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基于Ⅲ-Ⅴ族材料制备的高效多结太阳电池最新技术进展 被引量:9
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作者 付蕊 陈诺夫 +5 位作者 涂洁磊 化麒麟 白一鸣 弭辙 刘虎 陈吉堃 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期124-128,149,共6页
基于Ⅲ-Ⅴ族材料制备的多结太阳电池由于优越的性能,在空间电源领域和地面聚光方面的应用越来越受到重视。介绍了多结太阳电池的高光电转换效率机理,并从材料选择、结构设计、优化生长工艺等方面讨论了研发Ⅲ-Ⅴ族高效多结太阳电池的实... 基于Ⅲ-Ⅴ族材料制备的多结太阳电池由于优越的性能,在空间电源领域和地面聚光方面的应用越来越受到重视。介绍了多结太阳电池的高光电转换效率机理,并从材料选择、结构设计、优化生长工艺等方面讨论了研发Ⅲ-Ⅴ族高效多结太阳电池的实现方案和最新技术进展。重点探讨了采用GaInNAs(Sb)新材料、倒置生长、半导体键合等技术方法。其中,采用半导体键合技术制备的GaInP/GaAs//GaInAsP/GaInAs四结太阳电池光电转换效率为46%,也是目前实验室最高效率。此外,分析了Ⅲ-Ⅴ族高效多结太阳电池的发展方向,并对其前景进行了展望。 展开更多
关键词 ⅲ-ⅴ族化合物 高效多结太阳电池 半导体键合晶格失配
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III-V族化合物半导体整体多结级连太阳电池——光伏技术的新突破 被引量:6
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作者 陈文浚 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期97-102,共6页
从1954年第一只光电转换效率达到实际应用水平的硅太阳电池在美国贝尔实验室诞生起,光伏技术已有了50多年的发展历史。在上个世纪70年代引发的能源危机刺激下,在空间飞行器能源系统需求的牵引下,这一技术领域内不断取得重要技术突破... 从1954年第一只光电转换效率达到实际应用水平的硅太阳电池在美国贝尔实验室诞生起,光伏技术已有了50多年的发展历史。在上个世纪70年代引发的能源危机刺激下,在空间飞行器能源系统需求的牵引下,这一技术领域内不断取得重要技术突破。晶体硅太阳电池、非晶硅薄膜太阳电池、Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体太阳电池、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体多晶薄膜太阳电池等,越来越多的太阳电池技术日趋成熟。光电转换效率的不断提高及制造成本的持续降低,使今天的光伏技术在空间和地面都得到了越来越广泛的应用。 展开更多
关键词 ⅲ-ⅴ族化合物半导体 晶体硅太阳电池 光伏技术 硅薄膜太阳电池 光电转换效率 美国贝尔实验室 空间飞行器 级连
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Ⅲ-Ⅴ族(含氮化物)合金体系热、动力学计算机辅助分析系统
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作者 张维敬 李长荣 《材料导报》 EI CAS CSCD 2001年第2期3-4,共2页
本项目以Ⅲ-Ⅴ族合金化合物半导体外延生长工艺设计为应用背景,建立了含Al-Ga-In-N-P-As-Sb-C-H等体系的Ⅲ-Ⅴ族合金化合物半导体热力学数据库。该库具有以下特点:①库中的数据都是根据严格的热力学关系,通过对体系中各种热力学性质和... 本项目以Ⅲ-Ⅴ族合金化合物半导体外延生长工艺设计为应用背景,建立了含Al-Ga-In-N-P-As-Sb-C-H等体系的Ⅲ-Ⅴ族合金化合物半导体热力学数据库。该库具有以下特点:①库中的数据都是根据严格的热力学关系,通过对体系中各种热力学性质和相平衡数据进行自洽性评估,而后取得体系中各相的热力学参数。②入库的数据与国际接轨,特别是与国际上热力学数据专门委员会——欧洲热化学学科组(SGTE)的数据相一致,有利于今后的发展和相互之间的交流;③数据库具有允许扩充。 展开更多
关键词 -合金化合物半导体 热力学数据库 外延生长工艺 设计
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Ga_(x)In_(1-x)P氢化物气相外延制备工艺及性能研究进展
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作者 张嵩 程文涛 +4 位作者 王健 程红娟 闫礼 孙科伟 董增印 《半导体技术》 CAS 北大核心 2022年第4期266-273,共8页
对Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体Ga_(x)In_(1-x)P材料的性质、应用和外延工艺的发展进行了简单阐述,重点介绍了Ga_(x)In_(1-x)P材料的氢化物气相外延(HVPE)制备工艺对Ga_(x)In_(1-x)P外延层质量和Ga_(x)In_(1-x)P太阳电池性能的影响,并对国外研... 对Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体Ga_(x)In_(1-x)P材料的性质、应用和外延工艺的发展进行了简单阐述,重点介绍了Ga_(x)In_(1-x)P材料的氢化物气相外延(HVPE)制备工艺对Ga_(x)In_(1-x)P外延层质量和Ga_(x)In_(1-x)P太阳电池性能的影响,并对国外研究中用于制备Ga_(x)In_(1-x)P材料的垂直和水平HVPE结构设计、外延的原理和工艺改进、Ga_(x)In_(1-x)P太阳电池的结构等对外延层质量和相关器件性能的影响进行了评述,总结了近年来HVPE法制备Ga_(x)In_(1-x)P材料在太阳电池领域的研究进展,HVPE有望代替MOCVD而成为Ga_(x)In_(1-x)P的主流制备工艺。最后,对HVPE法制备Ga_(x)In_(1-x)P太阳电池的研究成果和难点以及未来研究的重点进行了总结,并对国内在该领域的研究工作指明了方向。 展开更多
