电介质表面金属功能图案激光加工技术研究进展

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作者 肖荣诗 魏佳硕 +1 位作者 崔梦雅 黄婷 《航空制造技术》 北大核心 2025年第1期22-35,共14页

电介质表面金属功能图案在航空航天、消费电子、柔性传感等领域的需求日益增长。激光加工作为一种无需掩膜的柔性制造技术,具有加工精度高、非接触式加工、制造效率高等优点,可以在多种电介质表面实现金属功能图案的直接制造,近年来发... 电介质表面金属功能图案在航空航天、消费电子、柔性传感等领域的需求日益增长。激光加工作为一种无需掩膜的柔性制造技术,具有加工精度高、非接触式加工、制造效率高等优点,可以在多种电介质表面实现金属功能图案的直接制造,近年来发展迅速。按照自上而下和自下而上的技术路线,分别概述激光刻蚀、选择性激光烧结、脉冲激光沉积、激光诱导化学液相沉积、激光诱导化学气相沉积、激光辅助化学镀6种激光加工技术的原理和优势,及它们在电介质表面加工金属功能图案的最新研究进展,并总结相应的技术瓶颈和未来发展趋势。 展开更多

关键词 激光加工 金属功能图案 激光刻蚀 选择性激光烧结(SLS) 脉冲激光沉积(PLD) 激光诱导化学液相沉积(LCLD) 激光诱导化学气相沉积(LCVD) 激光辅助化学镀(LEP)

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脉冲激光烧蚀CFRP材料工艺优化 被引量：3

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作者 蔡颂 宋金潮 +4 位作者 王遥遥 陈达 邓凯 汤迎红 李琦 《激光技术》 CSCD 北大核心 2024年第1期83-91,共9页

为了研究20 W纳秒激光对碳纤维复合材料(CFRP)烧蚀的工艺质量,采用单因素实验方法及光切法进行了理论分析和实验验证,得到了扫描速率、峰值功率、离焦量对材料表面加工质量的影响规律,并对0.5 mm CFRP材料板进行了烧蚀实验。结果表明,... 为了研究20 W纳秒激光对碳纤维复合材料(CFRP)烧蚀的工艺质量,采用单因素实验方法及光切法进行了理论分析和实验验证,得到了扫描速率、峰值功率、离焦量对材料表面加工质量的影响规律,并对0.5 mm CFRP材料板进行了烧蚀实验。结果表明,调整激光器的离焦量,让激光的焦点与材料平面在同一高度,可使扫描线宽最小,减少了材料烧蚀的热影响区,提高了激光能量利用率;设定激光扫描速率为220 mm/s和峰值功率为10 W,可得到大小为3.50μm的CFRP最小表面粗糙度平均值,其中粗糙度数据稳定性样本方差最佳,约为0.133μm 2,在此条件下可得到良好的加工表现。此研究为脉冲激光加工CFRP材料工艺研究提供一定参考,并为脉冲激光加工复合材料工艺应用打下了一定的实践基础。 展开更多

关键词 激光技术 碳纤维复合材料 脉冲激光 激光烧蚀 加工工艺

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基于脉冲激光的发射药参数快速检测方法 被引量：1

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作者 吴清潮 吴坚 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2024年第2期171-179,共9页

为了验证基于脉冲激光作用的发射药能量性能参数快速测量方法的有效性,采用实验方法研究了脉冲激光作用下单、双、三基发射药和单晶冰糖的冲击波及等离子体特性,得到了激光参数对脉冲激光作用过程的影响规律以及单基发射药与单晶冰糖的... 为了验证基于脉冲激光作用的发射药能量性能参数快速测量方法的有效性,采用实验方法研究了脉冲激光作用下单、双、三基发射药和单晶冰糖的冲击波及等离子体特性,得到了激光参数对脉冲激光作用过程的影响规律以及单基发射药与单晶冰糖的冲击波、等离子体图像差异。结果表明,单基发射药的冲击波及等离子体膨胀特性主要受其化学反应释能的影响,而冰糖主要受激光辐照度的影响;采用支持向量机回归算法,建立了单、双、三基发射药激光作用下的冲击波特征速度与其火药力、爆热、爆温的线性定标模型,得到的决定系数R^(2)值分别为0.9912、0.9998、0.9999。该方法对发射药火药力、爆热及爆温有较好的预测能力,为脉冲激光与含能材料作用的研究提供了参考。 展开更多

