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一种随机极性MCP-EBPSK调制解调器 被引量:9
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作者 靳一 吴乐南 +1 位作者 冯熳 邓蕾 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2012年第7期1647-1652,共6页
为改善随机极性的连续相应的扩展二元相移键控(CP-EBPSK)调制信号的频谱结构,该文提出一种带功率谱形状调节系数的随机极性修正CP-EBPSK(Modified CP-EBPSK,MCP-EBPSK)调制解调器。阐述了随机极性MCP-EBPSK调制的基本原理,给出了无随机... 为改善随机极性的连续相应的扩展二元相移键控(CP-EBPSK)调制信号的频谱结构,该文提出一种带功率谱形状调节系数的随机极性修正CP-EBPSK(Modified CP-EBPSK,MCP-EBPSK)调制解调器。阐述了随机极性MCP-EBPSK调制的基本原理,给出了无随机极性的MCP-EBPSK调制理论功率谱表达式。同时,设计了合适的数字冲击滤波器用于解调,给出了无编码的随机极性MCP-EBPSK通信系统框图,分析和验证了该类调制信号的功率谱特性和解调性能,并对多径信道上的解调性能进行了仿真。仿真结果表明:新的调制方式通过对功率谱形状的调节,不仅频谱利用率更高,解调性能也更好;现阶段,该系统不适合在无线信道传输,有望在有线信道上率先获得应用。 展开更多
关键词 连续相位的扩展二元相移键控(cp-EBPSK) 功率谱调节系数 Mcp-EBPSK 数字冲击滤波器
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伪随机调制序列的CP-EBPSK通信系统 被引量:8
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作者 张宇 应鹏魁 吴乐南 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期209-213,共5页
为了紧缩通信系统的信号频谱,减少其线谱能量,引入了一种伪随机序列调制方法.该方法通过对连续相位扩展的二元相移键控(CP-EBPSK)通信系统进行改进,使发射端键控调制时段的相位变化受控于伪随机序列,从而使CP-EBPSK调制指数的符号随机化... 为了紧缩通信系统的信号频谱,减少其线谱能量,引入了一种伪随机序列调制方法.该方法通过对连续相位扩展的二元相移键控(CP-EBPSK)通信系统进行改进,使发射端键控调制时段的相位变化受控于伪随机序列,从而使CP-EBPSK调制指数的符号随机化,同时保持CP-EB-PSK通信系统其他组成部分不变.仿真结果表明,该方法可使调制信号占用的带宽仅为CP-EB-PSK通信系统带宽的一半,显著提高了频谱的利用率.即使在-60 dB带宽的苛刻要求下,当信号载频分别为30 MHz和2.4 GHz时,伪随机序列调制的CP-EBPSK通信系统以约35 dB的信噪比为代价,获得超过200 bit/(s.Hz)的频谱利用率,大幅度紧缩了频谱,提高了系统整体性能.同时,接收机冲击滤波器的特殊滤波效果导致解调器可不受调制符号随机化的影响,从而使得解调器的解调性能基本不变. 展开更多
关键词 伪随机序列 cp-EBPSK调制 冲击滤波器 频谱利用率 误码率
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传名调用演算的二值传递CPS变换
3
作者 喻钢 柳欣欣 《软件学报》 EI CSCD 北大核心 2008年第10期2508-2516,共9页
为Plotkin带常数传名调用λ演算定义了一个新的CPS(continuation-passing-style)变换方法.方法基于求值上下文变换,新颖之处在于,每次传递二值给继续而不是常规的一值.先给出二值CPS变换编码,再在此基础上定义CPS语言,最后建立源语言和... 为Plotkin带常数传名调用λ演算定义了一个新的CPS(continuation-passing-style)变换方法.方法基于求值上下文变换,新颖之处在于,每次传递二值给继续而不是常规的一值.先给出二值CPS变换编码,再在此基础上定义CPS语言,最后建立源语言和CPS语言的一一映射关系并证明Plotkin的模拟定理.与Plotkin的工作比较,工作特点在于,给出了一个CPS归约闭语言,该语言中所有继续都可以用函数形式表达,且模拟定理的可靠性和完备性方向证明更为简单. 展开更多
