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Transparent conducting indium-tin-oxide(ITO) film as full front electrode in Ⅲ–Ⅴ compound solar cell 被引量:1
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作者 代盼 卢建娅 +6 位作者 谭明 王青松 吴渊渊 季莲 边历峰 陆书龙 杨辉 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第3期495-499,共5页
The application of transparent conducting indium-tin-oxide (ITO) film as full front electrode replacing the conven- tional bus-bar metal electrode in III-V compound GalnP solar cell was proposed. A high-quality, non... The application of transparent conducting indium-tin-oxide (ITO) film as full front electrode replacing the conven- tional bus-bar metal electrode in III-V compound GalnP solar cell was proposed. A high-quality, non-rectifying contact between ITO and 10 nm N+-GaAs contact layer was formed, which is benefiting from a high carrier concentration of the terrilium-doped N+-GaAs layer, up to 2×10^19 cm^-3. A good device performance of the GalnP solar cell with the ITO electrode was observed. This result indicates a great potential of transparent conducting films in the future fabrication of larger area flexible III-V solar cell. 展开更多
关键词 full indium-tin-oxide (ito electrode specific contact resistance solar cell
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Electrical and optical properties of indium tin oxide/epoxy composite film 被引量:1
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作者 郭霞 郭春威 +1 位作者 陈宇 苏治平 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第7期601-604,共4页
The electrical and optical properties of the indium tin oxide (ITO)/epoxy composite exhibit dramatic variations as functions of the ITO composition and ITO particle size. Sharp increases in the conductivity in the v... The electrical and optical properties of the indium tin oxide (ITO)/epoxy composite exhibit dramatic variations as functions of the ITO composition and ITO particle size. Sharp increases in the conductivity in the vicinity of a critical volume fraction have been found within the framework of percolation theory. A conductive and insulating transition model is extracted by the ITO particle network in the SEM image, and verified by the resistivity dependence on the temperature. The dependence of the optical transmittance on the particle size was studied. Further decreasing the ITO particle size could further improve the percolation threshold and light transparency of the composite film. 展开更多
关键词 percolation effect indium tin oxide/epoxy composite film electrical state transition optical transmittance
