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Characterization of atomic-layer MoS_2 synthesized using a hot filament chemical vapor deposition method 被引量:1
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作者 彭英姿 宋扬 +3 位作者 解晓强 李源 钱正洪 白茹 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第5期423-428,共6页
Atomic-layer MoS_2 ultrathin films are synthesized using a hot filament chemical vapor deposition method. A combination of atomic force microscopy(AFM), x-ray diffraction(XRD), high-resolution transition electron ... Atomic-layer MoS_2 ultrathin films are synthesized using a hot filament chemical vapor deposition method. A combination of atomic force microscopy(AFM), x-ray diffraction(XRD), high-resolution transition electron microscopy(HRTEM), photoluminescence(PL), and x-ray photoelectron spectroscopy(XPS) characterization methods is applied to investigate the crystal structures, valence states, and compositions of the ultrathin film areas. The nucleation particles show irregular morphology, while for a larger size somewhere, the films are granular and the grains have a triangle shape. The films grow in a preferred orientation(002). The HRTEM images present the graphene-like structure of stacked layers with low density of stacking fault, and the interlayer distance of plane is measured to be about 0.63 nm. It shows a clear quasihoneycomb-like structure and 6-fold coordination symmetry. Room-temperature PL spectra for the atomic layer MoS_2 under the condition of right and left circular light show that for both cases, the A1 and B1 direct excitonic transitions can be observed. In the meantime, valley polarization resolved PL spectra are obtained. XPS measurements provide high-purity samples aside from some contaminations from the air, and confirm the presence of pure MoS_2. The stoichiometric mole ratio of S/Mo is about 2.0–2.1, suggesting that sulfur is abundant rather than deficient in the atomic layer MoS_2 under our experimental conditions. 展开更多
关键词 atomic-layer MoS2 hot filament chemical vapor deposition high-resolution transition electron microscopy(HRTEM) x-ray photoelectron spectroscopy(XPS)
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GENETIC OPTIMIZATION OF HOT FILAMENT PARAMETERS IN HFCVD SYSTEM
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作者 宋胜利 左敦稳 +3 位作者 王珉 相炳坤 卢文壮 黎向锋 《Transactions of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics》 EI 2003年第1期42-46,共5页
