed rotation
closed heat system
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
TN304.053 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
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被引量
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1
密闭式热场下<111>晶向Si单晶高晶转生长研究
刘锋
韩焕鹏
李丹
王世援
吴磊
周传月
莫宇
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2011
1
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