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Improvement of the light output and contact resistance of InGaN-based light-emitting diodes based on tantalum-doped indium tin oxide as p-type electrodes
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作者 黄俊毅 范广涵 +5 位作者 郑树文 牛巧利 李述体 曹健兴 苏军 章勇 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第4期365-368,共4页
This paper reports that highly transparent and low resistance tantalum-doped indium tin oxide (Ta-doped ITO) films contacted to p-type GaN have been prepared by the electron-beam evaporation technique. The Ta-doped ... This paper reports that highly transparent and low resistance tantalum-doped indium tin oxide (Ta-doped ITO) films contacted to p-type GaN have been prepared by the electron-beam evaporation technique. The Ta-doped ITO contacts become Ohmic with a specific contact resistance of $/sim 5.65/times 10^{ - 5}$$/Omega /cdot$cm$^{2}$ and show the transmittance of $/sim $98% at a wavelength of 440nm when annealed at 500/du. Blue light emitting diodes (LEDs) fabricated with Ta-doped ITO p-type Ohmic contact layers give a forward-bias voltage of 3.21V at an injection current of 20mA. It further shows that the output power of LEDs with Ta-doped ITO contacts is enhanced 62% at 20mA in comparison with that of LEDs with conventional Ni/Au contacts 展开更多
关键词 P-GAN tantalum-doped indium tin oxide (Ta-doped ito) Ohmic contact specific con-tact resistance
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Enhanced performance in organic photovoltaic devices with a KMnO_4 solution treated indium tin oxide anode modification
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作者 杨倩倩 赵谡玲 +6 位作者 徐征 张福俊 闫光 孔超 樊星 张妍斐 徐叙瑢 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第12期526-530,共5页
The properties of poly(3-hexylthiophene):(6,6)-phenyl C61 butyric acid methyl ester (P3HT:PCBM) organic pho- tovoltaic devices (OPVs) with an indium tin oxide (ITO) anode treated by a KMnO4 solution are in... The properties of poly(3-hexylthiophene):(6,6)-phenyl C61 butyric acid methyl ester (P3HT:PCBM) organic pho- tovoltaic devices (OPVs) with an indium tin oxide (ITO) anode treated by a KMnO4 solution are investigated. The optimized KMnO4 solution has a concentration of 50 rag/L, and ITO is treated for 15 min. The modification of ITO anode results in an enhancement of the power conversion efficiency (PCE) of the device, which is responsible for the increase of the photocurrent. The performance enhancement is attributed to the work function modification of the ITO substrate through the strong oxygenation of KMnO4, and then the charge collection efficiency is improved. 展开更多