In HFCVD system the substrate temperature is a key factor which deeply affects the quality of diamond films. Th e magnitude and the variation of the substrate temperature must be limited in a suitable range to depo... In HFCVD system the substrate temperature is a key factor which deeply affects the quality of diamond films. Th e magnitude and the variation of the substrate temperature must be limited in a suitable range to deposit diamond films of uniform thickness over large areas. In this paper, the hot filament parameters are investigated on the basi s of GAs to realize a good substrate temperature profile. Computer simulations d emonstrate that on parameters optimized by GAs a uniform substrate temperatur e field can be formed over a relatively large circle area with R s=10 cm. 展开更多
关键词 hot filament chemical vapor deposition temperature field genetic algorithms optimization diamond fi lm
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Preparation of Large-Scale Double-Side BDD Electrodes and Their Electrochemical Performances 被引量:1
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作者 吴海兵 徐锋 +3 位作者 刘召志 周春 卢文壮 左敦稳 《Transactions of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics》 EI CSCD 2015年第6期674-680,共7页
Boron doped diamond(BDD)performs well in electrochemical oxidation for organic pollutants thanks to its wide electrochemical window and superior chemical stability.We presented a method to obtain well-adherent large-s... Boron doped diamond(BDD)performs well in electrochemical oxidation for organic pollutants thanks to its wide electrochemical window and superior chemical stability.We presented a method to obtain well-adherent large-scale BDD/Nb electrode by the modified hot filament chemical vapor deposition system(HFCVD).SiC particles were sand blasted to enhance the adhesion of BDD coating.The BDD coating was then deposited on both sides of Nb which was placed vertically and closely with filament grids on both sides.The BDD/Nb electrodes had no deformation because the thermal deformations of the BDD films on both sides of the Nb substrate conteracted each other during cooling process after deposition.The surface morphology and purity of the BDD/Nb electrode were analyzed by Raman and scanning elestron