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0.2~2.0GHz100W超宽带GaN功率放大器 被引量:1
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作者 张晓帆 银军 +4 位作者 倪涛 余若祺 斛彦生 王辉 高永辉 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第3期252-256,共5页
设计并实现了一款基于0.25μm GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺的100 W超宽带功率放大器。基于SiC无源工艺设计了集成无源器件(IPD)输入预匹配电路芯片;设计了基于陶瓷基片的T型集成输出预匹配电路;基于建立的传输线变压器(TLT)的精确... 设计并实现了一款基于0.25μm GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺的100 W超宽带功率放大器。基于SiC无源工艺设计了集成无源器件(IPD)输入预匹配电路芯片;设计了基于陶瓷基片的T型集成输出预匹配电路;基于建立的传输线变压器(TLT)的精确模型,设计了宽带阻抗变换器,在超宽频带内将50Ω的端口阻抗变换至约12.5Ω,再通过多节微带电路与预匹配后的GaN HEMT芯片实现阻抗匹配。最终,以较小的电路尺寸实现了功率放大器的超宽带性能指标。测试结果表明,功率放大器在0.2~2.0 GHz频带内,在漏极电压36 V、输入功率9 W、连续波的工作条件下,输出功率大于103 W,漏极效率大于50%,输入电压驻波比(VSWR)≤2.5。 展开更多
关键词 gan高电子迁移率功率管(hemt) 功率放大器 集成无源器件(IPD) 超宽带 传输线变压器(TLT)
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用热反射测温技术测量GaNHEMT的瞬态温度 被引量:16
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作者 翟玉卫 梁法国 +2 位作者 郑世棋 刘岩 李盈慧 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期76-80,共5页
利用具备亚微米量级空间分辨率和纳秒级时间分辨率的热反射测温技术对工作在脉冲偏置条件下的CGH4006P型Ga N HEMT进行了瞬态温度检测。测量了Ga N器件表面栅极、漏极和源极金属各部位在20μs内的瞬态温度幅度、分布及变化速度等数据。... 利用具备亚微米量级空间分辨率和纳秒级时间分辨率的热反射测温技术对工作在脉冲偏置条件下的CGH4006P型Ga N HEMT进行了瞬态温度检测。测量了Ga N器件表面栅极、漏极和源极金属各部位在20μs内的瞬态温度幅度、分布及变化速度等数据。栅极、漏极和源极的温度幅度有着非常明显的差距,器件表面以栅为中心呈现较大的温度分布梯度。器件表面栅金属温度变化幅度最高、变化速度最快,其主要温度变化发生在5μs之内。经过仔细分析,器件各部位温度差异的主要原因是器件的传热方向、不同区域与发热点的距离。 展开更多
关键词 热反射测温 氮化镓(gan) 高电子迁移率晶体管(hemt) 瞬态温度 脉冲条件
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基于GaN HEMT的0.8~4 GHz宽带平衡功率放大器 被引量:7
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作者 来晋明 罗嘉 +3 位作者 由利人 杨瑜 赵伟星 彭安尽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期44-48,72,共6页
基于Ga N高电子迁移率晶体管(HEMT)技术,研制了在0.8-4 GHz频率下,输出功率大于50 W的宽带平衡式功率放大器。采用3 d B耦合器电桥构建平衡式功率放大器结构;采用多节阻抗匹配技术设计了输入/输出匹配网络,实现了功率放大器的宽带特性... 基于Ga N高电子迁移率晶体管(HEMT)技术,研制了在0.8-4 GHz频率下,输出功率大于50 W的宽带平衡式功率放大器。采用3 d B耦合器电桥构建平衡式功率放大器结构;采用多节阻抗匹配技术设计了输入/输出匹配网络,实现了功率放大器的宽带特性;采用高介电常数Al2O3基材实现了小型化功率放大器单元;采用热膨胀系数与Si C接近的铜-钼-铜载板作为Ga N HEMT管芯共晶载体,防止功率管芯高温工作过程中因为热膨胀而烧毁。测试结果表明,在0.8-4 GHz频带内,功率放大器功率增益大于6.4 d B,增益平坦度为±1.5 d B,饱和输出功率值大于58.2 W,漏极效率为41%-62%。 展开更多
