用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计 被引量：7

1

作者 尤大伟 黄小刚 +1 位作者 任荆学 李安杰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期451-454,共4页

采用射频宽束离子源进行离子束辅助镀膜可以获得高性能的光学薄膜 ,已越来越得到人们的共识。本文对射频感应线圈的匹配、起弧及三栅离子光学的关键技术进行了重点考虑 ,并获得了稳定运行的高性能离子源。

关键词 宽束 离子源 薄膜制备 光学薄膜 离子束 感应线圈 匹配 射频 镀膜 高性能

在线阅读 下载PDF 职称材料

几种常用光学材料的离子束刻蚀特性研究 被引量：3

2

作者 刘颖 徐德权 +3 位作者 徐向东 周小为 洪义麟 付绍军 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期536-538,553,共4页

利用基于射频离子源的离子束刻蚀装置,分别以氩气、三氟甲烷为工作气体,初步研究了离子能量、束流和加速电压等条件对K9、石英、氧化硅薄膜、氧化铪薄膜这4种常用光学材料和光刻胶的离子束刻蚀特性和反应离子束刻蚀特性的影响.实验结果... 利用基于射频离子源的离子束刻蚀装置,分别以氩气、三氟甲烷为工作气体,初步研究了离子能量、束流和加速电压等条件对K9、石英、氧化硅薄膜、氧化铪薄膜这4种常用光学材料和光刻胶的离子束刻蚀特性和反应离子束刻蚀特性的影响.实验结果表明:以三氟甲烷为工作气体的反应离子束刻蚀,在较低离子能量、束流和加速电压的条件下,就可对氧化硅薄膜和氧化铪薄膜实现较高的刻蚀选择比(分别为2.5∶1和1∶1).并在此基础上,研制出亚微米周期的氧化硅光栅和氧化铪光栅,其中氧化硅光栅线条的侧壁倾角大于85°;氧化铪光栅在1064 nm自准直入射角下的负一级衍射效率高于95%. 展开更多

关键词 离子束刻蚀 射频离子源 选择比 衍射光学元件

在线阅读 下载PDF 职称材料

射频ICP离子源设计研究 被引量：11

3

作者 许沭华 任兆杏 +1 位作者 沈克明 翁坚 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第4期310-312,共3页

本文介绍了射频 (RF)感应耦合等离子体 (ICP)离子源的设计研究。对RFICP的结构、离子流的引出以及离子流的均匀性、中性化和射频匹配网络进行了研究。

关键词 射频ICP 离子源 设计 射频匹配网络 感应耦合等离子体 离子流 均匀性 中性化

在线阅读 下载PDF 职称材料

射频聚焦离子源熔石英高确定去除特性研究 被引量：4

4

作者 惠迎雪 刘卫国 +2 位作者 马占鹏 张进 周顺 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期284-290,共7页

在离子束抛光工艺过程中,材料确定性去除特性对预测光学元件的各工位材料去除量和驻留时间具有极其重要的作用。采用射频离子源对熔石英光学元件的离子束刻蚀特性进行了研究,利用ZYGO激光干涉仪获得准确的去除函数,系统分析了气体流量... 在离子束抛光工艺过程中,材料确定性去除特性对预测光学元件的各工位材料去除量和驻留时间具有极其重要的作用。采用射频离子源对熔石英光学元件的离子束刻蚀特性进行了研究,利用ZYGO激光干涉仪获得准确的去除函数,系统分析了气体流量、屏栅电压、离子束入射角和工作距离等因素对熔石英去除函数的影响,并分析了各单一工艺因素微小扰动时,材料峰值去除率、半高宽和体积去除率的相对变化率。实验结果表明,相同工作真空条件下,工作气体质量流量的微小变化对去除函数影响极小,在典型的工艺条件下,屏栅电压在±5V、离子束入射角±1°、工作距离在±0.5mm范围内变化时,熔石英峰值去除率、体积去除率和峰值半高宽的相对变化均小于5%,去除函数具有较好的确定性和稳定性。 展开更多

关键词 射频离子源 去除函数 离子束抛光 熔石英

在线阅读 下载PDF 职称材料

条形射频源大口径离子束刻蚀机性能(英文) 被引量：2

5

作者 董晓浩 刘颖 +8 位作者 赵飞云 徐德权 徐向东 周银贵 汪啸 姚传荣 洪义麟 付绍军 徐朝银 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期530-535,共6页

