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Planar structure of organic photodetector for low dark current
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作者 Mohammad Nofil Amirul Ashraf Md Sabri +4 位作者 Fadlan Arif Natashah Tahani M Bawazeer Mohammad S Alsoufi Nur Adilah Roslan Azzuliani Supangat 《Chinese Physics B》 2025年第2期290-295,共6页
The focus of this study is on investigating the vanadyl 2,9,16,23-tetraphenoxy-29H, 31H-phthalocyanine(VOPc Ph O)and its blend with o-xylenyl C60 bis-adduct(OXCBA), for use as a lateral ultraviolet organic photodetect... The focus of this study is on investigating the vanadyl 2,9,16,23-tetraphenoxy-29H, 31H-phthalocyanine(VOPc Ph O)and its blend with o-xylenyl C60 bis-adduct(OXCBA), for use as a lateral ultraviolet organic photodetector. The research focuses on improving dark current reduction, which is a challenge in lateral organic photodetector. By integrating the OXCBA, low dark current values of 4.83 nA·cm^(-2)(D_(shot)^(*)= 1.414 × 10^(11)Jones) have been achieved as compared to the stand-alone VoPcPhO device of 14.06 nA·cm^(-2). The major contributing factors to dark current reduction are due to the efficient charge transfer at the photoactive-electrode interface, the deep highest occupied molecular orbital(HOMO)level of OXCBA, which leads to favorable energy level alignments hindering hole injection, and the occurrence of bulk heterojunction vertical phase segregation between VOPcPhO and OXCBA. These findings shed light on the relationship between the organic photoconductor's material composition, morphology, and performance metrics and open new avenues for metal phthalocyanine-based lateral ultraviolet organic photodetectors with low dark current and enhanced performance. 展开更多
关键词 small molecule dark current ultra-violet(UV)sensor device physics
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Scalability of dark current in silicon PIN photodiode
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作者 Ya-Jie Feng Chong Li +4 位作者 Qiao-Li Liu Hua-Qiang Wang An-Qi Hu Xiao-Ying He Xia Guo 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第4期526-528,共3页
The mechanism for electrical conduction is investigated by the dark temperature-dependent current–voltage characteristics of Si PIN photodiodes with different photosensitive areas.The characteristic tunneling energy ... The mechanism for electrical conduction is investigated by the dark temperature-dependent current–voltage characteristics of Si PIN photodiodes with different photosensitive areas.The characteristic tunneling energy E(00) can be obtained to be 1.40 me V,1.53 me V,1.74 me V,1.87 me V,and 2.01 me V,respectively,for the photodiodes with L = 0.25 mm,0.5 mm,1 mm,1.5 mm,and 2 mm by fitting the ideality factor n versus temperature curves according to the tunneling-enhanced recombination mechanism.The trap-assisted tunneling-enhanced recombination in the i-layer plays an important role in our device,which is consistent with the experimental result that area-dependent leakage current is dominant with the side length larger than 1 mm of the photosensitive area.Our results reveal that the quality of the bulk material plays an important role in the electrical conduction mechanism of the devices with the side length larger than 1 mm of the photosensitive area. 展开更多
