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干法刻蚀和氢等离子体处理制备增强型p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT特性 被引量:1
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作者 冯玉昆 于国浩 +4 位作者 吴冬东 杜仲凯 张炳良 李新宇 张宝顺 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第12期932-936,985,共6页
增强型p-GaN栅AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的栅与源漏之间的沟道特性对器件性能具有重要的影响。在同一晶圆衬底上,采用干法刻蚀和氢等离子体处理栅与源、漏之间的p-GaN,制备增强型p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT。对器件静态、动态特性... 增强型p-GaN栅AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的栅与源漏之间的沟道特性对器件性能具有重要的影响。在同一晶圆衬底上,采用干法刻蚀和氢等离子体处理栅与源、漏之间的p-GaN,制备增强型p-GaN栅AlGaN/GaN HEMT。对器件静态、动态特性和栅极漏电特性进行研究,采用两种方法制备的器件均具有较高的击穿电压(>850 V@10μA/mm)。通过氢等离子体处理制备的器件的方块电阻较大,导致输出电流密度较低,在动态特性和栅极漏电方面具有明显的优势,氢等离子体处理技术提高了界面态的缺陷激活能,从而实现了较低的栅极反向漏电。 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管(HeMT) ALGAN/GAN异质结 p-GaN栅 增强型 栅漏电
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提高线路绝缘子防污闪及抗泄漏性能的新方法 被引量:24
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作者 李晓峰 李正瀛 +3 位作者 陈俊武 王燕 张国胜 J.M.K.MacAlpine 《电网技术》 EI CSCD 北大核心 2001年第10期69-72,共4页
文章介绍了通过在传统的瓷质或玻璃线路绝缘子的铁帽底部加装一表面覆盖硅橡胶的金属环 片的新方法,可以使绝缘子表面电场分布更均匀,以提高起晕和闪络电压;使电场方 向更垂直于绝缘子上表面,以抑制放电的发展;同时金属环片外 ... 文章介绍了通过在传统的瓷质或玻璃线路绝缘子的铁帽底部加装一表面覆盖硅橡胶的金属环 片的新方法,可以使绝缘子表面电场分布更均匀,以提高起晕和闪络电压;使电场方 向更垂直于绝缘子上表面,以抑制放电的发展;同时金属环片外 表面覆盖的具有良好防污性能的硅橡胶材料可以极大地增加爬电距离,降低泄漏电流和提高 闪络电压。实验结果和理论分析相吻合,证实了采用该方法改进后的新型绝缘子的优良性 能。经10克/升的氯化钠溶液充分浸泡后,新型绝缘子的干污闪电压比普通绝缘子至少提高 了170%,起晕电压提高了近70%,泄漏电流减少了近30%。 展开更多
关键词 输电线路 绝缘子 防污闪 抗泄漏性能
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