关键词 程序演算 形式语义 传名调用 cpS(continuation-passing-style) 归约
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全口径环形抛光的光学元件面形误差影响因素及其控制 被引量:1
4
作者 廖德锋 张明壮 +2 位作者 谢瑞清 赵世杰 许乔 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期333-343,共11页
全口径环形抛光是加工大口径平面光学元件的关键技术之一,其瓶颈问题是元件面形的高效高精度控制。通过研究元件面形的影响因素及其控制方法从而提升其确定性控制水平。围绕影响面形误差的运动速度、抛光盘表面形状误差和钝化状态等关... 全口径环形抛光是加工大口径平面光学元件的关键技术之一,其瓶颈问题是元件面形的高效高精度控制。通过研究元件面形的影响因素及其控制方法从而提升其确定性控制水平。围绕影响面形误差的运动速度、抛光盘表面形状误差和钝化状态等关键工艺因素,建立基于运动轨迹有效弧长的环形抛光运动学模型,揭示了抛光盘表面开槽槽型对面形误差的影响规律;提出了采用位移传感器以螺旋路径扫描抛光盘表面并通过插值算法生成其形状误差的方法,建立基于小工具的子口径修正方法,实现了抛光盘形状误差的在位定量修正;提出抛光盘表面钝化状态的监测方法,研究了抛光盘表面钝化状态对面形误差的影响规律。结果表明:抛光盘表面开槽采用环形槽时元件表面容易产生环带特征,采用径向槽、方形槽和螺旋槽时元件表面较为匀滑;通过在位定量检测和修正抛光盘形状误差,可显著提升元件的面形精度;随着抛光盘表面的逐渐钝化,元件面形逐渐恶化。在研制的5 m直径大口径环形抛光机床上加工800 mm×400 mm×100 mm平面元件的面形PV值优于λ/6(λ=632.8 nm),提升了元件的面形控制效率和精度。 展开更多
关键词 光学加工 全口径环形抛光 面形误差 影响规律 控制方法
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大型连续绿茶精制加工生产线研发 被引量:2
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作者 曹成茂 孙燕 +5 位作者 汪三九 秦宽 吴正敏 吴敏 毕海军 葛俊 《安徽农学通报》 2024年第14期1-6,F0002,共7页
茶叶加工技术与装备是茶叶产业发展的基础,对行业发展起着举足轻重的作用。为实现绿茶加工机械自动化生产,设计了大型连续绿茶精制加工生产线,阐述了该生产线系统结构、主要生产环节及安装调试应用。基于PLC控制的大型连续绿茶精制加工... 茶叶加工技术与装备是茶叶产业发展的基础,对行业发展起着举足轻重的作用。为实现绿茶加工机械自动化生产,设计了大型连续绿茶精制加工生产线,阐述了该生产线系统结构、主要生产环节及安装调试应用。基于PLC控制的大型连续绿茶精制加工生产线,主要由鲜叶上料输送机、大型滚筒杀青机、冷却回潮机、四机协同联动式揉捻机组、并列连续预烘干机组、储料仓、计量分料装置、茶叶炒干与抛光机组、筛分装置、风选装置及配套的测控系统等组成。针对绿茶加工工艺的各个环节,采用模块化设计,根据茶叶加工企业的厂房实际情况,灵活安装组线,满足企业个性化需求。基于模糊PID温度控制的大型滚筒杀青机双模糊控制技术,解决了传统杀青温度与时间无法实现精确控制的难点问题。采用链式刮板输送智能加料装置与多机联动协同连续揉捻控制技术,实现多机协同联动式自动加料连续揉捻,边进料边揉捻,揉捻均匀度高。生产线上杀青机、理条机和烘干机各环节温度采用模糊PID控制,解决了茶叶加工温度、投叶量与杀青、理条、烘干时间实时配合的问题,输入不同等级、不同重量的鲜叶可输出相适应的杀青温度和时间,实现对茶叶生产过程的精确控制,减少人为因素的干扰,实现绿茶的智能化生产。近年来,生产线用户遍布皖、苏、浙、云、贵、川、豫、湘、鄂和陕等10多个省份200余家茶叶生产企业。该生产线的推广应用,实现了茶叶规模化生产,保证了茶叶品质,对茶产业发展具有重要意义。 展开更多
关键词 绿茶加工 大型滚筒 PLC控制 生产线 杀青 连续揉捻 炒干 抛光
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大型环抛机蜡盘平面度的测量 被引量:8
6
作者 王哲 徐学科 +6 位作者 邵建达 顿爱欢 杨明红 范永涛 方媛媛 高文兰 刘方 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期3048-3053,共6页