microscope(SEM)techniques.Scratch test was used to investigate the adhesion of BDD films.The electrochemical performances were measured by cyclic voltammetry test.The BDD electrode at the B/C ratio of 2 000×10^(-6) held a higher oxygen evolution potential thanks to its high sp3 carbon content.Accelerated life test illustrated that the sandblasting pretreatment obviously enhanced the adhesion of BDD coating which resulted in a longer service duration than the un-sandblasted one. 展开更多
关键词 hot filament chemical vapor deposition(CVD) boron doped diamond large-scale double side elec-trode electrochemical performances
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钨丝到基体表面距离对HFCVD金刚石薄膜质量的影响 被引量:2
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作者 赵齐 代明江 +2 位作者 韦春贝 邱万奇 侯惠君 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第22期22-25,共4页
以紫铜为基体,在紫铜上先采用磁控溅射技术镀一层金属铬,再以H2和CH4作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在铬过渡层上合成金刚石薄膜.利用X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(Raman)、扫描电镜(SEM)分析薄膜的结构、成分和... 以紫铜为基体,在紫铜上先采用磁控溅射技术镀一层金属铬,再以H2和CH4作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在铬过渡层上合成金刚石薄膜.利用X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(Raman)、扫描电镜(SEM)分析薄膜的结构、成分和表面形貌,采用洛式硬度计压痕试验测量了膜基结合力,研究了钨丝-基体表面距离对金刚石薄膜质量的影响.研究发现:当钨丝-基体表面距离在5~9mm时,金刚石晶型很好,薄膜致密度较好,晶粒的平均尺寸为6~7μm,薄膜内应力为-2.15 GPa;当钨丝-基体表面距离在9~15 mm时,金刚石的晶型相对较好,但薄膜致密性不好,晶粒的平均尺寸为7~8 μm,薄膜内应力为-1.59 GPa;当钨丝-基体表面距离大于15mm后,金刚石的晶型较差,不能形成连续的金刚石薄膜,晶粒的平均尺寸为5~6μm,薄膜内应力约为0 GPa;铬过渡层不能有效提高金刚石薄膜与铜基体的结合力. 展开更多
关键词 金刚石薄膜 铬过渡层 钨丝-基体表面距离 热丝化学气相沉积
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自支撑金刚石厚膜片的HFCVD法制备及摩擦学特性 被引量:1
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作者 冯伟 杨斌 卢文壮 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期97-102,共6页
探讨了自支撑金刚石厚膜片的晶体生长模型,并依据模型通过热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了厚度为0.6 mm的自支撑金刚石厚膜片.采用球-盘式摩擦磨损试验机进行摩擦学实验,借助扫描电镜、拉曼光谱仪等研究了自支撑金刚石厚膜片分别与钢... 探讨了自支撑金刚石厚膜片的晶体生长模型,并依据模型通过热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了厚度为0.6 mm的自支撑金刚石厚膜片.采用球-盘式摩擦磨损试验机进行摩擦学实验,借助扫描电镜、拉曼光谱仪等研究了自支撑金刚石厚膜片分别与钢球、陶瓷球以及铝球组成对偶副时的摩擦学特性.结果表明:铝球做对偶球时平均摩擦系数最大,在对磨初始阶段很快出现了金属转移层;陶瓷球做对偶球时摩擦系数最小,球表面物质的微观形貌呈微细碎屑状分布;对磨后自支撑金刚石厚膜片的磨损量非常小,是良好的耐磨材料. 展开更多
关键词 热丝化学气相沉积法 自支撑金刚石厚膜 摩擦系数 磨损
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EA-HFCVD沉积纳米金刚石膜的光致发光分析(英文)