关键词 激光技术 快速检测 脉冲激光作用 发射药 冲击波

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脉冲激光沉积法沉积类金刚石薄膜的实验研究 被引量：6

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作者 罗乐 赵读亮 +3 位作者 储雅琼 汪毅 马跃 陶汝华 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第6期759-763,共5页

为了研究脉冲激光沉积法中衬底温度和距离对类金刚石薄膜的影响,首先温度保持在200℃,靶和衬底间的距离分别取25.0 mm和30.0 mm来沉积类金刚石膜。其次温度保持在400℃,距离分别取25.0 mm和30.0 mm来沉积类金刚石膜。用Raman光谱仪对薄... 为了研究脉冲激光沉积法中衬底温度和距离对类金刚石薄膜的影响,首先温度保持在200℃,靶和衬底间的距离分别取25.0 mm和30.0 mm来沉积类金刚石膜。其次温度保持在400℃,距离分别取25.0 mm和30.0 mm来沉积类金刚石膜。用Raman光谱仪对薄膜的微观结构进行检测,用原子力显微镜对薄膜的表面形貌进行检测。实验结果表明:距离增加或者温度升高都会导致类金刚石薄膜的密度和sp^3/sp^2的比值减小,薄膜中石墨晶粒的数量增多和体积增大。近距离时温度的变化和低温时距离的变化对薄膜微观结构产生的影响更明显。距离和温度的变化对类金刚石薄膜的表面形貌也产生显著的影响。 展开更多

关键词 激光技术 脉冲激光沉积法 类金刚石薄膜 微观结构 表面形貌

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脉冲激光烧蚀Ge产生等离子体特性的数值模拟 被引量：6

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作者 许媛 吴东江 刘悦 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第9期1561-1566,共6页

针对激光烧蚀半导体材料Ge初期的特点,建立了1维的热传导和流体动力学模型。对波长为248 nm、脉宽为17 ns、峰值功率密度为4×108W/cm2的KrF脉冲激光在133.32 Pa氦气环境下烧蚀Ge产生等离子体的特性进行了数值模拟。结果表明:单个... 针对激光烧蚀半导体材料Ge初期的特点,建立了1维的热传导和流体动力学模型。对波长为248 nm、脉宽为17 ns、峰值功率密度为4×108W/cm2的KrF脉冲激光在133.32 Pa氦气环境下烧蚀Ge产生等离子体的特性进行了数值模拟。结果表明:单个激光脉冲对靶的烧蚀深度达到55 nm,蒸气膨胀前端由于压缩背景气体产生压缩冲击波,波前的速度最大,温度很高。从不同时刻的电离率分布图中得出,在靶面附近区域,Ge的1阶电离始终占优势;在中心区域,脉冲作用时间内,Ge的2阶电离率比1阶电离率大,脉冲结束后,Ge的2阶电离率下降,1阶电离率逐渐变大。 展开更多

关键词 脉冲激光沉积 脉冲激光烧蚀 等离子体 晶体锗

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脉冲激光沉积法制备ZnO基薄膜研究进展 被引量：12

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作者 董伟伟 陶汝华 方晓东 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期1-9,共9页

作为一种新型的Ⅱ-Ⅵ半导体材料, ZnO具有优良的光学和电学性能,在紫外光发射器件、自旋功能器件、气体探测器、表面声波器件等领域有着广阔的应用前景。首先介绍了ZnO材料和脉冲激光溅射法的一些相关内容,然后从材料制备角度着重阐述... 作为一种新型的Ⅱ-Ⅵ半导体材料, ZnO具有优良的光学和电学性能,在紫外光发射器件、自旋功能器件、气体探测器、表面声波器件等领域有着广阔的应用前景。首先介绍了ZnO材料和脉冲激光溅射法的一些相关内容,然后从材料制备角度着重阐述了目前利用脉冲激光沉积法(PLD)制备ZnO基薄膜的若干重要研究方向,例如p型掺杂、 p-n结的制备、 Mg掺杂、 Cd掺杂和磁性离子掺杂等。 展开更多

关键词 激光技术 半导体材料 脉冲激光沉积法 ZnO基薄膜

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短脉冲XeCl激光动力学模型及辉光抽运设计 被引量：4

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作者 任韧 陈长乐 +5 位作者 朱世华 徐进 金克新 王永仓 袁孝 宋宙模 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期434-437,448,共5页