针对大口径平面光学元件全频谱面形技术指标的高效率、高精度收敛,研究了环形抛光技术。考虑环抛机沥青蜡盘的平面度直接影响工件面形的收敛效率,本文利用准直激光束作为参考,设计研制了测量精度高,重复性精度达到±1μm的大型环抛... 针对大口径平面光学元件全频谱面形技术指标的高效率、高精度收敛,研究了环形抛光技术。考虑环抛机沥青蜡盘的平面度直接影响工件面形的收敛效率,本文利用准直激光束作为参考,设计研制了测量精度高,重复性精度达到±1μm的大型环抛机抛光蜡盘平面度测量专用装置。分析了环抛过程中蜡盘表面平面度和工件面型PV值之间的变化规律和相关性,根据测量数据得出了蜡盘平面度数据和工件面形的对应关系。实验显示:当平面度和面形曲线相差较大时,工件面形可快速收敛至1λ左右,并由粗抛向精抛工序快速过渡。提出的大型环抛机抛光蜡盘平面度监测装置实现了对湿滑胶体平面的高精度、快速测量,为环抛的确定性抛光工艺提供了重要的技术支持。 展开更多
关键词 环形抛光 大型环抛机 抛光蜡盘 平面度测量
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酶膜耦合连续法制备玉米肽解酒及防醉研究 被引量:7
7
作者 吕杰 何慧 +3 位作者 范允卿 王真真 聂志奎 马芝丽 《食品科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第17期241-245,共5页
为了考察酶膜耦合连续法制备的玉米肽(CP)在动物体内的解酒及防醉效果,并与间歇法制备的CP进行比较,采用小鼠模型分别进行翻正反射实验、解酒和防醉实验,并以市售海王金樽为阳性对照,观察小鼠的醉酒只数和醉酒时间,测定小鼠血清中乙醇... 为了考察酶膜耦合连续法制备的玉米肽(CP)在动物体内的解酒及防醉效果,并与间歇法制备的CP进行比较,采用小鼠模型分别进行翻正反射实验、解酒和防醉实验,并以市售海王金樽为阳性对照,观察小鼠的醉酒只数和醉酒时间,测定小鼠血清中乙醇体积分数及肝脏乙醇脱氢酶(ADH)的活力。结果表明:酶膜耦合连续法制备的CP能极显著地缩短小鼠醉酒时间及降低酒后血清中乙醇体积分数(P<0.01),极显著激活其肝脏ADH活力(P<0.01);各项数据均显示CP具有良好的解酒、防醉效果,连续法制备的CP其醒酒效果优于间歇法制备的CP;CP的摄入时间与饮酒时间间隔短是有利的;摄入300mg/kg(以体质量计)连续法制备的CP其解酒效果与摄入450mg/kg海王金樽相当。酶膜耦合连续法制备的CP是良好的醒酒物。 展开更多
关键词 玉米肽 解酒防醉 连续法
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影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟 被引量:8
8
作者 曹冲 冯国英 +4 位作者 杨李茗 王岚 高耀辉 朱海波 陈建国 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期67-71,共5页
利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响。模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀。在这三个影响因素中,转速... 利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响。模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀。在这三个影响因素中,转速比的作用最为显著。实现均匀磨削所需的压强应为二次型分布。这些为超精密环抛提供了指导,有助于实现主动控制。 展开更多
关键词 连续环行抛光 压强梯度 偏心距 转速比
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连续进动气囊抛光行间距优化及实验研究 被引量:7
9
作者 金明生 计时鸣 +2 位作者 张利 陈伟强 蒋鑫鑫 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期861-865,共5页
为提高和调控模具加工质量,针对行切法连续进动气囊抛光的行间距优化问题进行了仿真分析和实验研究。在取得优化进给速度和叠加次数的基础上,兼顾抛光效率与抛光效果,运用二分法原理,通过MATLAB仿真分析了行间距对气囊抛光材料去除特性... 为提高和调控模具加工质量,针对行切法连续进动气囊抛光的行间距优化问题进行了仿真分析和实验研究。在取得优化进给速度和叠加次数的基础上,兼顾抛光效率与抛光效果,运用二分法原理,通过MATLAB仿真分析了行间距对气囊抛光材料去除特性的影响,获得了优化行间距D=8.2mm。基于建立的连续进动气囊抛光离线规划原型系统进行了实验对比验证,实验结果与仿真结果吻合。 展开更多