针对大尺寸基底往复扫描条形离子束来实现大面积刻蚀的特点,实验测试了基于射频感应耦合等离子体离子源大型离子束刻蚀机的性能.利用法拉第筒扫描探测系统在线测量束流密度,通过控制气体流量、调节加速电压等,得到了纵向束流密度±5... 针对大尺寸基底往复扫描条形离子束来实现大面积刻蚀的特点,实验测试了基于射频感应耦合等离子体离子源大型离子束刻蚀机的性能.利用法拉第筒扫描探测系统在线测量束流密度,通过控制气体流量、调节加速电压等,得到了纵向束流密度±5.3%均匀性的较好结果.刻蚀实验表明40 cm长度范围刻蚀深度均匀性为±5.4%,同时具有较好的束流稳定性.添加束阑,并结合掩模修正束流,会得到更好的束流密度与刻蚀深度均匀性. 展开更多

关键词 离子束刻蚀机 条形射频离子源 束流密度均匀性 束阑 大口径衍射光学元件

在线阅读 下载PDF 职称材料

自制激光离子源射频离子阱质谱仪性能的测试 被引量：1

6

作者 陈立华 林水潮 +1 位作者 王海燕 朱海坤 《厦门大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2000年第3期311-316,共6页

自行研制了一台配置了激光离子源的射频离子阱质谱仪 ,并测试了该仪器的一些主要功能 .测试结果显示 :该仪器不仅能记录激光产生的正负离子的质谱 ,而且能实现离子质量选择存储和囚禁离子的共振射出 .测试结果与理论模拟的结果基本一致 .

关键词 激光离子源 质量选择 射频离子阱质谱仪

在线阅读 下载PDF 职称材料

衬底离子束表面氮化对ZnO薄膜性质的影响

7

作者 朱慧群 丁瑞钦 +1 位作者 姚若河 吴桐庆 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期123-125,共3页

采用射频磁控溅射法在抛光硅片上沉积了一系列ZnO薄膜样品。通过对薄膜样品X射线衍射谱的分析、原子力显微图的观察、吸收光谱和荧光光谱的研究,发现Si衬底的离子束表面氮化对ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性质有重要影响。在衬底... 采用射频磁控溅射法在抛光硅片上沉积了一系列ZnO薄膜样品。通过对薄膜样品X射线衍射谱的分析、原子力显微图的观察、吸收光谱和荧光光谱的研究,发现Si衬底的离子束表面氮化对ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性质有重要影响。在衬底温度为200℃、高纯氩氧比例为3∶1、压强为1.5Pa的条件下,在经离子束表面氮化预处理的Si衬底上溅射沉积的ZnO薄膜,经450℃真空退火,成为高(0002)晶面取向的ZnO薄膜,并具有良好的光学性质。 展开更多

关键词 射频磁控溅射 ZNO薄膜 离子束轰击 衬底表面氮化

在线阅读 下载PDF 职称材料

中子管射频离子源放电特性仿真研究 被引量：3

8

作者 曲婉菊 张天 +1 位作者 姜瀚 乔双 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第11期994-998,共5页

国外射频离子源中子管的中子产额已经达到10^14n/s,明显优于潘宁源中子管。为了深入了解用于中子管射频离子源的放电特性,从射频感应耦合等离子体的放电原理入手,建立用于氢气放电模拟研究的理论模型。设计中子管射频离子源几何结构,运... 国外射频离子源中子管的中子产额已经达到10^14n/s,明显优于潘宁源中子管。为了深入了解用于中子管射频离子源的放电特性,从射频感应耦合等离子体的放电原理入手,建立用于氢气放电模拟研究的理论模型。设计中子管射频离子源几何结构,运用麦克斯韦方程组在理论上推导了等离子体放电过程中影响粒子密度的因素。结合Comsol软件中的二维轴对称的电感耦合等离子体模型,采用单一变量法,通过仿真实验得到了线圈匝间距、线圈匝数、线圈直径、线圈功率和放电气压等参数对H^+密度分布和大小的影响。总结出H+在不同参数下的变化规律,得到了一些有价值的结论,为优化中子管射频离子源的实验参数和结构设计提供重要依据。 展开更多

关键词 中子管 射频离子源 H^+密度 仿真实验

在线阅读 下载PDF 职称材料

用于NPA标定系统的高频离子源研制 被引量：1

9

作者 万林 付宏涛 +3 位作者 袁志凌 汪超 臧临阁 罗小兵 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2019年第5期789-793,共5页

研制了一台用于Neutral Particle Analyzer(NPA)标定系统的高频离子源,对其性能参数进行了实验测量,得到引出束流与高频振荡器板压、引出电压及放电气压之间的特性曲线,对影响引出束流稳定性的原因进行了分析.结果表明:当工作气体为氢气... 研制了一台用于Neutral Particle Analyzer(NPA)标定系统的高频离子源,对其性能参数进行了实验测量,得到引出束流与高频振荡器板压、引出电压及放电气压之间的特性曲线,对影响引出束流稳定性的原因进行了分析.结果表明:当工作气体为氢气,在板压580V、引出电压1600V、聚焦电压1550V和气压9.5×10^-4Pa时,能引出66μA的离子流;在41μA束流条件下,4小时内的束流稳定性优于2.6%,影响束流稳定性的主要因素是放电管内工作气体气压的波动和等离子体温度的升高.此结果可以满足HL-2A/M上NPA系统的标定对离子源的要求. 展开更多

