离子束混合法制备Sm-Fe-N磁性薄膜 被引量：1

1

作者 孙树滋 王强 +4 位作者 张兆安 宋根宗 徐送宁 马腾才 宫泽祥 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第2期231-233,共3页

利用离子束混合方法在Ｓｍ质量分数为２０％的Ｓｍ－Ｆｅ多层薄膜中，当注入能量为６０ｋｅＶ的Ｎ离子时，成功地制备出Ｓｍ－Ｆｅ－Ｎ磁性薄膜．经透射电镜（ＴＥＭ）和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）分析发现：当Ｎ离子的注入剂量为１×１... 利用离子束混合方法在Ｓｍ质量分数为２０％的Ｓｍ－Ｆｅ多层薄膜中，当注入能量为６０ｋｅＶ的Ｎ离子时，成功地制备出Ｓｍ－Ｆｅ－Ｎ磁性薄膜．经透射电镜（ＴＥＭ）和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）分析发现：当Ｎ离子的注入剂量为１×１０１７／ｃｍ２时，形成Ｓｍ２Ｆｅ１７Ｎｘ磁性薄膜；而Ｎ离子的注入剂量为２×１０１７／ｃｍ２时，Ｓｍ－Ｆｅ多层薄膜转变成非晶磁性薄膜，而且Ｓｍ２Ｆｅ１７Ｎｘ磁性薄膜和Ｓｍ－Ｆｅ－Ｎ非晶磁性薄膜的磁性（饱和磁性强度。 展开更多

关键词 离子注入 磁性薄膜 薄膜 离子束混合法 永磁体

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磁控溅射Fe-N薄膜及Fe-N/TiN多层膜的结构和磁性 被引量：4

2

作者 李华飚 乔祎 +4 位作者 周剑平 赵春生 张永平 常香荣 田中卓 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 2000年第5期311-314,共4页

用磁控溅射法制备了Fe N薄膜和Fe N/TiN多层膜。结果表明 ,在常温下 ,使用较小的氮、氩比溅射 ,生成的Fe N薄膜主要是含氮α Fe固溶体 ,并且N原子进入α Fe晶格是饱和磁化强度提高的一个原因。Fe N/TiN多层膜的层间耦合作用以及减小每一... 用磁控溅射法制备了Fe N薄膜和Fe N/TiN多层膜。结果表明 ,在常温下 ,使用较小的氮、氩比溅射 ,生成的Fe N薄膜主要是含氮α Fe固溶体 ,并且N原子进入α Fe晶格是饱和磁化强度提高的一个原因。Fe N/TiN多层膜的层间耦合作用以及减小每一Fe N层厚度而引起的晶粒尺寸的减小可以有效地降低薄膜的矫顽力 。 展开更多

关键词 结构 磁性 溅射沉积 fe-n薄膜 fe-n/Tin多层膜

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γ′-Fe_4N薄膜的制备及其磁性 被引量：2

3

作者 王丽丽 支文 +4 位作者 赵利军 王欣 马楠 金丹红 郑伟涛 《吉林大学学报（理学版）》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期275-278,共4页

采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2为放电气体(N2/(Ar+N2)=10%),在玻璃和NaCl(100)单晶片上分别沉积获得Fe-N薄膜样品.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUID)对样品的结构、形貌和磁性能进行分析,研究基片和基片温... 采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2为放电气体(N2/(Ar+N2)=10%),在玻璃和NaCl(100)单晶片上分别沉积获得Fe-N薄膜样品.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUID)对样品的结构、形貌和磁性能进行分析,研究基片和基片温度等条件对薄膜的影响.结果表明,以NaCl单晶为基片获得单相γ′-Fe4N薄膜,与玻璃基片相比可降低其生成的基片温度并可扩大形成温度的范围,且比饱和磁化强度略有增大. 展开更多

关键词 fe-n薄膜 结构 磁性

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偏压对直流磁控溅射Fe-N薄膜结构及性能的影响 被引量：1

4

作者 李伟力 郑晓航 +1 位作者 周庚衡 薛宗伟 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期773-775,780,共4页

为了揭示偏压对溅射态Fe-N薄膜磁学行为的影响规律及机理,采用直流磁控溅射工艺在不同偏压下制备了Fe-N薄膜.利用掠入射X射线衍射、小角X射线散射技术和振动样品磁强计研究了薄膜的相结构、厚度、表面粗糙度以及磁性能.结果表明,增加偏... 为了揭示偏压对溅射态Fe-N薄膜磁学行为的影响规律及机理,采用直流磁控溅射工艺在不同偏压下制备了Fe-N薄膜.利用掠入射X射线衍射、小角X射线散射技术和振动样品磁强计研究了薄膜的相结构、厚度、表面粗糙度以及磁性能.结果表明,增加偏压有利于薄膜中非晶的形成,且随着偏压的增大,薄膜的厚度增加,表面粗糙度降低.Fe-N薄膜的磁性能表明,随着偏压的增加,薄膜的饱和磁化强度和矫顽力均有不同程度的减小.偏压的增加导致Fe-N薄膜由晶态向非晶态转变,从而引起磁性能的改变. 展开更多