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作者 祝雪丰 王林军 +4 位作者 胡广 刘健敏 黄健 徐金勇 夏义本 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期529-534,共6页
采用电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)在硅片上沉积出晶粒尺寸为30nm的均匀金刚石膜。生长过程中,预先加6A偏流生长1h,然后在0.8kPa条件下,无偏流生长3h。光致发光谱中存在4个发光中心分别位于1.682eV,1,564eV,1,518eV和1.512eV... 采用电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)在硅片上沉积出晶粒尺寸为30nm的均匀金刚石膜。生长过程中,预先加6A偏流生长1h,然后在0.8kPa条件下,无偏流生长3h。光致发光谱中存在4个发光中心分别位于1.682eV,1,564eV,1,518eV和1.512eV的发光峰。1.682eV处发光峰源于衬底硅原子掺杂于膜中引起的缺陷;其他发光峰源于金刚石晶格振动声子。光致发光强度越大对应的缺陷密度越大,从而降低了场发射域值电场强度,其关键可能源于金刚石膜电导型晶界。 展开更多
关键词 光致发光 纳米金刚石膜 电子辅助-热丝化学气相沉积
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惰性气体对HFCVD沉积金刚石气相基团的影响 被引量:3
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作者 范咏志 王传新 +4 位作者 易成 代凯 马志斌 王升高 吴超 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期87-91,共5页
发射光谱法是对等离子进行在线诊断的常用方法。在丙酮/H_2、丙酮/H_2/He和丙酮/H_2/Ar三种体系中,对热丝化学气相沉积金刚石薄膜过程中的等离子体进行了在线测量。研究了不同体积分数的惰性气体对等离子体中各活性基团强度的影响,以及C... 发射光谱法是对等离子进行在线诊断的常用方法。在丙酮/H_2、丙酮/H_2/He和丙酮/H_2/Ar三种体系中,对热丝化学气相沉积金刚石薄膜过程中的等离子体进行了在线测量。研究了不同体积分数的惰性气体对等离子体中各活性基团强度的影响,以及CH,Hβ与C_2的相对强度的比值、电子温度的大小随惰性气体体积分数的变化关系。结果表明,各基团的强度随着惰性气体体积分数的增加呈现上升趋势,且加入同体积分数的氩气比加入氦气的影响更大;CH,Hβ与C_2的相对强度比值、电子温度随着惰性气体体积分数的增加而呈现下降趋势,且在丙酮/H_2/Ar体系中要比丙酮/H_2/He体系中小。 展开更多
关键词 热丝化学气相沉积 惰性气体 发射光谱 金刚石薄膜
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衬底温度对HFCVD制备金刚石薄膜的影响 被引量:2
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作者 路一泽 檀柏梅 +2 位作者 高宝红 刘宜霖 胡新星 《微纳电子技术》 北大核心 2018年第2期130-134,共5页
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)法,通过改变衬底温度制备硼掺杂金刚石薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)表征薄膜的表面形貌、结晶质量和晶粒大小。结果表明:衬底温度从700℃升高到760℃,薄膜质量提高,晶... 采用热丝化学气相沉积(HFCVD)法,通过改变衬底温度制备硼掺杂金刚石薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)表征薄膜的表面形貌、结晶质量和晶粒大小。结果表明:衬底温度从700℃升高到760℃,薄膜质量提高,晶粒尺寸增大且缺陷减少,四探针测试显示薄膜电阻率逐渐降低,这是由于衬底表面的氢原子和含碳基团的迁移率增大,促进了粒子的反应和沉积,伴随着更多的硼原子替代碳原子形成B—C键,提高了硼掺杂效率;当衬底温度升高到790℃时,薄膜表面变得不平整,粒径减小且趋于非晶化,高温导致衬底和薄膜间的应力增大,表面堆积的含碳基团增多,抑制了硼原子的掺杂,薄膜电阻率增大。在丙酮流量60 cm3/min、氢气流量200 cm3/min、气压4 kPa、掺氧化硼的质量浓度为2 g/L的条件下,衬底温度为760℃时可制得高质量和低电阻率的金刚石薄膜。 展开更多
关键词 衬底温度 热丝化学气相沉积(hfcvd) 掺硼金刚石 电阻率 表面形貌
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HFCVD金刚石薄膜的热场模拟及实验 被引量:1
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作者 路一泽 檀柏梅 +2 位作者 高宝红 刘宜霖 张礼 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第1期53-58,共6页