关键词 连续进动 气囊抛光 行间距 离线规划 优化
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大口径激光玻璃环抛光学沥青抛光胶 被引量:3
10
作者 单海洋 徐学科 +2 位作者 贺洪波 易葵 邵建达 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第8期1989-1994,共6页
研制了四种不同沥青和松香含量的光学沥青抛光胶,对其形貌、针入度、玻璃化转变温度、软化点和粘度等参量进行了表征。从组成和结构分析了抛光胶三种物理状态变化原因,将玻璃化转变温度和软化点作为其临界转变温度。实验研究了四种抛光... 研制了四种不同沥青和松香含量的光学沥青抛光胶,对其形貌、针入度、玻璃化转变温度、软化点和粘度等参量进行了表征。从组成和结构分析了抛光胶三种物理状态变化原因,将玻璃化转变温度和软化点作为其临界转变温度。实验研究了四种抛光胶对大口径激光玻璃的抛光效果,发现抛光胶中沥青和松香的质量分数分别为30%和70%时,抛光效果比较理想,在像散和表面疵病控制方面能够满足要求,可作为大口径激光玻璃抛光专用胶。 展开更多
关键词 大口径激光玻璃 环抛 光学沥青抛光胶 像散
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纳米级面形精度光学平面镜加工 被引量:7
11
作者 张峰 《中国光学》 EI CAS 2014年第4期616-621,共6页
为实现纳米级面形精度光学平面镜的高效精密抛光,提出了一种由传统环带抛光技术和先进离子束抛光技术相结合的组合式加工方法。介绍了环带抛光技术和离子束抛光技术的原理,通过实验研究了离子束抛光的材料去除函数,并采用这种组合抛光... 为实现纳米级面形精度光学平面镜的高效精密抛光,提出了一种由传统环带抛光技术和先进离子束抛光技术相结合的组合式加工方法。介绍了环带抛光技术和离子束抛光技术的原理,通过实验研究了离子束抛光的材料去除函数,并采用这种组合抛光方法对口径为150 mm的平面镜进行抛光,抛光后平面镜的面形误差和表面粗糙度分别达到1.217nm RMS和0.506 nm RMS。实验结果表明,这种组合抛光技术适合纳米级面形精度光学平面镜的加工。 展开更多
关键词 光学加工 环带抛光 离子束抛光 材料去除函数
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基于正弦型光滑打磨函数对0-1规划问题的连续化求解方法 被引量:1
12
作者 隋允康 李臻臻 +1 位作者 李宏 陈国庆 《运筹学学报》 CSCD 北大核心 2017年第3期35-44,共10页
传统的求解0-1规划问题方法大多属于直接离散的解法.现提出一个包含严格转换和近似逼近三个步骤的连续化解法:(1)借助阶跃函数把0-1离散变量转化为[0,1]区间上的连续变量;(2)对目标函数采用逼近折中阶跃函数近光滑打磨函数,约束条件采... 传统的求解0-1规划问题方法大多属于直接离散的解法.现提出一个包含严格转换和近似逼近三个步骤的连续化解法:(1)借助阶跃函数把0-1离散变量转化为[0,1]区间上的连续变量;(2)对目标函数采用逼近折中阶跃函数近光滑打磨函数,约束条件采用线性打磨函数逼近折中阶跃函数,把0-1规划问题由离散问题转化为连续优化模型;(3)利用高阶光滑的解法求解优化模型.该方法打破了特定求解方法仅适用于特定类型0-1规划问题惯例,使求解0-1规划问题的方法更加一般化.在具体求解时,采用正弦型光滑打磨函数来逼近折中阶跃函数,计算效果很好. 展开更多
关键词 阶跃函数 0-1规划问题 离散 连续 折中阶跃函数 光滑打磨函数 正弦型打磨函数
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基于双磨头的磁流变抛光机床与工艺研究 被引量:2
13
作者 黄文 张云飞 +3 位作者 郑永成 罗清 侯晶 袁志刚 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期494-499,共6页