关键词 organic photovoltaic devices indium tin oxide anode modification KMNO4
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Work Function Enhancement of Indium Tin Oxide via Oxygen Plasma Immersion Ion Implantation
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作者 高欢忠 何龙 +7 位作者 何志江 李泽斌 吴忠航 成卫海 艾畦 范晓轩 区琼荣 梁荣庆 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第8期791-793,共3页
Indium tin oxide (ITO) transparent conducting film was treated with oxygen plasma immersion ion implantation (PIII). X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) was employed to characterize the effect. The results su... Indium tin oxide (ITO) transparent conducting film was treated with oxygen plasma immersion ion implantation (PIII). X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) was employed to characterize the effect. The results suggested that the oxygen content in the surface was increased and maintained for more than 50 h compared with traditional plasma-treated samples. Meanwhile, the work function of ITO estimated by comparing the peak shift in the XPS diagram suggested a corresponding increase by more than 1 eV. 展开更多
关键词 plasma immersion ion implantation surface treatment work function indium tin oxide
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模压成型压力对氧化铟锡(ITO)靶材性能影响研究
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作者 姜峰 谭泽旦 +5 位作者 黄誓成 方志杰 陆映东 覃立仁 王永清 曾纪术 《矿冶工程》 CAS 北大核心 2024年第1期134-137,142,共5页
以化学共沉淀-煅烧法制备的纳米ITO粉体为原料,通过模压、冷等静压成型,采用常压烧结法制备了ITO靶材,研究了模压成型压力对ITO靶材相对密度、电阻率和晶粒尺寸的影响。结果表明,模压成型压力60 MPa且烧结条件适宜时,制得的ITO靶材相对... 以化学共沉淀-煅烧法制备的纳米ITO粉体为原料,通过模压、冷等静压成型,采用常压烧结法制备了ITO靶材,研究了模压成型压力对ITO靶材相对密度、电阻率和晶粒尺寸的影响。结果表明,模压成型压力60 MPa且烧结条件适宜时,制得的ITO靶材相对密度为99.81%、电阻率为1.707×10^(-4)Ω·cm、平均晶粒尺寸为7.62μm。研究结果可为ITO靶材的致密化与大型化生产提供借鉴。 展开更多
关键词 模压成型 氧化铟锡 导电薄膜 靶材 常压烧结 电阻率 致密化
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退火温度对ITO/Cu/AZO透明导电薄膜结构及性能的影响
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作者 孙冰成 张健 +1 位作者 张贤旺 于尉 《微纳电子技术》 CAS 2024年第11期155-162,共8页
采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电... 采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测试仪等表征手段,系统地研究了退火温度对ITO/Cu/AZO复合薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果显示,经过不同温度的真空退火处理,薄膜的晶体结构和导电性能得到显著改善和提高,薄膜可见光平均透过率随着退火温度的升高先增加后降低。对比发现,在气压5×10^(-3)Pa、温度150℃下退火制备的ITO/Cu/AZO结构薄膜表现出最佳的综合性能,薄膜具有较强的(222)和(440)晶面衍射峰,在400~800 nm光波范围平均透过率约为80.5%,电导率约为1.76×10^(3) S/cm,综合品质因数达到约2.12×10^(-3)/Ω。 展开更多