以薄膜沉积、外延生长及后续的光刻、激光与物质的相互作用、等离子体研究为目的 ,研究了XeCl动力学模型及辉光实现。采用辉光脉冲放电方法 ,实现了激光输出 ,根据动力学方程、XeCl激光四能级模型 ,计算了Xe Cl反应速率及密度。结果表... 以薄膜沉积、外延生长及后续的光刻、激光与物质的相互作用、等离子体研究为目的 ,研究了XeCl动力学模型及辉光实现。采用辉光脉冲放电方法 ,实现了激光输出 ,根据动力学方程、XeCl激光四能级模型 ,计算了Xe Cl反应速率及密度。结果表明 ,辉光放电稳定 ,激光脉宽短 ,功率高 ,辉光放电体积大 ,激光脉宽 18ns,单脉冲能量4 5 0mJ ,矩形光斑 2cm× 1cm ,束散角 3mrad。动力学分析和系统模型成立 。 展开更多

关键词 XECL准分子激光 纳秒放电 脉冲激光沉积技术 辉光放电

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短脉冲激光微孔制备的双脉冲方法研究 被引量：6

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作者 王晓东 MICHALOWSKI Andreas +1 位作者 DAUSINGER Friedrich 刘劲松 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期283-286,共4页

为了提高纳秒短脉冲激光微孔制备的加工效率,采用了一种新颖的双脉冲方法。通过时域脉冲塑形将调 Q激光器产生的普通纳秒脉冲变换为具有几十纳秒脉冲时间间隔的双脉冲序列。使用这种双脉冲序列对不锈钢试件进行打孔实验,与传统单脉冲打... 为了提高纳秒短脉冲激光微孔制备的加工效率,采用了一种新颖的双脉冲方法。通过时域脉冲塑形将调 Q激光器产生的普通纳秒脉冲变换为具有几十纳秒脉冲时间间隔的双脉冲序列。使用这种双脉冲序列对不锈钢试件进行打孔实验,与传统单脉冲打孔结果对比发现,在一定条件下双脉冲序列能将打孔烧蚀率提高一个数量级以上。实验中研究了脉冲能量、重复频率以及环境气体压力对双脉冲序列烧蚀率的影响,并将脉冲烧蚀率提高的原因归结为材料预加热、材料溶液的加速以及瞬时准真空环境,对各种机制分别进行了讨论。结果表明,采用双脉冲方法替代普通单脉冲进行金属打孔,可以在相同能量密度,相同脉冲重复频率的情况下大幅度提高脉冲烧蚀率,为高效激光微孔制备提供了新方法。 展开更多

关键词 激光技术 激光打孔 双脉冲 脉冲塑形 烧蚀率

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脉冲激光烧蚀金属氧化物的物理化学过程及反应机理 被引量：4

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作者 党海军 秦启宗 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期216-223,共8页

本文回顾了前人有关脉冲激光烧蚀过程的各种理论模型,重点综述了脉冲激光烧蚀金属氧化物的物 理化学过程及反应机理,并对激光能量不很高时金属氧化物的烧蚀过程提出了热控制机制的新观点。

关键词 脉冲激光 烧蚀 金属氧化物 反应机理 热控制

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基于类金刚石沉积的短脉宽XeCl激光设计及脉宽分析 被引量：1

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作者 任韧 陈长乐 +6 位作者 徐进 金克新 王永仓 王跃龙 汪世林 宋宙模 袁孝 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期601-605,共5页

在气体配比HCl:Xe:He=0.12％:1％:98.88％实现了大功率短脉冲XeCl准分子激光器,以纳米异质结构、微观量子阱、表面微小尺度薄膜沉积,镀制金刚石薄膜、半导体薄膜、巨磁薄膜,及外延生长及后续的光刻、激光与物质的相互作用、等离子体研... 在气体配比HCl:Xe:He=0.12％:1％:98.88％实现了大功率短脉冲XeCl准分子激光器,以纳米异质结构、微观量子阱、表面微小尺度薄膜沉积,镀制金刚石薄膜、半导体薄膜、巨磁薄膜,及外延生长及后续的光刻、激光与物质的相互作用、等离子体研究为目的,设计了高能量、短脉宽脉冲放电激励的XeCl准分子激光器新型结构,完成了脉冲波形测试。试验结果表明:激光脉宽最短13ns,单脉冲能量450mJ,矩形光斑大小2cm×1cm,束散角3mrad,最高重复频率5 Hz。验证了激光器结构、动力学速率方程、总结出了饱和增益、脉宽规律。产生的短脉宽激光热融蚀效应小,类金钢石材料对基底形成了良好的等离子溅射羽辉。 展开更多