针对传统单磨头磁流变抛光技术的不足,提出了一种新的双磨头磁流变抛光方法,并研制了一台八轴数控双磨头磁流变抛光机,具备了大口径平面、非球面及连续位相板的超精密、高效率加工能力。分别研究了大、小磨头材料去除特性及面形修正能力... 针对传统单磨头磁流变抛光技术的不足,提出了一种新的双磨头磁流变抛光方法,并研制了一台八轴数控双磨头磁流变抛光机,具备了大口径平面、非球面及连续位相板的超精密、高效率加工能力。分别研究了大、小磨头材料去除特性及面形修正能力,不仅获得了稳定、有效的大、小抛光斑,而且获得了超精的大、小平面工艺样件。50mm小平面经小磨头一次连续抛光,在45mm内其面形精度PV由0.21λ收敛至0.08λ、RMS由0.053λ收敛至0.015λ;430mm×430mm大平面经大磨头3次迭代抛光,在410mm×410mm内其面形精度PV由0.4λ收敛至0.1λ、RMS由0.068λ收敛至0.013λ。由此表明,所研制的双磨头磁流变抛光机床具有较好的材料去除特性和较强的面形修形能力。 展开更多
关键词 双磨头磁流变抛光 大口径连续位相板 材料去除特性 面形修正能力
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连续位相板数控化学抛光制造技术研究 被引量:1
14
作者 杨春林 侯晶 周礼书 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2010年第8期117-121,共5页
将化学抛光工艺用于大口径连续位相板(CPP)的制造中,介绍了作为加工基础的Marangoni效应和化学抛光去除函数。在此基础上,结合CPP元件的面形特征,设计了小口径化学磨头。通过工艺实验讨论了刻蚀溶液中不同浓度NH4F添加量对刻蚀速率的影... 将化学抛光工艺用于大口径连续位相板(CPP)的制造中,介绍了作为加工基础的Marangoni效应和化学抛光去除函数。在此基础上,结合CPP元件的面形特征,设计了小口径化学磨头。通过工艺实验讨论了刻蚀溶液中不同浓度NH4F添加量对刻蚀速率的影响,实验结果表明,NH4F添加量为10%~13%时可以获得最高的刻蚀速率。通过实验测算了温度波动在±1℃时,刻蚀速率的相对误差为7.8%。根据相关工艺参数设计了工艺流程,并针对不同面形特征的CPP元件进行了实际的加工,得到了与设计结果相符合的制造结果。 展开更多
关键词 光学制造 连续位相板 化学抛光 刻蚀速率
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三参数区间数调和平均算子及决策应用 被引量:5
15
作者 卫贵武 《系统工程与电子技术》 EI CSCD 北大核心 2009年第12期2888-2892,共5页
针对决策信息以三参数区间数据形式给出的多属性决策问题,提出了一些新的三参数区间数据信息的集成算子和决策方法。基于连续区间数据有序加权调和平均(C-OWHA)算子,定义了连续的三参数区间数据有序加权调和平均(CP-OWHA)算子,并将该算... 针对决策信息以三参数区间数据形式给出的多属性决策问题,提出了一些新的三参数区间数据信息的集成算子和决策方法。基于连续区间数据有序加权调和平均(C-OWHA)算子,定义了连续的三参数区间数据有序加权调和平均(CP-OWHA)算子,并将该算子进行了拓展,提出了加权调和CP-OWHA(WHCP-OWHA)算子、有序加权调和CP-OWHA(OWHCP-OWHA)算子和组合的CP-OWHA(CCP-OWHA)算子。进一步证明了WHCP-OWHA算子和OWHCP-OWHA算子均为CCP-OWHA算子的特例。CCP-OWHA算子同时推广了WHCP-OWHA算子和OWHCP-OWHA算子,CCP-OWHA算子不仅考虑了每个数据的自身重要性程度,而且还体现了该数据所在位置的重要性程度。基于WHCP-OWHA算子和CCP-OWHA算子,提出了一种属性权重和专家权重均为确定实数且属性值为三参数区间数的多属性群决策方法。最后给出了一个数值例子,结果表明该方法有效。 展开更多
关键词 多属性群决策 三参数区间数 连续的三参数区间数据有序加权调和平均算子 加权调和cp-OWHA算子 有序加权调和cp-OWHA算子 组合cp-OWHA算子
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载波相移三相单管电路在直驱系统中的应用 被引量:1
16
作者 许鸿雁 李建林 +1 位作者 高志刚 许洪华 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期132-137,共6页
为改善传统的直驱型风力发电系统中永磁同步发电机的谐波特性,从功率因数校正(PFC)、升压和提高系统容量的角度出发,将3个三相单管Boost型PFC电路交错运行的方案应用在直驱系统中。结果表明,在支路电流均工作于断续电流模式时,合成电流... 为改善传统的直驱型风力发电系统中永磁同步发电机的谐波特性,从功率因数校正(PFC)、升压和提高系统容量的角度出发,将3个三相单管Boost型PFC电路交错运行的方案应用在直驱系统中。结果表明,在支路电流均工作于断续电流模式时,合成电流基本工作于连续电流模式,谐波特性良好。三相单管BoostPFC电路具有开关频率固定、元件数量少、成本低、控制简单、可靠性高等优点,该拓扑能对永磁同步发电机的输出进行功率因数校正,减少发电机电流的谐波含量和发电机损耗,提高发电机的有功功率输出能力和系统效率。采用载波相移技术能在较低的器件开关频率下实现较高开关频率的效果,通过低次谐波的相互抵消提高等效开关频率而不是简单地将谐波向高次推移,能在提高装置容量的同时,有效地减小输出谐波,提高整个装置的信号传输带宽。仿真验证了该方法的可行性和有效性。 展开更多