关键词 磁控溅射 真空热处理 氧化铟锡(ito)薄膜 Al掺杂ZnO(AZO)薄膜 交替溅射法
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磁控溅射低阻ITO薄膜的气体参数优化 被引量:9
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作者 王军 成建波 +2 位作者 饶海波 蒋亚东 杨刚 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2007年第1期115-117,共3页
用直流磁控溅射系统在不同气压和氩氧流量比(V(Ar):V(O2),体积比)下制备铟锡氧化物(ITO)薄膜。测试了薄膜的方阻和透过率,得到不同沉积气压和V(Ar):V(O2)对薄膜电光特性的影响大小和趋势。X-射线衍射(XRD)测试表明ITO薄膜的晶粒尺寸随... 用直流磁控溅射系统在不同气压和氩氧流量比(V(Ar):V(O2),体积比)下制备铟锡氧化物(ITO)薄膜。测试了薄膜的方阻和透过率,得到不同沉积气压和V(Ar):V(O2)对薄膜电光特性的影响大小和趋势。X-射线衍射(XRD)测试表明ITO薄膜的晶粒尺寸随膜内氧的摩尔分数增加而增大,随氧气比例增加薄膜(400)晶向消失。优化参数为气压266.664 mPa,V(Ar):V(O2)=15:0,制备的ITO薄膜方阻为22Ω/□,在可见光区域平均透过率为85%。 展开更多
关键词 薄膜 氧化铟锡(ito) 直流磁控溅射 沉积气压 流量比
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硫化沉淀法分离ITO废靶浸出液中铟锡的研究 被引量:12
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作者 刘志宏 李玉虎 +2 位作者 李启厚 艾侃 张多默 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期53-56,共4页
铟锡复合氧化物(ITO,Indium and Tin Oxide)膜是铟的主要应用领域。在其制备工艺中,产出大量的ITO废靶需回收处理。研究了硫化沉淀法分离ITO废靶硫酸浸出液中铟、锡的工艺。平衡计算证明了硫化沉淀分离铟、锡的可行性。试验研究了温度... 铟锡复合氧化物(ITO,Indium and Tin Oxide)膜是铟的主要应用领域。在其制备工艺中,产出大量的ITO废靶需回收处理。研究了硫化沉淀法分离ITO废靶硫酸浸出液中铟、锡的工艺。平衡计算证明了硫化沉淀分离铟、锡的可行性。试验研究了温度、酸度及反应时间对分离过程的影响,正交试验得出最佳工艺条件:温度323 K,反应时间20 min,溶液起始酸度100 g H2SO4/L。在此条件下,除锡率可达100%,铟在渣中的损失率仅为0.47%。 展开更多
关键词 ito废靶 回收 铟锡分离 硫化沉淀法
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膜厚对ITO薄膜的电学与光学性质的影响 被引量:6
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作者 罗远晟 陈松林 +4 位作者 马平 蒲云体 朱基亮 朱建国 肖定全 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1024-1026,共3页
用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备不同薄膜厚度氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜。利用X线衍射(XRD)、透射光谱、四探针法和扫描电子显微镜(SEM)分析薄膜厚度(沉积时间)对ITO薄膜的结晶取向情况、透过率、电导率和表面形貌的影响。试验结果表... 用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备不同薄膜厚度氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜。利用X线衍射(XRD)、透射光谱、四探针法和扫描电子显微镜(SEM)分析薄膜厚度(沉积时间)对ITO薄膜的结晶取向情况、透过率、电导率和表面形貌的影响。试验结果表明,在适当的沉积时间(5 min)下制备的ITO薄膜具有良好的光学性能和电学性能,其方阻为17Ω/□,在可见光区域内的平均透过率为84%。 展开更多
关键词 薄膜 氧化铟锡(ito) 磁控溅射 薄膜厚度
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磁控溅射ITO薄膜的退火处理 被引量:4
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作者 王军 成建波 +4 位作者 陈文彬 杨刚 蒋亚东 蒋泉 杨健君 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期264-266,共3页
采用直流磁控溅射方法在室温下玻璃基板上制备ITO(Indium tin oxide)薄膜,并在真空中不同温度(100℃-400℃)下退火处理。研究了退火对薄膜表面形貌、电光特性的影响。XRD测试发现薄膜在200℃退火后结晶,优选晶向为(222)。随退... 采用直流磁控溅射方法在室温下玻璃基板上制备ITO(Indium tin oxide)薄膜,并在真空中不同温度(100℃-400℃)下退火处理。研究了退火对薄膜表面形貌、电光特性的影响。XRD测试发现薄膜在200℃退火后结晶,优选晶向为(222)。随退火温度升高,方块电阻迅速下降,表面更加平整,薄膜在可见光范围平均透过率提高到85%。 展开更多