关键词 氮化镓高电子迁移率晶体管(gan hemt) 宽带功率放大器 平衡功率放大器 宽带匹配 3dB耦合器
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C波段160W连续波GaN HEMT内匹配功率器件研制 被引量:7
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作者 吴家锋 徐全胜 +1 位作者 赵夕彬 银军 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第1期27-31,共5页
基于GaN功率器件工艺自主研发的大栅宽GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)管芯,采用内匹配技术和宽带功率合成技术相结合的方法,研制出了一款C波段160 W连续波GaN HEMT内匹配功率器件。通过优化管芯的结构,设计出了满足连续波使用要求的大功率... 基于GaN功率器件工艺自主研发的大栅宽GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)管芯,采用内匹配技术和宽带功率合成技术相结合的方法,研制出了一款C波段160 W连续波GaN HEMT内匹配功率器件。通过优化管芯的结构,设计出了满足连续波使用要求的大功率GaN管芯,然后进行了内匹配器件的设计,在设计中首先采用负载牵引法进行了器件参数提取,并以此为基础设计了阻抗变换网络进行阻抗变换和功率合成。研制出了工作频率为4.4~5.0 GHz、工作电压32 V、连续波输出功率大于160 W、功率附加效率大于50%、功率增益大于12 dB的GaN HEMT内匹配功率管,具有广阔的工程应用前景。 展开更多
关键词 氮化镓 高电子迁移率晶体管(hemt) 内匹配 功率合成 阻抗变换
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一种L波段300W GaN脉冲功率模块
5
作者 董四华 刘英坤 +1 位作者 高永辉 秦龙 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期555-560,共6页
随着第三代半导体GaN器件技术的不断发展,GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)在电子系统中逐步得到了广泛应用。研制了一款小型化L波段300 W GaN脉冲功率模块。研发了满足高压脉冲工作条件的GaN HEMT芯片,采用负载牵引技术进行了器件大信号阻... 随着第三代半导体GaN器件技术的不断发展,GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)在电子系统中逐步得到了广泛应用。研制了一款小型化L波段300 W GaN脉冲功率模块。研发了满足高压脉冲工作条件的GaN HEMT芯片,采用负载牵引技术进行了器件大信号阻抗参数提取,并以此为基础设计了小型化匹配网络进行阻抗变换。基于高压驱动芯片和开关器件芯片设计了小型化高压脉冲调制电路。测试结果表明,在工作频率990~1130 MHz、工作电压50 V、脉冲宽度100μs、占空比10%下,功率模块脉冲输出功率大于300 W,功率附加效率大于53%,功率增益大于38 dB。功率模块尺寸为30 mm×30 mm×8 mm。 展开更多
关键词 gan高电子迁移率晶体管(hemt) 负载牵引技术 高压脉冲调制 L波段 功率模块
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N极性GaN基HEMT研究进展 被引量:1
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作者 王现彬 赵正平 +1 位作者 房玉龙 冯志红 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第12期881-892,904,共13页
N极性GaN材料借助与传统Ga极性GaN极性相反这一特征,以低接触电阻、高2DEG限阈性,在高频、大功率微波晶体管、增强型器件及传感器等应用方面显示出了极大的优势。首先分析了N极性GaN材料与HEMT器件的特性,指出了其和Ga极性材料与器件的... N极性GaN材料借助与传统Ga极性GaN极性相反这一特征,以低接触电阻、高2DEG限阈性,在高频、大功率微波晶体管、增强型器件及传感器等应用方面显示出了极大的优势。首先分析了N极性GaN材料与HEMT器件的特性,指出了其和Ga极性材料与器件的区别及优势。同时研究了N极性GaN材料的生长、HEMT器件结构及性能发展趋势,分析表明随着材料生长及器件制作工艺水平的逐步提高,N极性GaN材料与HEMT器件性能提升很快。特别是AlN插入层的引入、AlGaN背势垒层Si掺杂及Al组分渐变式处理,结合新型绝缘层、源漏凹槽、自对准与InN/InGaN欧姆再生、长颈T型栅、双凹栅槽等新技术,使N极性GaN HEMT器件小信号特性逐步提高。而MOCVD、MBE工艺在N极性GaN材料生长方面的优化,也促进了N极性GaN HEMT器件在C波段和X波段功率放大应用方面的进一步发展。 展开更多