关键词 fe-n薄膜 偏压 膜厚 表面粗糙度 磁性能

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射频磁控溅射高饱和磁化强度Fe-N薄膜 被引量：1

5

作者 姜恩永 陈逸飞 +1 位作者 李志青 白海力 《天津大学学报（自然科学与工程技术版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期573-576,共4页

用射频磁控溅射法分别在具有20nmFe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气... 用射频磁控溅射法分别在具有20nmFe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气分压为2.66×10-2Pa,基片温度为100~150℃时,最有利于α-″Fe16N2相的形成.在此条件下制备的Fe-N薄膜的饱和磁化强度高达2.735T,超过纯Fe的饱和磁化强度值. 展开更多

关键词 fe-n薄膜 饱和磁化强度 射频磁控溅射

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衬底温度对Fe-N薄膜结构、形貌及磁性能的影响

6

作者 王丽丽 王欣 +2 位作者 宫杰 郑伟涛 宗占国 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期1838-1842,共5页

采用直流磁控溅射方法,以Ar和N2作为放电气体,在单晶Si(100)衬底上沉积了Fe-N薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUIDS)对所制备的样品进行了结构、成分、形貌和磁性能分析... 采用直流磁控溅射方法,以Ar和N2作为放电气体,在单晶Si(100)衬底上沉积了Fe-N薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱分析仪(XPS)、原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUIDS)对所制备的样品进行了结构、成分、形貌和磁性能分析,研究了衬底温度对薄膜的结构、形貌和磁性能的影响。结果表明:衬底温度对Fe-N薄膜的结构有重要的影响,通过控制衬底温度可以获得单相γ-′Fe4N化合物薄膜;γ-′Fe4N具有较高的饱和磁化强度,是非常有应用前景的磁记录介质及磁头功能材料。 展开更多

关键词 fe-n薄膜 衬底温度 磁性能

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基片表面的磁场对磁控溅射法制备Fe-N薄膜特性的影响

7

作者 朱炎 狄国庆 +2 位作者 陈亚杰 赵登涛 杨海峰 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2001年第4期332-335,共4页

利用反应磁控溅射方法制备了Fe N薄膜。发现未退火的薄膜基本处于非晶或微晶状态 ,退火或在沉积时对基片施加一磁场 ,可使晶粒变大 ,并出现对应内部存在应力的γ′ Fe4N的 (110 )晶面的择优取向。特别是外加的磁场使得Fe N薄膜具有明显... 利用反应磁控溅射方法制备了Fe N薄膜。发现未退火的薄膜基本处于非晶或微晶状态 ,退火或在沉积时对基片施加一磁场 ,可使晶粒变大 ,并出现对应内部存在应力的γ′ Fe4N的 (110 )晶面的择优取向。特别是外加的磁场使得Fe N薄膜具有明显改善的磁性能。 展开更多

关键词 磁场 磁性能 晶粒 铁-氮 薄膜 磁控溅射 制备

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高温磁控溅射沉积Fe-N薄膜的磁电性质研究

8

作者 方贺男 陈俊霖 +1 位作者 李影 彭祥 《热加工工艺》 北大核心 2020年第10期71-73,共3页

采用直流磁控溅射的方法,以Ar和N2作为溅射气体,在400℃下于石英玻璃衬底上沉积Fe-N薄膜。利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、超导量子干涉仪(SQUID)以及I-V曲线测量对薄膜的结构、化学环境、表面形貌以及磁电... 采用直流磁控溅射的方法,以Ar和N2作为溅射气体,在400℃下于石英玻璃衬底上沉积Fe-N薄膜。利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、超导量子干涉仪(SQUID)以及I-V曲线测量对薄膜的结构、化学环境、表面形貌以及磁电性质进行分析。结果表明:样品具有铁磁性,其饱和磁化强度和矫顽力随温度升高而降低;样品具有良好的导电性。 展开更多

关键词 fe-n薄膜 高温磁控溅射 磁电性质

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基于稳恒磁场环境下Sm-Fe-B GMF成膜及其性能测试与模拟

9

作者 刘全洲 周白杨 +3 位作者 翁章钊 杨杰 陈志坚 黄文斌 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第24期24105-24109,共5页

