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TurboDisc MOCVD设备的理论和应用:流体动力学方法(英文)
1
作者
Li S
Ramer J
+1 位作者
Walker R C
Fabiano P
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第S1期99-102,共4页
报道了EMCORE公司的旋转盘反应器 ,或TurboDisc反应器 ,这是一种带有旋转盘的立式反应器。衬底片放置在高速旋转的盘上并被加热到合适的生长温度。反应物在初始阶段因高速旋转盘的牵引力被竖直向下地泵入 ,然后偏斜形成一个与衬底片托...
报道了EMCORE公司的旋转盘反应器 ,或TurboDisc反应器 ,这是一种带有旋转盘的立式反应器。衬底片放置在高速旋转的盘上并被加热到合适的生长温度。反应物在初始阶段因高速旋转盘的牵引力被竖直向下地泵入 ,然后偏斜形成一个与衬底片托盘平行的流动区域。在“GaNzilla” ,EMCORE公司的一种新型 32 5mm的GaN生产反应器中外延生长了GaN材料。为在蓝宝石衬底上得到高质量的GaN ,采用高的生长压力和高旋转速度 ,可以在这种旋转盘反应器中实现必要的生长条件。还对 p GaN ,InGaN ,InGaN多量子阱 ,以及LED器件进行了类似的实验 ,都能获得最佳的生长条件。
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关键词
ⅲ-v族薄膜材料
MOCVD理论
流体动力学方法
立式旋转盘反应器
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职称材料
题名
TurboDisc MOCVD设备的理论和应用:流体动力学方法(英文)
1
作者
Li S
Ramer J
Walker R C
Fabiano P
机构
EMCORE Corporation
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第S1期99-102,共4页
文摘
报道了EMCORE公司的旋转盘反应器 ,或TurboDisc反应器 ,这是一种带有旋转盘的立式反应器。衬底片放置在高速旋转的盘上并被加热到合适的生长温度。反应物在初始阶段因高速旋转盘的牵引力被竖直向下地泵入 ,然后偏斜形成一个与衬底片托盘平行的流动区域。在“GaNzilla” ,EMCORE公司的一种新型 32 5mm的GaN生产反应器中外延生长了GaN材料。为在蓝宝石衬底上得到高质量的GaN ,采用高的生长压力和高旋转速度 ,可以在这种旋转盘反应器中实现必要的生长条件。还对 p GaN ,InGaN ,InGaN多量子阱 ,以及LED器件进行了类似的实验 ,都能获得最佳的生长条件。
关键词
ⅲ-v族薄膜材料
MOCVD理论
流体动力学方法
立式旋转盘反应器
Keywords
V thin film mater ial
MOCVD theory
fluid dynamics approach
vertical rotating disk reactor
分类号
O482.31 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
TurboDisc MOCVD设备的理论和应用:流体动力学方法(英文)
Li S
Ramer J
Walker R C
Fabiano P
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
0
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