关键词 silicon PIN photodiodes dark current tunneling enhanced
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Influence of Different Surface Modifications on the Photovoltaic Performance and Dark Current of Dye-Sensitized Solar Cells
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作者 徐炜炜 戴松元 +5 位作者 胡林华 张昌能 肖尚峰 罗向东 景为平 王孔嘉 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第5期556-559,共4页
The TiO2 nanoporous film photoelectrode, as a crucial component of dye-sensitized solar cells, has been investigated. The photovoltaic properties and the dark current were studied by two surface modification methods. ... The TiO2 nanoporous film photoelectrode, as a crucial component of dye-sensitized solar cells, has been investigated. The photovoltaic properties and the dark current were studied by two surface modification methods. One was to apply a compact layer between the conductive glass substrate and nanoporous TiO2 film. Another was to produce TiO2 nanoparticles among the microstructure by TICl4 treatment. A suitable concentration and number of times for TICl4 treatment were found in our experiment. The dark current is suppressed by surface modifications, leading to a significant improvement in the solar cells performance. An excessive concentration of TICl4 will produce more surface states and introduce a larger dark current reversely. The dye is also regarded as a source of charge recombination in dark to some extent, due to an amount of surface protonations introduced by the interracial link in the conductive glass substrate/dye interface and dye/TiO2 interface. 展开更多
关键词 surface modification dark current dye-sensitized solar cells
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Investigation on p-type doping of PBn unipolar barrier InAsSb photodetectors
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作者 ZHANG Jian CHANG Chao +11 位作者 LI Hong-Fu SHI Yu-Na YIN Han-Xiang LI Yan-Hui YUE Biao WANG Hai-Peng YAN Chang-Shan DAI Xin-Ran DENG Gong-Rong KONG Jin-Cheng ZHAO Peng ZHAO Jun 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期472-478,共7页
The lattice-matched XBn structures of InAsSb,grown on GaSb substrates,exhibit high crystal quali⁃ty,and can achieve extremely low dark currents at high operating temperatures(HOT).Its superior performance is attribute... The lattice-matched XBn structures of InAsSb,grown on GaSb substrates,exhibit high crystal quali⁃ty,and can achieve extremely low dark currents at high operating temperatures(HOT).Its superior performance is attributed to the unipolar barrier,which blocks the majority carriers while allowing unhindered hole transport.To further explore the energy band and carrier transport mechanisms of the XBn unipolar barrier structure,this pa⁃per systematically investigates the influence of doping on the dark current,photocurrent,and tunneling character⁃istics of