基体温度是影响金刚石薄膜生长质量的重要因素之一。基于有限元分析法,通过ANSYS CFX软件对基体温度场进行模拟仿真,得到基体表面温度场的分布,并分别讨论了热丝-基体距离、热丝间距、水冷系数等参数对系统温度场均匀性和一致性的影响... 基体温度是影响金刚石薄膜生长质量的重要因素之一。基于有限元分析法,通过ANSYS CFX软件对基体温度场进行模拟仿真,得到基体表面温度场的分布,并分别讨论了热丝-基体距离、热丝间距、水冷系数等参数对系统温度场均匀性和一致性的影响。经仿真优化后得到的参数值分别为热丝-基体距离10 mm、热丝间距15 mm、水冷系数1 000 W/(m^2·K)。在此优化工艺的基础上进行热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石薄膜的实验,并采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜表面特征进行检测。结果表明:利用仿真优化后的薄膜生长参数,可以在金刚石薄膜生长区域得到比较均匀的多晶金刚石薄膜。 展开更多
关键词 热丝化学气相沉积(hfcvd) 金刚石薄膜 温度场 有限元分析 均匀性
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连续多试样纳米金刚石膜沉积设备及工艺 被引量:9
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作者 徐锋 左敦稳 +4 位作者 卢文壮 黎向锋 相炳坤 李磊 王珉 《南京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第B11期63-67,共5页
首先对热丝化学气相沉积(Chem ica l vapor depos ition,CVD)系统进行改造,设计了在真空室外对室内试样进行操纵的机械手系统和储料台,实现了一次热丝碳化后完成多个不同工艺条件下试样的连续沉积。有限元仿真研究结果表明,多衬底温度... 首先对热丝化学气相沉积(Chem ica l vapor depos ition,CVD)系统进行改造,设计了在真空室外对室内试样进行操纵的机械手系统和储料台,实现了一次热丝碳化后完成多个不同工艺条件下试样的连续沉积。有限元仿真研究结果表明,多衬底温度场比较均匀,适合于金刚石膜的生长。最后,采用改进沉积系统,在A r-CH4-H2气氛中,在多晶钼衬底上成功制备了纳米金刚石薄膜。R am an,XRD和AFM等结果表明,制备的金刚石纯度较高,晶粒大小在30 nm左右,表面光滑。 展开更多
关键词 纳米金刚石膜 热丝化学气相沉积 机械手 连续沉积
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化学气相沉积法连续SiC纤维的研究现状和发展趋势 被引量:9
11
作者 刘翠霞 杨延清 +2 位作者 徐婷 马志军 陈彦 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期35-37,40,共4页
综述了采用化学气相沉积法制备连续SiC纤维的研究进展,介绍了国内外化学气相沉积法制备的大直径、致密和均匀的SiC纤维的制备装置、制备工艺、性能、微观组织以及表面处理等热点研究方向,讨论了SiC纤维的制备工艺、性能和微观组织之间... 综述了采用化学气相沉积法制备连续SiC纤维的研究进展,介绍了国内外化学气相沉积法制备的大直径、致密和均匀的SiC纤维的制备装置、制备工艺、性能、微观组织以及表面处理等热点研究方向,讨论了SiC纤维的制备工艺、性能和微观组织之间的关系以及利用表面处理如何弥补SiC纤维的缺陷,指出了今后采用化学气相沉积法制备连续SiC纤维的研究重点和发展趋势。 展开更多
关键词 化学气相沉积 SIC纤维 制备技术
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铜衬底上热丝CVD法低温生长石墨烯薄膜的研究 被引量:7
12
作者 尤佳毅 沈鸿烈 李金泽 《电子器件》 CAS 北大核心 2014年第6期1017-1020,共4页
以乙炔作为碳源,抛光铜片作为衬底,采用热丝CVD法低温生长了石墨烯。通过拉曼散射光谱和紫外-可见分光光度计分析了样品的性能。结果表明,灯丝温度的提高有助于乙炔分解为对石墨烯晶粒形核生长比较有利的含碳活性基团。衬底温度的升高... 以乙炔作为碳源,抛光铜片作为衬底,采用热丝CVD法低温生长了石墨烯。通过拉曼散射光谱和紫外-可见分光光度计分析了样品的性能。结果表明,灯丝温度的提高有助于乙炔分解为对石墨烯晶粒形核生长比较有利的含碳活性基团。衬底温度的升高增强了铜衬底对石墨烯生长的催化作用。通过调整气体流量中乙炔的比例,可以有效降低石墨烯薄膜的层数。最终在乙炔浓度为2%,衬底温度为450℃的低衬底温度条件下制得了的单层石墨烯纳米晶薄膜。 展开更多
关键词 石墨烯 低温 热丝化学气相沉积 气态碳源
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掺硼金刚石薄膜电极的制备及电化学特性 被引量:3
13
作者 王帅 檀柏梅 +2 位作者 高宝红 张男男 安卫静 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期378-381,共4页
