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磁性多层膜的X射线光电子能谱研究 被引量:3
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作者 于广华 赵洪辰 +4 位作者 腾蛟 柴春林 朱逢吾 夏洋 柴淑敏 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 2000年第5期315-318,共4页
用射频 /直流磁控溅射法制备了NiOx/Ni81Fe19和Co/AlOx/Co磁性薄膜。利用X射线光电子能谱研究了NiOx 对Ni81Fe19耦合交换场Hex与NiOx 化学状态的关系以及Co/AlOx/Co磁性薄膜中AlOx 对Co膜的覆盖状况。结果表明 :Hex的大小只与 +2价镍有... 用射频 /直流磁控溅射法制备了NiOx/Ni81Fe19和Co/AlOx/Co磁性薄膜。利用X射线光电子能谱研究了NiOx 对Ni81Fe19耦合交换场Hex与NiOx 化学状态的关系以及Co/AlOx/Co磁性薄膜中AlOx 对Co膜的覆盖状况。结果表明 :Hex的大小只与 +2价镍有关 ,单质镍和 +3价镍对Hex没什么作用 ;在Co/AlOx/Co磁性薄膜中 ,Al层将Co膜完全覆盖所需要的最小厚度为 2 .0nm ,用角分辨XPS测出的Al氧化厚度为 1 展开更多
关键词 氧化铝 ф射线光电子能谱 氧化镍 磁性多层膜
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