InAsSb photodetectors in the PBn structure.Three high-quality InAsSb samples with unintentionally doped absorption layers(AL)were prepared,with varying p-type doping concentrations in the GaSb contact layer(CL)and the AlAsSb barrier layer(BL).As the p-type doping concentration in the CL increased,the device’s turn-on bias voltage also increased,and p-type doping in the BL led to tunneling occurring at lower bias voltages.For the sample with UID BL,which exhibited an extremely low dark current of 5×10^(-6) A/cm^(2).The photocurrent characteristics were well-fitted using the back-to-back diode model,revealing the presence of two opposing space charge regions on either side of the BL. 展开更多
关键词 INASSB PBN p-type doping dark current
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CIS生产工艺对暗电流(Dark Current)性能的影响
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作者 秋沉沉 魏峥颖 +1 位作者 钱俊 孙昌 《集成电路应用》 2021年第8期16-19,共4页
研究工艺对CIS图像传感器(CMOS image sensor)的影响。通过隔离注入的优化、沉积薄膜膜质的优化、干法刻蚀工艺的优化及热制程的优化可减少硅氧界面载流子与声子群的散射,可大大减少Si-SiO2界面附近陷阱,从而降低CIS传感器的暗电流(Dark... 研究工艺对CIS图像传感器(CMOS image sensor)的影响。通过隔离注入的优化、沉积薄膜膜质的优化、干法刻蚀工艺的优化及热制程的优化可减少硅氧界面载流子与声子群的散射,可大大减少Si-SiO2界面附近陷阱,从而降低CIS传感器的暗电流(Dark Current,DC)。实验数据表明,暗电流可改善30%~82.5%,可适用于不同像素尺寸(0.7~18μm)的CIS产品。 展开更多
关键词 集成电路制造 CMOS图形传感器CIS 暗电流 干法刻蚀 热制程 自对准硅化物阻挡层 SAB
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光电探测器暗电流宽温拟合算法研究
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作者 袁国振 任海兰 《光通信研究》 北大核心 2025年第1期77-82,共6页
【目的】为了消除光电探测器(PD)内正负(PN)结固有暗电流物理特性的影响,在提升探测器功率探测范围和扩宽探测器工作环境温度范围的同时提高PD探测精度,文章设计了一套在标定PD时应用的暗电流补偿算法。【方法】首先,通过分析光电二极... 【目的】为了消除光电探测器(PD)内正负(PN)结固有暗电流物理特性的影响,在提升探测器功率探测范围和扩宽探测器工作环境温度范围的同时提高PD探测精度,文章设计了一套在标定PD时应用的暗电流补偿算法。【方法】首先,通过分析光电二极管物理特性及PD内的硬件电路设计,建立光生电流与光功率间的数学模型,基于数学模型修正光功率与光生电压模数转换(ADC)值的曲线关系,实现在具体温度点下去除暗电流功率影响并补偿功率;其次,研究暗电流的温度特性,计算出少数温度条件下所需补偿暗电流的功率大小,利用少数温度点拟合扩展至宽温范围实现暗电流温度补偿;最后,搭建温控测试平台,利用光开关(OS)控制光电二极管入光功率大小,通过光功率探测仪记录PD实时入光功率大小,测试在不同温度条件以及入光功率下的PD精度值。【结果】实验表明,利用算法标定PD后,工作温度范围可从-5~55℃扩宽至-40~80℃,最低探测功率从-40下降至-68 dBm。在上述工作温度和探测范围下,软件算法计算上报的光功率与实际探测光功率的精度误差在±1 dB以内。【结论】采用文章所提算法对PD校准后能消除暗电流及噪声的影响,在宽温范围下能提高探测功率范围及探测精度。 展开更多
关键词 暗电流 光电探测器 宽温范围 低功探测 补偿算法
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倍增层Si浓度对β-FeSi_(2)/Si红外探测器性能的影响研究
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作者 朱朝阳 叶伟 +1 位作者 彭慧龙 陈昱坤 《河南科技》 2025年第1期73-77,共5页
【目的】为降低暗电流,改善器件性能,对不同的倍增层Si掺杂浓度在电场分布、暗电流和响应度等性能方面的影响进行探讨,以获得掺杂浓度的最优值。【方法】利用半导体仿真软件Silvaco-TCAD深入探讨了倍增层Si掺杂浓度对β-FeSi_(2)/Si近... 【目的】为降低暗电流,改善器件性能,对不同的倍增层Si掺杂浓度在电场分布、暗电流和响应度等性能方面的影响进行探讨,以获得掺杂浓度的最优值。【方法】利用半导体仿真软件Silvaco-TCAD深入探讨了倍增层Si掺杂浓度对β-FeSi_(2)/Si近红外探测器性能的影响规律。【结果】随着倍增层掺杂浓度的提升,倍增层内部电场强度峰值逐渐增加,暗电流密度与电容值也将相应提高,光响应度基本保持不变。进一步研究表明,当倍增层掺杂浓度为1×10^(15) cm^(-3)时,器件获得良好的性能,暗电流密度为9.93×10^(-6) A/cm^(2),在波长为1.5μm时,光响应度和比探测率分别为0.4452 A/W和1.77×10^(11) cm·Hz^(1/2)W^(-1)。【结论】研究结果对制备高性能的β-FeSi_(2)/Si红外探测器具有指导意义。 展开更多
关键词 掺杂浓度 倍增层 暗电流 红外探测器
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光导型石墨烯探测器暗电流抑制电路研究
8
作者 仝淅哲 申钧 《红外》 2025年第2期1-12,共12页