关键词 gan n极性 ga极性 高电子迁移率晶体管(hemt) Aln插入层
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基于GaN HEMT的宽带线性功率放大器 被引量:4
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作者 沈林泽 杨大宝 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第3期195-199,235,共6页
基于GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)技术,研制了一款工作频率为0.8~1.5 GHz、线性输出功率超过100 W的宽带线性功率放大器。前级功率放大器采用负反馈电路,以提高工作频率带宽和级间匹配性。为改善输出功率的线性化指标,输出级功率放大器... 基于GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)技术,研制了一款工作频率为0.8~1.5 GHz、线性输出功率超过100 W的宽带线性功率放大器。前级功率放大器采用负反馈电路,以提高工作频率带宽和级间匹配性。为改善输出功率的线性化指标,输出级功率放大器采用平衡式电路进行功率合成和匹配,平衡式电路利用90°混合耦合器实现。电路的仿真和优化采用S参数法进行宽带匹配设计。测试结果表明:在0.8~1.5 GHz工作频率内,放大器小信号增益平坦度小于1.3 dB;1 dB增益压缩点输出功率大于100 W,三阶互调失真大于29 dBc,功率附加效率大于40%,实现了宽带、高功率、高效率、高线性度的设计目标。 展开更多
关键词 gan高电子迁移率晶体管(hemt) 功率放大器 宽带 线性化 平衡式电路
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微波、毫米波GaN HEMT与MMIC的新进展 被引量:5
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作者 赵正平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期1-7,共7页
综述了近几年微波、毫米波氮化镓高电子迁移率晶体管(Ga N HEMT)与单片微波集成电路(MMIC)在高效率、宽频带、高功率和先进热管理等方面的应用创新进展。介绍了基于Ga N HEMT器件所具有的高功率密度和高击穿电压,采用波形工程原理设计... 综述了近几年微波、毫米波氮化镓高电子迁移率晶体管(Ga N HEMT)与单片微波集成电路(MMIC)在高效率、宽频带、高功率和先进热管理等方面的应用创新进展。介绍了基于Ga N HEMT器件所具有的高功率密度和高击穿电压,采用波形工程原理设计的各类开关模式的高效率功率放大器,以及基于Ga N HEMT器件的高功率密度、高阻抗的特点与先进的宽带拓扑电路和功率合成技术相结合的宽频带和高功率放大器。详细介绍了微波高端和毫米波段的高效率、宽频带和高功率放大器,多功能电路和多功能集成的Ga N MMIC。最后阐述了由于Ga N HEMT的功率密度是其他半导体器件的数倍,其先进热管理的创新研究也成为热点。 展开更多
关键词 氮化镓高电子迁移率晶体管(gan hemt) 单片微波集成电路(MMIC) 高效率 宽带 高功率 功率放大器 热管理
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金刚石基GaN HEMT技术发展现状和趋势 被引量:4
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作者 赵金霞 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第5期321-328,334,共9页
采用金刚石衬底可显著提升GaN微波功率器件的散热能力,从而制作尺寸更小、功率更高的金刚石基GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件。介绍了金刚石基GaN HEMT技术优势。综述了金刚石基GaN HEMT的金刚石衬底生长、金刚石与GaN HEMT层结合、... 采用金刚石衬底可显著提升GaN微波功率器件的散热能力,从而制作尺寸更小、功率更高的金刚石基GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)器件。介绍了金刚石基GaN HEMT技术优势。综述了金刚石基GaN HEMT的金刚石衬底生长、金刚石与GaN HEMT层结合、金刚石/GaN界面优化等制造技术的研发现状,并概述了金刚石基GaN微波功率器件的最新研究进展。最后分析了金刚石基GaN HEMT制造技术面临的挑战和未来的发展趋势,表明制作低成本大尺寸金刚石衬底材料、提升GaN/金刚石界面热阻以及大幅提升金刚石基GaN器件的性能并在射频功率器件领域实现商用将是未来发展的重点。 展开更多