关键词 激光技术 XECL激光 纳秒放电 脉冲激光沉积技术 预电离 辉光放电

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激光脉冲能量对激光烧蚀保护气体电离的影响 被引量：1

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作者 李尊营 英海燕 宋一中 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期654-656,共3页

用Ar气作保护气体 ,气压保持在一个标准大气压 ,用Nd :YAG脉冲激光烧蚀Al靶获得等离子体。利用时空分辨技术 ,采集了激光脉冲能量在 5 2 ,92 ,115和 14 5mJ情况下等离子体辐射的时空分辨谱。详细描述了 115mJ时等离子体的辐射特征 ,简... 用Ar气作保护气体 ,气压保持在一个标准大气压 ,用Nd :YAG脉冲激光烧蚀Al靶获得等离子体。利用时空分辨技术 ,采集了激光脉冲能量在 5 2 ,92 ,115和 14 5mJ情况下等离子体辐射的时空分辨谱。详细描述了 115mJ时等离子体的辐射特征 ,简要分析了其他脉冲能量下Ar的特征辐射规律。根据这些脉冲能量下Ar+ 特征谱线的分布规律 ,简要论述了Ar气体电离与激光脉冲能量的关系。讨论了环境气体电离机制 ,并对结果进行了简单解释。结果发现 ,在本实验采用的能量范围内 ,较高的脉冲能量更容易使环境气体电离 ,产生较强的Ar+ 离子辐射 ,且Ar+ 辐射持续时间较长。 展开更多

关键词 激光脉冲能量 激光烧蚀沉积技术 气体电离 时空分辨谱 连续辐射 特征谱线

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脉冲激光沉积AZO薄膜及其光学性质研究 被引量：3

12

作者 江超 王又青 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期79-80,共2页

给出了在氧气气氛中利用单束脉冲激光交替作用锌靶和铝靶进行掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜的脉冲激光沉积(PLD)新方法,分析了该方法的特点与优点,并与利用ZnO陶瓷掺杂靶制备AZO薄膜的方法进行了对比。利用该方法分别在玻璃片和硅片上制... 给出了在氧气气氛中利用单束脉冲激光交替作用锌靶和铝靶进行掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜的脉冲激光沉积(PLD)新方法,分析了该方法的特点与优点,并与利用ZnO陶瓷掺杂靶制备AZO薄膜的方法进行了对比。利用该方法分别在玻璃片和硅片上制备了AZO薄膜,用SEM观察了薄膜的表面型貌,用X射线衍射谱(XRD)研究厂薄膜的结构,最后通过透射光谱分析了制备的透明导电膜在可见光区的透射性能。实验结果表明:利用该方法能够制备出性能优越的AZO功能薄膜。 展开更多

关键词 脉冲激光沉积 AZO薄膜 交替打靶 XRD

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高气压预电离短脉冲XeCl准分子激光产生研究

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作者 任韧 陈长乐 +6 位作者 徐进 朱世华 金克新 任大男 王永仓 袁孝 宋宙模 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期644-647,共4页

研究了在高气压、大体积、泵浦功率1.3959MW·cm-3抽运下,产生的XeCl准分子激光光谱,波段307.7～308.5nm,结果显示有两个谱线峰值307.98和308.19nm,谱线最强的跃迁是B—X跃迁,脉冲宽度11.13ns。在气体配比HCl∶Xe∶He=0.1%∶1%∶98... 研究了在高气压、大体积、泵浦功率1.3959MW·cm-3抽运下,产生的XeCl准分子激光光谱,波段307.7～308.5nm,结果显示有两个谱线峰值307.98和308.19nm,谱线最强的跃迁是B—X跃迁,脉冲宽度11.13ns。在气体配比HCl∶Xe∶He=0.1%∶1%∶98.9%下,采用预电离初始电子,产生稳定辉光放电过程,获得了0.5～5Hz,单脉冲能量450mJ,束散角3mrad,短脉冲的准分子激光。 展开更多

关键词 XeCl^＊准分子激光 紫外预电离 纳秒放电 脉冲激光沉积技术 辉光放电

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利用激光沉积研究镧钼阴极表面发射机制

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作者 郝世明 聂祚仁 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期357-359,409,共4页