针对光导型石墨烯探测器暗电流大的特点,在分析几种暗电流抑制电路的基础上,利用电容反馈跨阻放大器(Capacitive Trans-Impedance Amplifier, CTIA)积分电路设计了一种新型低温度系数暗电流抑制电路。仿真分析结果表明,该结构具有良好... 针对光导型石墨烯探测器暗电流大的特点,在分析几种暗电流抑制电路的基础上,利用电容反馈跨阻放大器(Capacitive Trans-Impedance Amplifier, CTIA)积分电路设计了一种新型低温度系数暗电流抑制电路。仿真分析结果表明,该结构具有良好的暗电流抑制能力。相比于传统CTIA结构,积分饱和时间提升显著,并且具有良好的积分均匀性和输出线性度。在-20~40℃温度范围内,电流--温度误差率为0.15%,电压偏移量不到80 mV,能够在室温条件下保持良好的暗电流抑制功能。探测器偏置电压漂移改善88.7%,为探测器稳定工作提供了保障。同时,抑制电流的大小可调,为改善石墨烯基探测器像元的不均匀性和未来制备大规模的石墨烯基探测器阵列提供了参考。 展开更多
关键词 光导型 石墨烯 暗电流抑制 电容反馈跨阻放大器 低温度系数
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A New Method for Fitting Current–Voltage Curves of Planar Heterojunction Perovskite Solar Cells 被引量:5
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作者 Peizhe Liao Xiaojuan Zhao +2 位作者 Guolong Li Yan Shen Mingkui Wang 《Nano-Micro Letters》 SCIE EI CAS 2018年第1期45-52,共8页
Herein we propose a new equivalent circuit including double heterojunctions in series to simulate the current–voltage characteristic of P–I–N planar structure perovskite solar cells. This new method can theoretical... Herein we propose a new equivalent circuit including double heterojunctions in series to simulate the current–voltage characteristic of P–I–N planar structure perovskite solar cells. This new method can theoretically solve the dilemma of the parameter diode ideal factor being larger than2 from an ideal single heterojunction equivalent circuit,which usually is in the range from 1 to 2. The diode ideal factor reflects PN junction quality, which influences the recombination at electron transport layer/perovskite and perovskite/hole transport layer interface. Based on the double PN junction equivalent circuit, we can also simulate the dark current–voltage curve for analyzing recombination current(Shockley–Read–Hall recombination) and diffusion current(including direct recombination), and thus carrier recombination and transportation characteristics. This new model offers an efficacious and simple method to investigate interfaces condition, film quality of perovskite absorbing layer and performance of transport layer, helping us furtherimprove the device efficiency and analyze the working mechanism. 展开更多
关键词 dark current Device simulation Junction property PEROVSKITE Solar cell
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Boosting the performance of crossed ZnO microwire UV photodetector by mechanical contact homo-interface barrier
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作者 Yinzhe Liu Kewei Liu +8 位作者 Jialin Yang Zhen Cheng Dongyang Han Qiu Ai Xing Chen Yongxue Zhu Binghui Li Lei Liu Dezhen Shen 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第10期256-260,共5页
One-dimensional(1D)micro/nanowires of wide band gap semiconductors have become one of the most promising blocks of high-performance photodetectors.However,in the axial direction of micro/nanowires,the carriers can tra... One-dimensional(1D)micro/nanowires of wide band gap semiconductors have become one of the most promising blocks of high-performance photodetectors.However,in the axial direction of micro/nanowires,the carriers can transport freely driven by an external electric field,which usually produces large dark current and low detectivity.Here,an UV photodetector built