关键词 NPA 高频离子源 束流强度

在线阅读 下载PDF 职称材料

分段线形离子阱中离子的囚禁及微运动补偿 被引量：1

10

作者 潘勇 李海霞 +1 位作者 何胜国 童昕 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期424-431,共8页

设计了一套用于分段线形离子阱囚禁离子及微运动补偿的射频-静电耦合电源电路,实现了钙离子在离子阱中的囚禁.通过CCD相机观察离子发出的荧光确定离子晶体位置。利用离子阱中12段极杆上静态电压的独立控制实现了离子晶体在三维空间中的... 设计了一套用于分段线形离子阱囚禁离子及微运动补偿的射频-静电耦合电源电路,实现了钙离子在离子阱中的囚禁.通过CCD相机观察离子发出的荧光确定离子晶体位置。利用离子阱中12段极杆上静态电压的独立控制实现了离子晶体在三维空间中的精密控制,减小了射频调制的微运动。此离子囚禁系统可进一步确定离子晶体的物理性质,如离子的宏运动频率、离子晶体的温度分布等,并实现多组份离子晶体的囚禁。 展开更多

关键词 原子光学 线形离子阱 微运动补偿 射频电源 程控直流电源

在线阅读 下载PDF 职称材料

大面积射频离子源等离子体激励模拟研究 被引量：1

11

作者 陈俞钱 苏国建 +1 位作者 谢亚红 胡纯栋 《核科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2023年第5期1174-1181,共8页

中性束注入(Neutral Beam Injection,NBI)加热是磁约束核聚变装置中最重要的辅助加热手段之一。大面积强流射频(Radio frequency)离子源是高功率NBI系统的核心部件。为了获得高密度、均匀的等离子体,在单激励器射频离子源研究的基础上... 中性束注入(Neutral Beam Injection,NBI)加热是磁约束核聚变装置中最重要的辅助加热手段之一。大面积强流射频(Radio frequency)离子源是高功率NBI系统的核心部件。为了获得高密度、均匀的等离子体,在单激励器射频离子源研究的基础上对双激励器射频离子源的结构和等离子体激励特性进行了模拟,给出了射频离子源不同结构和参数对等离子体产生的影响,包括射频激励器间距、扩展室深度、射频功率以及放电气压等。研究结果可为大面积射频离子源的研制和多激励器射频负离子源的设计和优化提供支持。 展开更多

关键词 中性束注入 射频离子源 均匀性 模拟分析

在线阅读 下载PDF 职称材料

电感耦合式射频离子源放电与引出特性实验 被引量：1

12

作者 李建鹏 李兴达 张兴民 《科学技术与工程》 北大核心 2019年第22期20-24,共5页

为研究电感耦合式射频离子源性能受离子束流、功率强度、工质流量和栅间电压的影响,以束流直径11 cm射频离子源为对象,完成了射频离子源点火起弧关键物理参数的设计和选择,设计并搭建了电感耦合式射频离子源性能试验系统,通过试验研究... 为研究电感耦合式射频离子源性能受离子束流、功率强度、工质流量和栅间电压的影响,以束流直径11 cm射频离子源为对象,完成了射频离子源点火起弧关键物理参数的设计和选择,设计并搭建了电感耦合式射频离子源性能试验系统,通过试验研究了射频放电中离子束流、射频功率、工质流量、栅间电压之间的规律.结果表明:射频离子源试验系统设计合理,能够可靠稳定地工作,真空度低于1.0×10^-3 Pa的氩工质条件下离子束能量大范围独立可调,在100~1500 eV范围引出80~460 mA的离子束流,当工质流量一定时,离子源离子束流随射频功率的增大以1 mA/W比率增加,射频功率一定时,离子源束流强度随工质流量增大,在20 sccm时,离子源束流强度至稳定值或者略微增加,合理控制离子源工作参数可以提高离子源工作性能和效率. 展开更多

关键词 电感耦合式 射频离子源 设计 离子束流 实验

在线阅读 下载PDF 职称材料

射频电感耦合等离子体在横向磁场中扩散的研究

13

作者 陈浩 雷光玖 +1 位作者 李明 黄丽萍 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2018年第1期105-109,共5页