通过热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,在钽衬底上制备了p型掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。利用原子力显微镜(AFM)分析丙酮体积分数对BDD电极的表面形貌和成膜质量的影响,利用循环伏安法(CV)分析BDD电极在不同种类、不同浓度电解液中的电化学特... 通过热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,在钽衬底上制备了p型掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。利用原子力显微镜(AFM)分析丙酮体积分数对BDD电极的表面形貌和成膜质量的影响,利用循环伏安法(CV)分析BDD电极在不同种类、不同浓度电解液中的电化学特性。结果表明,当丙酮体积分数为1.5%时,金刚石薄膜表现出优异的附着力,并且BDD电极具有稳定的电化学特性。采用制备的BDD电极,在不同浓度的KCl和KH2PO4电解液中使用,得出电势窗口均在3.4 V以上。 展开更多
关键词 掺硼金钢石(BDD)薄膜电极 热丝化学气相淀积(hfcvd) 循环伏安法(CV) 丙酮体积分数 电化学窗口
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全密封超薄碳纳米管玻璃平板字符显示器件制造工艺的初步探讨 被引量:4
14
作者 李宏彦 刘光诒 +5 位作者 夏善红 叶久龙 杨久霞 支春义 王恩哥 戴居丰 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期476-480,共5页
利用自制的场助热丝化学气相沉积设备,在不锈钢电极的部分选取表面上,摸索出了直接生长碳纳米管(CNT s)勿须涂敷催化剂的新方法。利用得到的高定向多壁碳纳米管薄膜,研究出一种制造大面积实用碳纳米管阵列场发射(CNT s/FEA)阴极的新方... 利用自制的场助热丝化学气相沉积设备,在不锈钢电极的部分选取表面上,摸索出了直接生长碳纳米管(CNT s)勿须涂敷催化剂的新方法。利用得到的高定向多壁碳纳米管薄膜,研究出一种制造大面积实用碳纳米管阵列场发射(CNT s/FEA)阴极的新方法。经真空条件下的发射特性测量及SEM等检测手段肯定了这种CNT s/FEA阴极的实用性。从工艺流程角度出发,初步探讨了静态工作制式下,采用碳纳米管做电极后,实现一种全密封超薄碳纳米管玻璃真空字符(或图像)显示器件的可能性。10多只封离管共显示过3种类型的字型(图像),全部管厚仅为2·7mm。实验结果不仅提供了一种碳纳米管阴极在玻璃真空平板型器件内应用的方法,也摸索出了一条实现小尺寸双色(或多色)字符(图像)静态(或动态)显示的廉价、节能途径。 展开更多
关键词 碳纳米管 阵列场电子发射电子源 平板型字符显示器件 场助(或偏置增强)热丝化学气相沉积 二极管 荧光粉
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硫化锌体材料制备及其光学性能研究进展 被引量:5
15
作者 吴绍华 赵劲松 +6 位作者 赵跃进 杨伟声 姜杰 李茂忠 董汝昆 母婷婷 郑丽和 《红外技术》 CSCD 北大核心 2022年第5期453-461,共9页
多光谱波段透过型ZnS体材料在整流罩、红外透镜、红外窗口等领域具有广泛应用。本文全面梳理和总结了ZnS体材料制备技术的最新研究进展,包括热压技术、化学气相沉积+热等静压技术等。分析了不同制备方法对ZnS体材料光学性能的影响因素... 多光谱波段透过型ZnS体材料在整流罩、红外透镜、红外窗口等领域具有广泛应用。本文全面梳理和总结了ZnS体材料制备技术的最新研究进展,包括热压技术、化学气相沉积+热等静压技术等。分析了不同制备方法对ZnS体材料光学性能的影响因素。最后展望了ZnS体材料的未来发展方向。 展开更多
关键词 硫化锌体材料 红外光学窗口 热压法 化学气相沉积 热等静压
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取向碳纳米管阵列的等离子体复合化学气相沉积法制备 被引量:4
16
作者 陈易明 张海燕 +3 位作者 朱清锋 陈雨婷 陈列春 杨大勇 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期470-474,共5页
采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积技术,用旋涂法制备负载催化剂的硅片衬底,以CH4为碳源制备出取向碳纳米管阵列薄膜.利用扫描电子显微镜对不同还原时间和不同N i(NO3)2浓度下制备的催化剂基片和取向碳纳米管阵列薄膜进行形貌分析... 采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积技术,用旋涂法制备负载催化剂的硅片衬底,以CH4为碳源制备出取向碳纳米管阵列薄膜.利用扫描电子显微镜对不同还原时间和不同N i(NO3)2浓度下制备的催化剂基片和取向碳纳米管阵列薄膜进行形貌分析,用透射电子显微镜和拉曼光谱对碳纳米管进行表征.结果表明,在H2-N2气氛中热还原后硅片上的催化剂粒径均匀,排列致密,利用该法制备的碳纳米管为竹节型多壁碳纳米管,管径分布均匀,管长约5μm.碳纳米管阵列薄膜垂直于硅片衬底生长,生长排列均匀致密,具有良好的取向性. 展开更多
关键词 取向碳纳米管阵列 热丝射频等离子体复合化学气相沉积 旋涂法