为了研究镧钼阴极表面发射机制,采用专为研究阴极设计的与俄歇能谱仪相连的脉冲激光沉积装置制备薄膜阴极。通过测量阴极发射性能和原位分析表面成分(原子数分数),研究了阴极表面元素镧La和氧O变化对阴极发射性能的影响。实验发现随着... 为了研究镧钼阴极表面发射机制,采用专为研究阴极设计的与俄歇能谱仪相连的脉冲激光沉积装置制备薄膜阴极。通过测量阴极发射性能和原位分析表面成分(原子数分数),研究了阴极表面元素镧La和氧O变化对阴极发射性能的影响。实验发现随着阴极表面镧膜变薄,阴极发射性能逐渐减弱;阴极发射性能与表面元素La,O的含量有关,表面层中La/O越高,阴极的发射性能越好。结果表明,传统的单原子层理论无法解释镧钼阴极的发射机制;超额镧在镧钼阴极的发射中起到了关键作用。 展开更多

关键词 激光技术 热电子发射 发射机制 脉冲激光沉积 薄膜

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脉冲激光气相沉积技术现状与进展 被引量：8

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作者 张超 吴卫东 +4 位作者 陈正豪 周岳亮 孙卫国 唐永建 程新路 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第12期73-76,共4页

介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状,着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况。大量研究表明,脉冲激光沉积法是一种最好的制备薄膜的方法之一。

关键词 脉冲激光气相沉积技术 PLD 薄膜制备 电学性能

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脉冲激光沉积中高能量密度激光密度对Cu_2Se热电薄膜成分与性能的影响 被引量：5

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作者 吕艳红 陈吉堃 +3 位作者 DoBELI Max 李宇龙 史迅 陈立东 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期1115-1120,共6页

本工作提出了脉冲激光沉积法生长Cu2Se热电材料薄膜中维持较高的激光切削能量密度对于实现薄膜与靶材成分等比例传输的重要性。使用较高的脉冲激光能量生长的Cu2Se薄膜具有纯的?-相,并具有与靶材相近的化学组分。这主要是因为较高的激... 本工作提出了脉冲激光沉积法生长Cu2Se热电材料薄膜中维持较高的激光切削能量密度对于实现薄膜与靶材成分等比例传输的重要性。使用较高的脉冲激光能量生长的Cu2Se薄膜具有纯的?-相,并具有与靶材相近的化学组分。这主要是因为较高的激光能量可以更加有效地引起等离子体对激光-固体直接作用的屏蔽,这可以使得靶材中的铜和硒元素的激光切削量更加接近靶材的化学计量比。由于硒具有较高的蒸汽压,降低激光能量会加强激光与固体的直接作用,从而更有效地切削硒元素,导致所沉积薄膜中产生铜缺陷。进一步讨论了所使用的氩气背景气体压力对于所生长的Cu2Se薄膜热电性能的影响。当使用高激光能量低背景气体压力时,所生长的薄膜具有最佳的热电性能。 展开更多

关键词 Cu_(2)Se薄膜 脉冲激光沉积 热电 激光能量

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原位XPS分析Al_2O_3作为势垒层的Er_2O_3/Si结构 被引量：2

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作者 高宝龙 买买提热夏提.买买提 +1 位作者 亚森江.吾甫尔 阿布都艾则孜.阿布来提 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第5期394-399,共6页

在超高真空条件下,通过脉冲激光沉积(PLD)技术制作了Er_2O_3/Al_2O_3/Si多层薄膜结构,原位条件下利用X射线光电子能谱(XPS)研究了Al_2O_3作为势垒层的Er_2O_3与Si界面的电子结构。XPS结果表明,Al_2O_3中Al的2p芯能级峰在低、高温退火前... 在超高真空条件下,通过脉冲激光沉积(PLD)技术制作了Er_2O_3/Al_2O_3/Si多层薄膜结构,原位条件下利用X射线光电子能谱(XPS)研究了Al_2O_3作为势垒层的Er_2O_3与Si界面的电子结构。XPS结果表明,Al_2O_3中Al的2p芯能级峰在低、高温退火前后没有变化;Er的4d芯能级峰来自于硅酸铒中的铒,并非全是本征氧化铒薄膜中的铒;衬底硅的芯能级峰在沉积Al_2O_3时没有变化,说明Al_2O_3薄膜从沉积到退火不参与任何反应,与Si界面很稳定;在沉积Er_2O_3薄膜和退火过程中,有硅化物生成,表明Er_2O_3与Si的界面不太稳定,但随着Al_2O_3薄膜厚度的增加,其硅化物中硅的峰强减弱,含量减少,说明势垒层很好地起到了阻挡扩散的作用。 展开更多

