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2-18 GHz 10 W GaN HEMT非均匀分布式功率放大器
被引量:
9
1
作者
冯威
刘帅
张斌
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第6期435-439,共5页
基于0.25μm GaN双场板(DFP)高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺,研制了一款2-18 GHz连续波输出功率大于10 W的功率放大器微波单片集成电路(MMIC)。MMIC中的功率器件采用源场板接地减少强电场引起的功率器件退化,提高了功率器件的击穿...
基于0.25μm GaN双场板(DFP)高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺,研制了一款2-18 GHz连续波输出功率大于10 W的功率放大器微波单片集成电路(MMIC)。MMIC中的功率器件采用源场板接地减少强电场引起的功率器件退化,提高了功率器件的击穿电压,并提取了功率器件的可定标大信号器件模型参数;基于非均匀分布式结构,利用ADS软件分别优化MMIC中10个功率器件的最佳栅宽和负载阻抗,MMIC的输入输出匹配阻抗为50Ω;采用电磁场仿真技术优化设计的MMIC芯片尺寸为4.9 mm×2.4 mm。在栅压(Vgs)为-2.4 V、漏压(Vds)为28 V、输入功率(Pin)为30 d Bm的条件下,MMIC在2-18 GHz频带内连续波饱和输出功率大于40 d Bm,功率附加效率大于25%。
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关键词
微波单片集成电路(MMIC)
超宽带(UWB)
非均匀分布式功率放大器(
ndpa
)
氮化镓
双场板(DFP)
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职称材料
题名
2-18 GHz 10 W GaN HEMT非均匀分布式功率放大器
被引量:
9
1
作者
冯威
刘帅
张斌
机构
中国电子科技集团公司第十三研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第6期435-439,共5页
文摘
基于0.25μm GaN双场板(DFP)高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺,研制了一款2-18 GHz连续波输出功率大于10 W的功率放大器微波单片集成电路(MMIC)。MMIC中的功率器件采用源场板接地减少强电场引起的功率器件退化,提高了功率器件的击穿电压,并提取了功率器件的可定标大信号器件模型参数;基于非均匀分布式结构,利用ADS软件分别优化MMIC中10个功率器件的最佳栅宽和负载阻抗,MMIC的输入输出匹配阻抗为50Ω;采用电磁场仿真技术优化设计的MMIC芯片尺寸为4.9 mm×2.4 mm。在栅压(Vgs)为-2.4 V、漏压(Vds)为28 V、输入功率(Pin)为30 d Bm的条件下,MMIC在2-18 GHz频带内连续波饱和输出功率大于40 d Bm,功率附加效率大于25%。
关键词
微波单片集成电路(MMIC)
超宽带(UWB)
非均匀分布式功率放大器(
ndpa
)
氮化镓
双场板(DFP)
Keywords
monolithic microwave integrated circuit (MMIC)
ultra wideband (UWB)
non-uniform distributed power amplifier (ndpa)
GaN
double field plate (DFP)
分类号
TN722.75 [电子电信—电路与系统]
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作者
出处
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被引量
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1
2-18 GHz 10 W GaN HEMT非均匀分布式功率放大器
冯威
刘帅
张斌
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2016
9
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