关键词 金刚石 gan 高电子迁移率晶体管(hemt) 功率器件 制造技术
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具有栅源间本征GaN调制层的AlGaN/GaN HEMT 被引量:1
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作者 陈飞 冯全源 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第9期694-700,共7页
为解决常规AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)因源极电子注入栅极右侧高场区造成的雪崩击穿,并提高器件的击穿电压,提出了一种具有栅源间本征GaN(i-GaN)调制层的新型AlGaN/GaN HEMT结构。新结构器件在反向耐压时将调制层下方部分区域... 为解决常规AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)因源极电子注入栅极右侧高场区造成的雪崩击穿,并提高器件的击穿电压,提出了一种具有栅源间本征GaN(i-GaN)调制层的新型AlGaN/GaN HEMT结构。新结构器件在反向耐压时将调制层下方部分区域的二维电子气(2DEG)完全耗尽,扩展了沟道的夹断区,有效阻止了源极电子向栅极右侧高场区的注入。仿真结果表明,通过设置适当的调制层长度和厚度,器件的击穿电压可从常规结构的862 V提升至新结构的1 086 V,增幅达26%。同时,GaN调制层会微幅增大器件的比导通电阻,对阈值电压也具有一定的提升作用。 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管(hemt) 高场区 雪崩击穿 击穿电压 二维电子气(2DEG)
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电流增益截止频率为236 GHz的InAlN/GaN高频HEMT
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作者 宋旭波 吕元杰 +4 位作者 刘晨 魏碧华 房玉龙 韩婷婷 冯志红 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期275-278,299,共5页
研制了高电流增益截止频率(f_T)的In Al N/Ga N高电子迁移率晶体管(HEMT)。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)再生长n^+GaN非合金欧姆接触工艺将器件源漏间距缩小至600 nm,降低了源、漏寄生电阻,有利于改善器件的寄生效应;使用低压化学... 研制了高电流增益截止频率(f_T)的In Al N/Ga N高电子迁移率晶体管(HEMT)。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)再生长n^+GaN非合金欧姆接触工艺将器件源漏间距缩小至600 nm,降低了源、漏寄生电阻,有利于改善器件的寄生效应;使用低压化学气相沉积(LPCVD)生长SiN作为栅下介质,降低了InAlN/GaN HEMT栅漏电;利用电子束光刻实现了栅长为50 nm的T型栅。此外,还讨论了寄生效应对器件f_T的影响。测试结果表明,器件的栅漏电为3.8μA/mm,饱和电流密度为2.5 A/mm,f_T达到236 GHz。延时分析表明,器件的寄生延时为0.13 ps,在总延时中所占的比例为19%,优于合金欧姆接触工艺的结果。 展开更多
关键词 InAln/gan 高电子迁移率晶体管(hemt) 再生长n+gan欧姆接触 电流增益截止频率 低压化学气相沉积(LPCVD)
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AlGaN/AlN/GaN HEMT结构2DEG的光致发光谱
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作者 唐健 王晓亮 肖红领 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第9期703-706,共4页