关键词 薄膜 氧化铟锡(ito) 退火 直流磁控溅射 方阻
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ITO导电玻璃表面直接电沉积Au的机理 被引量:9
12
作者 汤儆 田晓春 +2 位作者 周富庆 刘跃强 林建航 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第3期641-646,共6页
用循环伏安和电位阶跃法研究Au在氧化铟锡(ITO)透明导电膜玻璃表面的电沉积过程的初期阶段.发现在ITO表面Au的电沉积经历成核过程以及受[AuCl4]-扩散控制的晶核生长过程.通过改变扫描速率分析循环伏安曲线的变化,当扫描速率较快时,发现A... 用循环伏安和电位阶跃法研究Au在氧化铟锡(ITO)透明导电膜玻璃表面的电沉积过程的初期阶段.发现在ITO表面Au的电沉积经历成核过程以及受[AuCl4]-扩散控制的晶核生长过程.通过改变扫描速率分析循环伏安曲线的变化,当扫描速率较快时,发现Au在ITO表面的沉积过程经历[AuCl4]-→[AuCl2]-→Au两步进行;当扫描速率较慢时,受歧化反应作用影响而只表现为一步沉积[AuCl4]-→Au.通过电位阶跃实验,验证了Au的两步沉积过程,并求得[AuCl4]-的扩散系数为1.3×10-5cm2·s-1.将成核曲线与理论曲线对照,得出Au在ITO表面的沉积符合瞬时成核理论.通过场发射扫描电镜(FE-SEM)对Au核形貌进行分析,根据扫描电镜图可以得到阶跃时间和阶跃电位对电沉积Au的形貌的影响. 展开更多
关键词 氧化铟锡导电玻璃 金纳米粒子 电沉积 成核机理
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机械活化强化ITO废料中铟浸出的动力学研究 被引量:9
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作者 黎铉海 李秀敏 潘柳萍 《金属矿山》 CAS 北大核心 2006年第3期46-48,共3页
研究了ITO经机械活化后与盐酸反应的动力学规律。研究结果表明,ITO在搅拌磨中经机械活化后,化学活性提高,与HCl的反应速度加快,活化30min后与HCl反应的活化能由未活化时的90.6kJ/mol降至53.0kJ/mol,反应级数由原来的2.30降至1.31。
关键词 铟锡氧化物 机械活化 浸出 动力学
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HIT太阳电池中ITO薄膜的结构和光电性能 被引量:10
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作者 任丙彦 刘晓平 +2 位作者 许颖 王敏花 廖显伯 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期504-507,共4页
采用射频磁控溅射技术在不同射频功率下沉积了ITO薄膜,并将其应用于HIT太阳电池.分析了薄膜的结构、光电特性.结果表明,在120W时制备的薄膜很好地兼顾了电阻率和光透过率,其电阻率为3.48×10^-4Ω·cm、在350~800 nm波段的平... 采用射频磁控溅射技术在不同射频功率下沉积了ITO薄膜,并将其应用于HIT太阳电池.分析了薄膜的结构、光电特性.结果表明,在120W时制备的薄膜很好地兼顾了电阻率和光透过率,其电阻率为3.48×10^-4Ω·cm、在350~800 nm波段的平均光透过率为87.1%,将其应用于HIT太阳电池上,电池的转换效率可达13.38%. 展开更多
关键词 氧化铟锡薄膜 射频磁控溅射 陶瓷靶 HIT太阳电池
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用表面粗化ITO的欧姆接触提高GaN基LED性能(英文) 被引量:12
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作者 姚雨 靳彩霞 +2 位作者 董志江 孙卓 黄素梅 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期273-277,共5页
应用ICP干法刻蚀工艺和自然光刻技术,制备了ITO表面粗化的GaN基LED芯片。聚苯乙烯纳米颗粒在干法刻蚀中作为刻蚀掩膜。通过扫描电镜(SEM)观察ITO薄膜的粗糙度,并且报道了优化的粗化工艺参数。结果表明,ITO表面粗化的GaN基LED芯片同传统... 应用ICP干法刻蚀工艺和自然光刻技术,制备了ITO表面粗化的GaN基LED芯片。聚苯乙烯纳米颗粒在干法刻蚀中作为刻蚀掩膜。通过扫描电镜(SEM)观察ITO薄膜的粗糙度,并且报道了优化的粗化工艺参数。结果表明,ITO表面粗化的GaN基LED芯片同传统的表面光滑的芯片相比在20 mA的驱动电流下,发光强度提高了70%。 展开更多
关键词 GAN基发光二极管 铟锡氧化物 表面粗化 自然光刻
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低阻ITO玻璃的制造工艺 被引量:5
16
作者 杨健君 李军建 +5 位作者 张有润 王军 林慧 饶海波 蒋泉 成建波 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期261-263,共3页