在施加不同磁场强度及方向的稳恒磁场环境中,采用离子束溅射沉积法,在玻璃衬底上制备SmFe-B超磁致伸缩薄膜(GMF)。使用LS-7010M-KC激光微位移传感器与交变梯度磁强计(AGM)分别测试薄膜悬臂梁磁偏转量与磁滞回线,以研究制备时施加稳恒磁... 在施加不同磁场强度及方向的稳恒磁场环境中,采用离子束溅射沉积法,在玻璃衬底上制备SmFe-B超磁致伸缩薄膜(GMF)。使用LS-7010M-KC激光微位移传感器与交变梯度磁强计(AGM)分别测试薄膜悬臂梁磁偏转量与磁滞回线,以研究制备时施加稳恒磁场对薄膜磁致伸缩性能及软磁性能的影响。利用微磁学软件OOMMF,模拟研究了在外加相同实验磁场强度下,施加不同稳恒磁场强度对Sm-Fe-B薄膜磁矩分布的影响。实验研究结果表明,施加稳恒磁场下制备的薄膜样品,其饱和磁致伸缩性能明显优于无磁场环境所制备的样品;在实验条件下,薄膜样品的磁致伸缩性能随着施加稳恒磁场强度的增大而提高。模拟与实验研究结果均表明,Sm-Fe-B GMF的易磁化轴与沉积过程中所施加的稳恒磁场方向一致。在特定的悬臂梁结构应用中,薄膜沉积过程中通过改变施加不同稳恒磁场方向与其强度大小,可获得达到所需易磁化轴方向且具有较大磁偏转量的薄膜元件。 展开更多

关键词 smGfeGB薄膜 稳恒磁场 磁学特性 微磁学模拟

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电流密度对Sm-Fe电沉积膜显微组织及性能的影响

10

作者 寇莹 张伟强 +1 位作者 娄长胜 吕逍 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第B06期98-101,共4页

在室温下的水溶液体系中,采用恒流电沉积技术在Cu基体上制备了Sm-Fe合金薄膜。研究了电流密度对沉积膜层的表面形貌、厚度、元素含量以及物相组成的影响,并测试了制备出的Sm-Fe合金膜的磁性能。结果表明,银灰色的沉积膜由金属Sm、Fe及... 在室温下的水溶液体系中,采用恒流电沉积技术在Cu基体上制备了Sm-Fe合金薄膜。研究了电流密度对沉积膜层的表面形貌、厚度、元素含量以及物相组成的影响,并测试了制备出的Sm-Fe合金膜的磁性能。结果表明,银灰色的沉积膜由金属Sm、Fe及少量的O组成;随着电流密度的增加,膜层中Sm含量呈现先上升后下降的趋势;而Sm含量越多,膜层的表面越平整光亮;沉积膜主要由Sm Fe12、Sm3Fe5O12等化合物组成,电流密度影响了膜层中物相组成的含量,进而影响了膜层的磁性能。 展开更多

关键词 sm-fe合金薄膜 水溶液 电沉积 电流密度 磁性能

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对向靶溅射α″-Fe_(16)N_2薄膜结构及其热稳定性

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作者 许英华 姜恩永 +2 位作者 王怡 侯登录 赵慈 《天津大学学报（自然科学与工程技术版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期558-561,共4页

用对向靶反应溅射法制备了α″- Fe1 6 N2 薄膜 ,用 X射线衍射 (XRD)、透射电子显微镜(TEM)和振动样品磁强计 (VSM)对α″- Fe1 6 N2 的结构、磁性以及结构的热稳定性进行了分析讨论 .结果表明 ,随退火温度的升高 ,α″- Fe1 6 N2 相逐... 用对向靶反应溅射法制备了α″- Fe1 6 N2 薄膜 ,用 X射线衍射 (XRD)、透射电子显微镜(TEM)和振动样品磁强计 (VSM)对α″- Fe1 6 N2 的结构、磁性以及结构的热稳定性进行了分析讨论 .结果表明 ,随退火温度的升高 ,α″- Fe1 6 N2 相逐渐分解为 α″- Fe和 γ′- Fe4N两相 .对磁性的分析表明 ,造成饱和磁化强度存在较大差异的原因与其内在的结构差别有很大的关系 . 展开更多

关键词 饱和磁化强度 对向靶溅射 fe16n2薄膜 热稳定性 结构

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不同基片生长γ′-Fe_4N薄膜的结构及其磁学性能

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作者 刘伟达 陈蕊 +4 位作者 王丽丽 李宏广 安涛 张东辉 徐士翀 《吉林大学学报（理学版）》 CAS 北大核心 2019年第1期156-159,共4页

采用直流磁控溅射方法,保持氩气流量不变,控制氮气的体积分数为10%,12.5%,15%,分别用Si(100)单晶和SrTiO_3(100)单晶基片制备Fe-N薄膜.用X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)等方法对两种不同基片生长Fe-N薄膜的结构及磁学性能进行表征... 采用直流磁控溅射方法,保持氩气流量不变,控制氮气的体积分数为10%,12.5%,15%,分别用Si(100)单晶和SrTiO_3(100)单晶基片制备Fe-N薄膜.用X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)等方法对两种不同基片生长Fe-N薄膜的结构及磁学性能进行表征.结果表明:在SrTiO_3(100)单晶基片上得到了单相γ′-Fe_4N薄膜,与Si(100)基片上的样品相比,SrTiO_3(100)更有利于诱导γ′-Fe_4N薄膜的取向性生长;当氮气的体积分数约为12.5%时,制备单相γ′-Fe_4N薄膜的晶粒结晶度较好,且饱和磁化强度较高,矫顽力比Si(100)为基片获得的Fe-N薄膜样品低,软磁性能较好. 展开更多

关键词 fe-n薄膜 基片 微观结构 磁学性能

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