AlGaN/GaN HEMT结构材料主要用于研制微电子器件,对其发光性质的研究相对较少。通过对AlGaN/GaN HEMT结构材料的光致发光谱(PL)研究,观测到了AlGaN势垒层中Al组分为40%的AlGaN/AlN/GaN结构中二维电子气(2DEG)光致发光及其能级分裂现象。... AlGaN/GaN HEMT结构材料主要用于研制微电子器件,对其发光性质的研究相对较少。通过对AlGaN/GaN HEMT结构材料的光致发光谱(PL)研究,观测到了AlGaN势垒层中Al组分为40%的AlGaN/AlN/GaN结构中二维电子气(2DEG)光致发光及其能级分裂现象。在4.5 K低温下,其2DEG发光峰在GaN带边峰能量以下30和40 meV处分裂成两个峰位,直至温度持续升高至40 K后消失。根据GaN价带顶部在单轴晶格场和自旋-轨道耦合共同作用下的能级分裂理论,因自旋-轨道耦合引起的2DEG发光峰两个分裂能级差约为10 meV,与实验测得的结果一致,因此实验观测到的2DEG发光峰的分裂现象是由于氮化镓价带能级的自旋-轨道耦合而形成的。 展开更多
关键词 氮化镓 高迁移率晶体管(hemt) 光致发光 二维电子气(2DEG) 能级分裂
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L波段350 W AlGaN/GaN HEMT器件研制 被引量:4
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作者 张力江 默江辉 +3 位作者 崔玉兴 付兴昌 李献杰 张彤 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第6期437-442,共6页
基于高纯半绝缘碳化硅衬底,采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺生长了AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)外延材料。室温下霍尔测试结果表明,外延层二维电子气迁移率为1 950 cm^2/(V·s),方块电阻为350Ω,电阻均匀性为3%。... 基于高纯半绝缘碳化硅衬底,采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺生长了AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)外延材料。室温下霍尔测试结果表明,外延层二维电子气迁移率为1 950 cm^2/(V·s),方块电阻为350Ω,电阻均匀性为3%。通过优化工艺降低了欧姆接触电阻,提高了器件工作效率。采用源场板结合栅场板的双场板技术和增大源漏间距,提高了器件击穿电压。优化了背面减薄和背面通孔技术,提高了器件散热能力。采用阻抗匹配技术提升了芯片阻抗。最终采用预匹配技术和金属陶瓷封装技术成功制作50 mm栅宽的AlGaN/GaN HEMT器件。直流测试结果表明,器件击穿电压高达175 V。微波测试结果表明,在50 V工作电压、1.3 GHz下,器件输出功率达350 W,功率附加效率达81%,功率增益大于13 d B。 展开更多
关键词 Algan/gan高电子迁移率晶体管(hemt) L波段 大功率 高效率 场板
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基于GaN-HEMT L波段高线性度功率放大器 被引量:2
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作者 王旭东 吴景峰 +2 位作者 王立发 林朋 孙志宇 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期207-211,共5页
介绍了一种基于GaN-HEMT的L波段线性功率放大器,GaN功率HEMT具备高电压、高功率密度和高温工作等特点,对提升功率放大器线性输出功率、工作效率和增益等性能起到重要作用。在GaN功率HEMT基础上,通过对功率放大器的线性化技术研究,使用AD... 介绍了一种基于GaN-HEMT的L波段线性功率放大器,GaN功率HEMT具备高电压、高功率密度和高温工作等特点,对提升功率放大器线性输出功率、工作效率和增益等性能起到重要作用。在GaN功率HEMT基础上,通过对功率放大器的线性化技术研究,使用ADS2009仿真软件建立电路模型,采用了预失真技术来改善功率放大器的线性度和工作效率,并且优化50Ω匹配电路来改善输入输出端驻波比和降低功率损耗。最终研制出在+28 V供电电压情况下,增益为16 dB、1 dB压缩点处输出功率为45 dBm和工作效率为35%的线性功率放大器。 展开更多
关键词 氮化镓高电子迁移率晶体管 L波段 匹配电路 高线性度 功率放大器
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C波段大功率GaN HEMT内匹配器件 被引量:5
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作者 娄辰 张蓓蓓 +2 位作者 银军 刘桢 张志国 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期201-204,共4页