有机发光显示器件是目前平板显示中的热点,所用ITO玻璃比液晶显示所用的有更高更严的要求。该文探讨了OLED用ITO玻璃生产的相关工艺,得出使用直流溅射ITO陶瓷靶时,较好的气氛是低氩微氧,功率约200W左右,溅射时基板温度约250℃,高温无氧... 有机发光显示器件是目前平板显示中的热点,所用ITO玻璃比液晶显示所用的有更高更严的要求。该文探讨了OLED用ITO玻璃生产的相关工艺,得出使用直流溅射ITO陶瓷靶时,较好的气氛是低氩微氧,功率约200W左右,溅射时基板温度约250℃,高温无氧退火。得到方阻20?以下、平均透过率大于80%的ITO玻璃。 展开更多
关键词 氧化铟锡 玻璃 有机发光二极管
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基于有机电致发光显示的透明导电膜ITO 被引量:12
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作者 占红明 饶海波 张化福 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第5期386-390,共5页
介绍了ITO作为OLED器件阳电极时,ITO各参数对OLED整体性能,如发光亮度、效率、寿命和稳定性的影响,并以溅射ITO工艺为例,分析了制备与处理环境对ITO的方阻、透过率、表面平整度及功函数的影响。针对其成因,提出了一些改进措施。对高性... 介绍了ITO作为OLED器件阳电极时,ITO各参数对OLED整体性能,如发光亮度、效率、寿命和稳定性的影响,并以溅射ITO工艺为例,分析了制备与处理环境对ITO的方阻、透过率、表面平整度及功函数的影响。针对其成因,提出了一些改进措施。对高性能平板显示OLED器件用透明导电阳极的研制具有一定的参考价值。 展开更多
关键词 铟锡氧化物膜 有机电致发光显示 透明导电膜 荧光寿命 表面平整度 透过率
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磁控溅射法制备ITO薄膜的结构及光电性能 被引量:5
18
作者 桂太龙 汪钢 +1 位作者 张秀芳 梁栋 《电子器件》 CAS 2009年第2期241-243,248,共4页
本文采用直流磁控溅射法在基板温度100℃、100%Ar气氛中制备了光电性能优良的铟锡氧化物(In2O3:SnO2=90:10,质量百分比)薄膜。利用XRD、AFM、SEM、多功能光栅光谱仪和四探针电阻测试仪对薄膜的结构、表面形貌、透光率和方阻进行了测定... 本文采用直流磁控溅射法在基板温度100℃、100%Ar气氛中制备了光电性能优良的铟锡氧化物(In2O3:SnO2=90:10,质量百分比)薄膜。利用XRD、AFM、SEM、多功能光栅光谱仪和四探针电阻测试仪对薄膜的结构、表面形貌、透光率和方阻进行了测定和分析,研究了溅射功率对薄膜透光率的影响。结果表明:ITO薄膜的方阻随溅射功率的增加而下降;经过热处理,ITO薄膜可见光透光率从60.4%增加到88.3%;ITO薄膜在360 nm到380 nm的紫光区域透光率最低,760 nm到800nm的红光区域透光率达到最高。 展开更多
关键词 ito薄膜 直流磁控溅射 透光率 微观结构 光电性能
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溶剂热-煅烧法合成纳米ITO粉体 被引量:2
19
作者 古映莹 秦利平 +4 位作者 吴会永 冯圣生 彭穗 宋丰轩 庄树新 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期36-38,共3页
本文采用溶剂热-煅烧法制备纳米铟锡复合氧化物(ITO)。以In(4N)、SnCl4.5H2O为起始原料,通过XRD、SEM及微波吸收性能的分析,考察了溶剂热反应中溶剂对ITO粉体结构及性能的影响。研究表明以1,4-丁二醇为溶剂,KBr为矿化剂(浓度0.5mol/L)在... 本文采用溶剂热-煅烧法制备纳米铟锡复合氧化物(ITO)。以In(4N)、SnCl4.5H2O为起始原料,通过XRD、SEM及微波吸收性能的分析,考察了溶剂热反应中溶剂对ITO粉体结构及性能的影响。研究表明以1,4-丁二醇为溶剂,KBr为矿化剂(浓度0.5mol/L)在260℃下醇热6h,得到结晶性良好的羟基氧化铟和锡掺杂氧化铟的混合物。溶剂热产物在550℃下煅烧2h得到纳米ITO粉体,醇热-煅烧产物的吸波性能良好。 展开更多
关键词 ito(铟锡氧化物) 水热 醇热 煅烧 微波吸收
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化学液相共沉淀法制备ITO纳米粉体的工艺研究 被引量:3
20
作者 黎铉海 魏坤 梁信源 《金属矿山》 CAS 北大核心 2008年第9期73-77,共5页
研究了以4N铟、锡锭为原料,以25%氨水为沉淀剂,采用点滴法滴加氨水的方式来制备铟锡氧化物(ITO)纳米粉体的化学液相共沉淀法。考察了反应初始铟浓度、反应温度、反应终点pH值和前驱体老化时间对ITO粉体粒径的影响。运用X射线衍射(... 研究了以4N铟、锡锭为原料,以25%氨水为沉淀剂,采用点滴法滴加氨水的方式来制备铟锡氧化物(ITO)纳米粉体的化学液相共沉淀法。考察了反应初始铟浓度、反应温度、反应终点pH值和前驱体老化时间对ITO粉体粒径的影响。运用X射线衍射(XRD)、差热-热重分析(DTA—TG)、透射电镜(TEM)、场发射扫描电镜(SEM)等检测手段对粉体进行了表征。在液相中加入1%的硅酸钠、反应温度为60oC、反应终点pH值为8、老化时间为2h、煅烧制度为4h、800℃的工艺条件下,所制得的ITO粉体具有立方晶系结构,粉体粒径在20-40nm之间,呈球形,颗粒均匀,且分散性能良好。该方法与以前的方法相比,原料来源简单,共沉淀工艺改善,反应条件更加温和,工艺设备简单,污染小,成本低,产品质量高,为ITO纳米粉体合成探索一条新的工艺路线。 展开更多
关键词 纳米粉体 铟锡氧化物 共沉淀法 前驱体
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