通过轴向移动朗缪尔探针,考察了外置电磁铁提供的横向磁场对射频感应耦合等离子体(ICP)延轴向扩散过程中的电子温度、离子密度的影响。实验数据表明,与无磁场条件下的结果相比,横向磁场的加入使得扩散区内的电子温度沿轴向迅速下降,研... 通过轴向移动朗缪尔探针,考察了外置电磁铁提供的横向磁场对射频感应耦合等离子体(ICP)延轴向扩散过程中的电子温度、离子密度的影响。实验数据表明,与无磁场条件下的结果相比,横向磁场的加入使得扩散区内的电子温度沿轴向迅速下降,研究了横向磁场对电子的过滤作用。 展开更多

关键词 射频负离子源 等离子体扩散 横向磁场 电子温度 离子密度

在线阅读 下载PDF 职称材料

非对称双曲面线形离子阱的设计及性能研究

14

作者 吴辉 朱雯飞 +3 位作者 葛赛金 张英军 姚如娇 李晓旭 《质谱学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期1145-1155,共11页

为提升离子阱质量分析器的分析性能,本文提出一种非对称双曲面线形离子阱结构,通过优化离子出射方向上x电极的单向拉伸距离Δr_(a),引入合理的非对称射频电场,从而提高离子单向出射效率。利用SIMION和AXSIM模拟软件分析非对称双曲面线... 为提升离子阱质量分析器的分析性能,本文提出一种非对称双曲面线形离子阱结构,通过优化离子出射方向上x电极的单向拉伸距离Δr_(a),引入合理的非对称射频电场,从而提高离子单向出射效率。利用SIMION和AXSIM模拟软件分析非对称双曲面线形离子阱的内部电场分布、离子运动轨迹及模拟质谱图。结果表明,在性能优化的对称双曲面线形离子阱结构的基础上,其中1个x电极单向拉伸Δr_(a)=0.8 mm时,通过优化AC频率和扫描速率等参数,非对称双曲面线形离子阱的离子单向出射率可达90%以上,同时m/z 609离子的质量分辨率超过5100。经优化几何结构后的非对称双曲面线形离子阱可在保证高质量分辨率的情况下,大幅提高离子检测效率,这在小型化质谱仪的开发中具有显著的优势。 展开更多

关键词 非对称双曲面线形离子阱 拉伸 射频电场 离子单向出射 离子探测效率

在线阅读 下载PDF 职称材料

射频负离子源中朗缪尔探针诊断系统研制

15

作者 彭旭峰 许永建 +6 位作者 于玲 刘伟 顾玉明 汪日新 谢亚红 谢远来 胡纯栋 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2022年第3期342-346,共5页

设计了一套朗缪尔探针诊断系统用于射频负离子源中等离子体参数的诊断。在测试平台上对探针进行了测试,获得了探针的V-I特性曲线,由此得到了等离子体的电子密度分布和电子温度分布,并与微波干涉仪(MWI)的测量结果进行了对比,结果表明该... 设计了一套朗缪尔探针诊断系统用于射频负离子源中等离子体参数的诊断。在测试平台上对探针进行了测试,获得了探针的V-I特性曲线,由此得到了等离子体的电子密度分布和电子温度分布,并与微波干涉仪(MWI)的测量结果进行了对比,结果表明该探针的诊断结果可以反映等离子体参数的变化。 展开更多

关键词 射频负离子源 朗缪尔探针 等离子体参数 微波干涉仪

在线阅读 下载PDF 职称材料

高能量离子束诊断质谱仪的研制及性能表征

16

作者 苏海波 谭国斌 +5 位作者 黄正旭 洪义 车欣欣 王攀攀 高伟 周振 《质谱学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第2期153-159,I0006,共8页

本研究开发了一台应用于高能量离子束诊断的直线式飞行时间质谱仪,实现了其与高能真空弧放电离子源的联用。该仪器加速电压30 kV,飞行腔有效飞行距离1.5 m,通过短脉冲离子门精确截取,ICCD高速相机优化聚焦,仪器分辨率优于90 FWHM,对放... 本研究开发了一台应用于高能量离子束诊断的直线式飞行时间质谱仪,实现了其与高能真空弧放电离子源的联用。该仪器加速电压30 kV,飞行腔有效飞行距离1.5 m,通过短脉冲离子门精确截取,ICCD高速相机优化聚焦,仪器分辨率优于90 FWHM,对放电过程中产生的等离子体可实现不同时间的离子成分分析。将该方法用于真空弧放电离子源放电过程中离子成分的检测,放电2μs时,电离成分以气态离子C+、O+、C2+、O2+为主;放电6μs后,除气体成分外,还可以检测到Fe+、Cu+及其同位素金属离子峰。该仪器能够给出离子源放电产生离子的种类、价态以及相对含量等信息,可实现整个放电过程产生离子成分信息的准确诊断。 展开更多

关键词 直线式飞行时间质谱仪 真空弧放电离子源 等离子体 高能离子束诊断

在线阅读 下载PDF 职称材料