基于Ga N微波功率器件工艺制作了大栅宽Ga N高电子迁移率晶体管(HEMT)管芯,通过负载牵引及建模技术提取了管芯的输入阻抗、输出阻抗。采用二项式多节阻抗匹配变换器实现了宽带功率分配器及合成器电路的制作,通过采用LC网络提升了管芯... 基于Ga N微波功率器件工艺制作了大栅宽Ga N高电子迁移率晶体管(HEMT)管芯,通过负载牵引及建模技术提取了管芯的输入阻抗、输出阻抗。采用二项式多节阻抗匹配变换器实现了宽带功率分配器及合成器电路的制作,通过采用LC网络提升了管芯输入阻抗、输出阻抗,加入了稳定网络,实现了50Ω阻抗匹配。采用高热导率金属陶瓷外壳,提高了器件散热能力。最终研制成功大功率Ga N HEMT内匹配器件,器件采用四胞管芯功率合成技术,总栅宽为40 mm。测试结果表明,频率为4.5~4.8 GHz,脉宽300μs,占空比10%,工作电压VDS为28V,器件的输出功率大于120 W,功率附加效率大于50%,功率增益大于11 d B。 展开更多
关键词 氮化镓高电子迁移率晶体管(ga n hemt) 内匹配 功率合成 大功率 阻抗
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Ka波段GaN HEMT高效率功率放大器MMIC 被引量:2
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作者 杜鹏搏 王瑜 +4 位作者 焦雪龙 刘学利 崔朝探 任志鹏 曲韩宾 《半导体技术》 CAS 北大核心 2022年第3期231-236,共6页
研制了一款基于AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺的Ka波段功率放大器(PA)单片微波集成电路(MMIC)。MMIC采用三级级联放大结构,在末级采用簇丛型合成网络实现8胞功率合成,电路输入端和级间采用低通电抗式匹配网络,输出端采用带通... 研制了一款基于AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺的Ka波段功率放大器(PA)单片微波集成电路(MMIC)。MMIC采用三级级联放大结构,在末级采用簇丛型合成网络实现8胞功率合成,电路输入端和级间采用低通电抗式匹配网络,输出端采用带通电抗式匹配网络,并结合稳定网络实现高效稳定的特性。对所设计的功率放大器MMIC进行了流片验证,芯片面积为4.3 mm×2.9 mm。测试结果表明,在漏极偏置电压为20 V(100μs脉宽、10%占空比),栅极偏置电压为-1.6 V,输入功率为18 dBm的条件下,该款功率放大器MMIC的工作频率为27~33 GHz,饱和输出功率大于10 W,功率增益大于22 dB,功率附加效率高达30%。 展开更多
关键词 功率放大器(PA) 高电子迁移率晶体管(hemt) 单片微波集成电路(MMIC) 功率合成 奇模抑制
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直流固态功率控制器中Cascode型GaN HEMT开关过程的振荡问题 被引量:1
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作者 赵瑞博 王莉 黄瑞 《电工技术学报》 EI CSCD 北大核心 2022年第S01期267-276,共10页
该文针对基于共源共栅氮化镓高电子迁移率晶体管(Cascode GaN HEMT)的直流固态功率控制器(SSPC)在开通过程中的振荡问题,利用Spice模型与Q3D软件提取Cascode结构内部寄生参数,结合SSPC实际工作情况和Cascode结构对开通和关断过程进行分... 该文针对基于共源共栅氮化镓高电子迁移率晶体管(Cascode GaN HEMT)的直流固态功率控制器(SSPC)在开通过程中的振荡问题,利用Spice模型与Q3D软件提取Cascode结构内部寄生参数,结合SSPC实际工作情况和Cascode结构对开通和关断过程进行分析,在Saber软件中对SSPC开通过程进行仿真分析。仿真结果表明,振荡产生的主要原因是,在SSPC开通过程中,Cascode GaN HEMT长时间工作在饱和区,容易受到外界干扰产生振荡,且内部存在正反馈环路。针对该问题,该文提出并联RC吸收电路和增大门级驱动电阻的方案,实验结果表明,所提出的方案可以有效抑制振荡。 展开更多
关键词 共源共栅氮化镓高电子迁移率晶体管 振荡 固态功率控制器 正反馈
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应用于宽带的AlGaN/GaN MIS-HEMT高效率器件
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作者 陈晓娟 张昇 +4 位作者 张一川 李艳奎 高润华 刘新宇 魏珂 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第3期339-344,共6页