关键词 ⅲ-ⅴ族化合物 Ga_(x)In_(1-x)P 氢化物气相外延(HVPE) 外延层 太阳电池
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晶体材料导热性质的经验方程与预测方法 被引量:1
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作者 吴清仁 奚同庚 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期290-292,共3页
依据现有相关的功能晶体材料导热系数实验数据,寻求了晶体材料导热系数与平均原子密度和平均原子量之间关联的经验方程,并对Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体和碳化物晶体材料给出了经验方程中的常数,从而为这些晶体材料导热性质的预测提供了一... 依据现有相关的功能晶体材料导热系数实验数据,寻求了晶体材料导热系数与平均原子密度和平均原子量之间关联的经验方程,并对Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体和碳化物晶体材料给出了经验方程中的常数,从而为这些晶体材料导热性质的预测提供了一种可靠的方法。 展开更多
关键词 导热系数 平均原子量 平均原子密度 晶体材料 ⅲ-ⅴ族化合物半导体 功能材料
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GaAs/InP异质材料及MESFET器件研究
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作者 陈小红 陈松岩 +3 位作者 张玉清 林爱清 陈丽容 邓彩玲 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期759-763,共5页
用低压金属有机气相外延 (LP MOCVD)在InP衬底上生长出较高质量的GaAs材料 ,并对材料进行Raman、光致发光 (PL)谱的测试分析 ,结果表明在GaAs InP外延层中存在伸张应力致使Raman的LO模式的频率红移 ;PL谱峰较强 ,16K下测到GaAs的特征激... 用低压金属有机气相外延 (LP MOCVD)在InP衬底上生长出较高质量的GaAs材料 ,并对材料进行Raman、光致发光 (PL)谱的测试分析 ,结果表明在GaAs InP外延层中存在伸张应力致使Raman的LO模式的频率红移 ;PL谱峰较强 ,16K下测到GaAs的特征激子峰和杂质相关的激子峰 ,表明了GaAs外延层的晶体质量较好 .以此生长方法制备了金属 半导体场效应晶体管 (MESFET) ,其单位跨导可达 2 0 0ms mm . 展开更多
关键词 MESFET器件 GaAs/InP异质材料 光致发光谱 RAMAN谱 金属-半导体场效应晶体管 ⅲ-ⅴ族化合物半导体材料
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键合技术的研究进展及应用
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作者 王慧 沈光地 +1 位作者 高国 梁庭 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第7期6-10,共5页
晶片直接键合技术是材料集成的一项新工艺,是近年来集成光电子领域的研究热点之一。利用键合技术可以集成晶格或晶向失配的材料,制造传统外延生长技术不能制造的结构和器件。概括介绍了近年来Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料键合技术的最新研... 晶片直接键合技术是材料集成的一项新工艺,是近年来集成光电子领域的研究热点之一。利用键合技术可以集成晶格或晶向失配的材料,制造传统外延生长技术不能制造的结构和器件。概括介绍了近年来Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料键合技术的最新研究进展及其在光电子器件和集成领域的应用。 展开更多
关键词 晶片直接键合 ⅲ-ⅴ族化合物 氮化镓 光电子集成
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MOCVD外延生长AlGaAs组份的在线监测
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作者 王鹏程 徐华伟 +1 位作者 张金龙 宁永强 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期985-990,共6页
利用反射各向异性谱(RAS)和反射谱在线监测了AlxGa1-xAs样品的金属有机化合物汽相淀积(MOCVD)外延生长过程。通过在线监测得到的RAS和反射谱可以敏感地反映出AlxGa1-xAs外延层组份发生的变化,从而优化外延生长工艺。实验表明,反射谱中... 利用反射各向异性谱(RAS)和反射谱在线监测了AlxGa1-xAs样品的金属有机化合物汽相淀积(MOCVD)外延生长过程。通过在线监测得到的RAS和反射谱可以敏感地反映出AlxGa1-xAs外延层组份发生的变化,从而优化外延生长工艺。实验表明,反射谱中的振荡周期可以在线计算组份和生长速率,利用反射谱中的振荡的第一个最小值与Al组份的线性关系,可以确定渐变组份初始值。通过在线计算得到的生长速率和组份与扫描电镜(SEM)和高分辨X射线衍射(HRXRD)测试得到的结果基本吻合。 展开更多
关键词 -半导体化合物 外延生长 金属有机化合物汽相淀积 反射各向异性谱
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美研制出非硅基全门三维晶体管
9
《中国有色冶金》 CAS 2012年第1期34-34,共1页
美国普渡大学和哈佛大学的科学家使用Ⅲ-Ⅴ族化合物砷化镓铟代替硅,研制出全球首款全门三维晶体管,可用于开发出运行速度更快、更高效的集成电路和更轻便、耗电更少的手提电脑。
关键词 晶体管 三维 硅基 ⅲ-ⅴ族化合物 哈佛大学 砷化镓铟 运行速度 集成电路
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