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金刚石薄膜的形核研究 被引量:4
17
作者 孙秀平 李超 +2 位作者 张先徽 冯克成 曲直 《长春理工大学学报(自然科学版)》 2003年第4期78-80,共3页
本文介绍了当前金刚石薄膜形核的现状及用热丝化学气相沉积法在不同的衬底上沉积金刚石膜 ,对Si、Ni、Cu三种衬底生长的金刚石膜进行研究如何增大形核密度、提高形核质量。得到了制备高密度和高质量的金刚石膜的方法。
关键词 热丝化学气相沉积 形核 金刚石薄膜 外延生长
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酸刻蚀处理对Si(100)和Si(111)上制备CVD金刚石膜的影响 被引量:1
18
作者 魏秋平 宋玉波 +3 位作者 余志明 胡应涛 尹登峰 马莉 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期650-657,共8页
对Si(100)和Si(111)采用相同的酸刻蚀工艺,采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)制备金刚石膜。用扫描电子显微镜、X线衍射仪和X线应力测试仪对样品的形貌、织构及残余应力进行检测、分析。研究结果表明:沉积3 h后,Si(100)和Si(111)基体上均... 对Si(100)和Si(111)采用相同的酸刻蚀工艺,采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)制备金刚石膜。用扫描电子显微镜、X线衍射仪和X线应力测试仪对样品的形貌、织构及残余应力进行检测、分析。研究结果表明:沉积3 h后,Si(100)和Si(111)基体上均生长出晶形比较完整,呈柱状晶方式生长的金刚石薄膜;此外,Si(100)金刚石膜表面分布着大量的微孔,通过调整沉积工艺可控制微孔的数量和尺寸,而Si(111)金刚石膜表面无微孔出现;2种基体所得薄膜都存在(111)织构,后者Si(111)还有一定的(110)织构;2种基体经酸刻蚀之后制得薄膜均无鼓泡剥离现象,二者的残余应力相差不大。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 热丝化学气相沉积 酸刻蚀
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基体预处理对氧化铍基金刚石膜性能的影响 被引量:1
19
作者 方梅 余志明 +2 位作者 肖柱 陈爽 陈永勤 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期19-22,共4页
通过改变氧化铍基体的预处理方法,研究了热丝化学气相沉积系统中金刚石薄膜与氧化铍基体的结合情况,及其对导热性能的影响.分别利用金相显微镜和扫描电镜观察薄膜的剥落程度和其表面形貌,利用激光热物性测试仪测量基体和金刚石膜/氧化... 通过改变氧化铍基体的预处理方法,研究了热丝化学气相沉积系统中金刚石薄膜与氧化铍基体的结合情况,及其对导热性能的影响.分别利用金相显微镜和扫描电镜观察薄膜的剥落程度和其表面形貌,利用激光热物性测试仪测量基体和金刚石膜/氧化铍复合体的热扩散系数,并计算其热导率.实验结果表明:水磨砂纸研磨和氢氟酸处理均能有效提高金刚石薄膜与基体的结合情况;氢氟酸处理时间10min时可得到致密连续、表面均匀的金刚石薄膜,此时复合体的热导率较原来的氧化铍基体可提高31.4%. 展开更多
关键词 热丝化学气相沉积 金刚石薄膜 基体预处理 氧化铍 热导率
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YT类硬质合金成形铣刀的金刚石涂层工艺研究 被引量:2
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作者 许幸新 张晓辉 +1 位作者 张春林 郑友益 《河南理工大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2014年第4期472-477,共6页
针对YT15硬质合金B212型成形铣刀片,以两种不同的化学方式对硬质合金基体进行预处理,而后采用热丝化学气相沉积的方法在其表面沉积微米级金刚石薄膜.使用扫描电子显微镜观察金刚石薄膜颗粒的大小及均匀度,激光拉曼光谱仪检测金刚石涂层... 针对YT15硬质合金B212型成形铣刀片,以两种不同的化学方式对硬质合金基体进行预处理,而后采用热丝化学气相沉积的方法在其表面沉积微米级金刚石薄膜.使用扫描电子显微镜观察金刚石薄膜颗粒的大小及均匀度,激光拉曼光谱仪检测金刚石涂层的成分,压痕法检验金刚石涂层刀片的膜-基附着强度,并就不同预处理的基体表面对金刚石薄膜的质量、附着性能的影响进行分析.结果表明,经预处理后的YT类硬质合金表面粗糙度较YG类降低约10%,采用平行布置热丝方式和现有的沉积工艺在YT类硬质合金衬底涂覆的金刚石薄膜均匀性较好,且经酸碱预处理的金刚石薄膜表现出良好的附着力,附着强度介于600~1 000 N,醇碱预处理对衬底表面原有的光洁度损坏较小,有助于细化金刚石晶粒,但膜-基附着强度不高. 展开更多
关键词 金刚石涂层 YT硬质合金成形刀具 预处理 热丝化学气相沉积
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