本文采用等离子体增强原子层沉积(PEALD)生长的SiN_(x)栅介质制备了宽带应用的AlGaN/GaN金属绝缘体半导体高电子迁移率晶体管(MIS-HEMTs),并在直流、小信号及大信号测试中评估了该介质层对器件性能的提升。测试结果表明改进器件具有高... 本文采用等离子体增强原子层沉积(PEALD)生长的SiN_(x)栅介质制备了宽带应用的AlGaN/GaN金属绝缘体半导体高电子迁移率晶体管(MIS-HEMTs),并在直流、小信号及大信号测试中评估了该介质层对器件性能的提升。测试结果表明改进器件具有高质量界面、宽栅极控制范围、良好的电流崩塌控制等优势,并确认了其在超过5 GHz下工作时仍能保持较高的功率附加效率(PAE)。在5 GHz连续波模式下,漏极电压V_(DS)=10 V时,MIS HEMT输出功率密度为1.4 W/mm,PAE可达到74.7%;V_(DS)增加到30 V时,功率密度提升到5.9 W/mm,PAE可保持在63.2%的水平;测试频率增加30 GHz,在相同的输出功率水平下,器件的PAE达到50.4%。同时,高质量栅极介电层还可允许器件承受高的栅极电压摆动:在功率增益压缩6 dB时,栅极电流保持在10^(-4)A/mm。上述结果证实了该SiN_(x)栅介质对器件性能的提升,使其满足宽带应用的高效率、高功率和可靠性要求,为系统和电路的宽带设计提供器件级的保障。 展开更多
关键词 MIS-hemts Sin_(x)栅介质 功率附加效率 栅压摆幅 宽带
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宽脉冲大占空比L波段500W内匹配GaN HEMT器件
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作者 邬佳晟 徐守利 +1 位作者 刘英坤 刘秀博 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期451-455,466,共6页
基于GaN微波功率器件工艺研发了GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)芯片。采用场板结构提高芯片的击穿电压,采用多子胞结构改善热分布,使用微波软件提取管芯的输入、输出阻抗。采用T型匹配网络并加入稳定电阻,提升管芯的输入阻抗并提高电路... 基于GaN微波功率器件工艺研发了GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)芯片。采用场板结构提高芯片的击穿电压,采用多子胞结构改善热分布,使用微波软件提取管芯的输入、输出阻抗。采用T型匹配网络并加入稳定电阻,提升管芯的输入阻抗并提高电路的稳定性,内电路整体封装采用高热导率金属陶瓷全密封外壳,采用多节串联传输线形式,将器件外电路的输入、输出阻抗分别匹配至标准阻抗值50Ω。研制成功了L波段GaN HEMT内匹配大功率器件。在1.2-1.4 GHz、脉宽为5 ms、占空比为30%、栅极工作电压(VGS)为-2.4 V、漏极工作电压(VDS)为50 V条件下,器件输出功率大于500 W,功率附加效率(ηPAE)大于65%,功率增益大于16 d B。 展开更多
关键词 gan高电子迁移率晶体管(hemt) 内匹配 T型匹配网络 负载牵引 宽脉冲 大占空比 大功率晶体管
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基于GaN HEMT的高线性星载Doherty功率放大器设计 被引量:3
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作者 李悬雷 李丽君 +2 位作者 王晓青 张波权 郑惠文 《微波学报》 CSCD 北大核心 2022年第3期88-90,共3页
在射频通信链路中,功率放大器决定了发射通道的线性、效率等关键指标。卫星通信由于是电池供电,对功率放大器的工作效率要求比较高。文章基于GaN HEMT晶体管采用对称设计完成了一款高效率的Doherty功率放大器。测试结果表明:该Doherty... 在射频通信链路中,功率放大器决定了发射通道的线性、效率等关键指标。卫星通信由于是电池供电,对功率放大器的工作效率要求比较高。文章基于GaN HEMT晶体管采用对称设计完成了一款高效率的Doherty功率放大器。测试结果表明:该Doherty功放的功率增益大于29 dB;1 dB压缩点功率(P_(1 dB))大于35 dBm;在35 dBm输出时,其功率附加效率(PAE)大于47.5%,三阶交调失真(IMD3)大于35 dBc;在功率回退3 dB时,其PAE大于37%,IMD3大于32 dBc。 展开更多
关键词 DOHERTY功率放大器 氮化镓高电子迁移率晶体管(gan hemt) 三阶交调失真(IMD3)
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