关键词 脉冲激光沉积(PLD)技术 Er2O3薄膜 AL2O3薄膜 X射线光电子能谱(XPS) 高K材料

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等离子体辅助脉冲激光沉积和原位掺杂方法制备稀土掺杂GaN薄膜

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作者 高昆 卢意飞 +3 位作者 施立群 孙剑 许宁 吴嘉达 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期155-159,共5页

利用基于双激光束双靶共烧蚀的等离子体辅助脉冲激光沉积的化合物薄膜沉积和原位掺杂方法，制备了稀土Er掺杂和Pr掺杂的GaN薄膜。基质膜层中的Ga和N化合成键形成GaN，其组织结构为六角GaN相，膜层具有良好的可见光至近红外的透光性能。... 利用基于双激光束双靶共烧蚀的等离子体辅助脉冲激光沉积的化合物薄膜沉积和原位掺杂方法，制备了稀土Er掺杂和Pr掺杂的GaN薄膜。基质膜层中的Ga和N化合成键形成GaN，其组织结构为六角GaN相，膜层具有良好的可见光至近红外的透光性能。改变两激光束的重复频率比可以获得0．2％～5％不等的Er或Pr的掺杂浓度，CaN基质的化学成键、组织结构和透光性能没有因稀土的掺入而发生明显的变化。 展开更多

关键词 稀土掺杂氮化镓 原位掺杂 激光烧蚀 等离子体辅助脉冲激光沉积 电子回旋共振微波等离子体

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基于人工神经网络脉冲激光强化镀层形貌预测

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作者 张文博 张群莉 姚建华 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期173-177,共5页

为了探索脉冲激光强化镀层的规律,采用误差反向传播神经网络对脉冲激光参量与镀层形貌(强化层深度、宽度及熔化状态)之间的关系进行建模,并选取带动量的自适应学习率算法对网络进行改进,以增加网络稳定性,提高训练速度与精度。结果表明... 为了探索脉冲激光强化镀层的规律,采用误差反向传播神经网络对脉冲激光参量与镀层形貌(强化层深度、宽度及熔化状态)之间的关系进行建模,并选取带动量的自适应学习率算法对网络进行改进,以增加网络稳定性,提高训练速度与精度。结果表明,该网络模型对激光处理后镀层形貌的预测值与实际值接近,其相对误差在±8.33%以内,可以有效地对激光强化镀层形貌进行预测。该方法为探索脉冲激光强化镀层的规律提供了一条新的途径。 展开更多

关键词 激光技术 人工神经网络模型 脉冲激光强化 化学复合镀

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原位光电子能谱研究La_2O_3/LaAlO_3/Si电子结构

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作者 高宝龙 买买提热夏提.买买提 +1 位作者 亚森江.吾甫尔 阿布都艾则孜.阿布来提 《核电子学与探测技术》 CAS 北大核心 2016年第11期1094-1098,共5页

在超高真空条件下,通过脉冲激光技术沉积La_2O_3/LaAlO_3/Si多层膜结构,原位条件下利用同步辐射光电子能谱研究了LaAlO_3作为势垒层的La_2O_3与Si的界面电子结构。实验结果显示,LaAlO_3中Al的2p峰在沉积和退火前后没有变化;衬底硅的芯... 在超高真空条件下,通过脉冲激光技术沉积La_2O_3/LaAlO_3/Si多层膜结构,原位条件下利用同步辐射光电子能谱研究了LaAlO_3作为势垒层的La_2O_3与Si的界面电子结构。实验结果显示,LaAlO_3中Al的2p峰在沉积和退火前后没有变化;衬底硅的芯能级峰在沉积LaAlO_3时没有变化,但在沉积La_2O_3薄膜和退火过程中,硅峰变弱;O的1S芯能级的峰由多种不用的氧化物薄膜层和反应物中的氧杂化而成。结果表明:LaAlO_3从沉积到退火当中,不参与任何反应,Si与LaAlO_3界面相当稳定;在体系中,阻挡层LaAlO_3起到阻挡硅扩散的作用,进一步表明La_2O_3与硅的界面不太稳定。 展开更多

关键词 脉冲激沉积 LA2O3 LAALO3 光电子能谱

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