关键词 直接驱动 三相单管 功率因数校正 载波相移 交错运行 断续电流模式 连续电流模式
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环形抛光中频误差的计算模拟
17
作者 谢磊 张云帆 +3 位作者 游云峰 马平 刘义彬 鄢定尧 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期3307-3310,共4页
通过建立环形抛光的去除模型,从理论上分析了转速比、槽形、元件摆动对于抛光结果的影响,并分析了中频误差产生的原因。模拟结果表明:转速比的差异会产生较大的低频误差,而中频误差会随着低频误差的降低而降低;槽形是中频误差的主要来源... 通过建立环形抛光的去除模型,从理论上分析了转速比、槽形、元件摆动对于抛光结果的影响,并分析了中频误差产生的原因。模拟结果表明:转速比的差异会产生较大的低频误差,而中频误差会随着低频误差的降低而降低;槽形是中频误差的主要来源,复杂的非对称不规律槽形使抛光路径复杂化,降低中频误差;同时元件的小幅度摆动能够使抛光更加均匀,减小定心式抛光造成的元件表面规则状纹路结构,从而有效减小元件的中频误差。 展开更多
关键词 环形抛光 中频误差 模拟 转速比 槽形
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函数式语言方法在网络交互程序中的应用
18
作者 吕品 喻刚 《计算机工程与设计》 CSCD 北大核心 2009年第6期1315-1320,共6页
网络应用程序中为了保持程序的交互性,服务器端的控制程序如CGI(command gateway interface)程序需要在不同的脚本程序之间切换,这样不可避免的会造成控制信息的丢失。为了避免这些问题,介绍了将函数式程序设计语言的一些方法,如Continu... 网络应用程序中为了保持程序的交互性,服务器端的控制程序如CGI(command gateway interface)程序需要在不同的脚本程序之间切换,这样不可避免的会造成控制信息的丢失。为了避免这些问题,介绍了将函数式程序设计语言的一些方法,如Continuation、CPS(continuation passing style)等,并将它们应用到网络程序设计中,不仅简化了设计过程,也提高了程序的安全性,并可以在更一般的语言中实现。 展开更多
关键词 函数式语言 程序延续 cpS 网络应用程序 交互式程序 CGI
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格上拟一致结构的分明化 被引量:1
19
作者 李永明 《西北建筑工程学院学报(自然科学版)》 1993年第1期47-53,共7页
利用范畴代数,首次给出了拓扑分子格与拟一致分子格的分明形式,使格上的拓扑结构与分明的拓扑结构建立了某种自然的联系,从而将格上的拓扑结构的研究最终归结到分明情形的研究。
关键词 拓扑分子格 拟一致分子格
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超精密环抛机控制系统设计 被引量:4
20
作者 马进 朱祥龙 +3 位作者 金洙吉 董志刚 李俊卿 高航 《制造技术与机床》 北大核心 2020年第3期39-42,共4页
针对激光晶体材料的高精度和高表面质量加工要求,超精密环抛机采用“工控机—运动控制卡—驱动器—电动机”的总体控制方案。结合研华API通用运动架构,在LabVIEW环境下设计并开发了超精密环抛机控制系统。经调试验证,主轴抛光盘速度波... 针对激光晶体材料的高精度和高表面质量加工要求,超精密环抛机采用“工控机—运动控制卡—驱动器—电动机”的总体控制方案。结合研华API通用运动架构,在LabVIEW环境下设计并开发了超精密环抛机控制系统。经调试验证,主轴抛光盘速度波动范围小于1%,工件进给单元速度波动范围小于5%,启动平稳且无超调现象,可满足对激光晶体的环形抛光加工。 展开更多
关键词 环抛机 控制系统 晶体 抛光
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