from three cross-intersecting ZnO microwires with double homo-interfaces is demonstrated by the chemical vapor deposition and physical transfer techniques.Compared with the reference device without interface,the dark current of this ZnO double-interface photodetector is significantly reduced by nearly 5 orders of magnitude,while the responsivity decreases slightly,thereby greatly improving the normalized photocurrent-to-dark current ratio.In addition,ZnO double-interface photodetector exhibits a much faster response speed(~0.65 s)than the no-interface device(~95 s).The improved performance is attributed to the potential barriers at the microwire-microwire homo-interfaces,which can regulate the carrier transport.Our findings in this work provide a promising approach for the design and development of high-performance photodetectors. 展开更多
关键词 ZnO microwire INTERFACE potential barrier dark current photocurrent-to-dark current ratio
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碲镉汞PIN结构雪崩器件的I区材料晶体质量研究
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作者 沈川 张竞 +5 位作者 杨辽 郭慧君 谢浩 周梅华 陈路 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期174-178,共5页
本文对中波红外PIN结构的碲镉汞(HgCdTe)雪崩器件关键雪崩区域的材料晶体质量进行研究。通过在实验材料上对PIN结构雪崩器件的全过程工艺模拟,采用微分霍尔、微分少子寿命等测试手段进行材料表征,评估获得了关键雪崩区域的真实材料晶体... 本文对中波红外PIN结构的碲镉汞(HgCdTe)雪崩器件关键雪崩区域的材料晶体质量进行研究。通过在实验材料上对PIN结构雪崩器件的全过程工艺模拟,采用微分霍尔、微分少子寿命等测试手段进行材料表征,评估获得了关键雪崩区域的真实材料晶体质量。研究发现,现有优化工艺下雪崩区域的晶体质量良好,拟合材料的SRH寿命最好能达到20.7μs,可达到原生材料SRH寿命的相当水平,满足高质量中波碲镉汞雪崩器件的研制要求。同时,我们以获得的雪崩区域SRH寿命为基础,对HgCdTe APD结构器件进行相应2维数值模拟,获得理论最优的暗电流密度8.7×10^(-10) A/cm^(2)。 展开更多
关键词 碲镉汞 雪崩器件 少子寿命 暗电流
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nBn结构长波红外碲镉汞器件优化设计
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作者 覃钢 孔金丞 +4 位作者 任洋 陈卫业 杨晋 秦强 赵俊 《红外技术》 CSCD 北大核心 2024年第7期815-820,共6页
分析了Type-I型能带对nBn结构碲镉汞器件性能的影响。通过理论计算获得了势垒层组分、掺杂浓度与能带带阶的关系,确定了nBn结构长波器件吸收层掺杂浓度与暗电流的关系。优化了nBn结构长波红外碲镉汞器件的掺杂浓度、势垒层与吸收层之间... 分析了Type-I型能带对nBn结构碲镉汞器件性能的影响。通过理论计算获得了势垒层组分、掺杂浓度与能带带阶的关系,确定了nBn结构长波器件吸收层掺杂浓度与暗电流的关系。优化了nBn结构长波红外碲镉汞器件的掺杂浓度、势垒层与吸收层之间的组分过渡,建立了二维器件仿真模型并对nBn结构长波红外碲镉汞器件的能带结构进行了计算,结果表明器件结构参数的优化可以有效降低器件工作所需的开启电压,同时在吸收层内几乎不会形成耗尽区,从而有效抑制SRH产生-复合电流及隧穿电流。计算了器件结构参数优化后的长波红外碲镉汞nBn器件暗电流的变温特性,器件工作温度达到110 K以上。为高性能势垒结构长波红外碲镉汞器件的研制提供了理论依据。 展开更多
关键词 nBn结构 长波红外 碲镉汞 能带带阶 暗电流
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高性能512×2元线列InGaAs短波红外探测器
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作者 朱琴 范明国 +4 位作者 宋欣波 齐浩泽 方莉媛 管涛 龚晓霞 《红外技术》 CSCD 北大核心 2024年第7期826-830,共5页
针对色选行业对高均匀性、低暗电流、低盲元率的线列InGaAs短波红外探测器的迫切需求,本文基于MOCVD生长的n-i-n型InP/InGaAs/InP外延材料,采用扩散、钝化膜制备、电极生长等工艺,制备了512×2元线列InGaAs短波红外探测器。通过优... 针对色选行业对高均匀性、低暗电流、低盲元率的线列InGaAs短波红外探测器的迫切需求,本文基于MOCVD生长的n-i-n型InP/InGaAs/InP外延材料,采用扩散、钝化膜制备、电极生长等工艺,制备了512×2元线列InGaAs短波红外探测器。通过优化器件结构及钝化膜制备工艺,器件暗电流得到了有效的抑制;通过对倒装互联工艺参数进行优化,实现了高可靠性、高连通率的512×2元线列探测器的制备。室温下(25℃)对探测器组件进行测试,其峰值探测率为1.13×10^(12) cm×Hz^(1/2)/W,暗电流密度为12.8 nA/cm^(2),有效像元率≥99.5%,响应非均匀性低至0.63%。 展开更多
关键词 INGAAS 钝化 暗电流 倒装互联
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基于自适应滤波的暗电流消除设计
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作者 宋佳钫 孙自闯 《激光杂志》 CAS 北大核心 2024年第8期38-45,共8页
暗电流作为光电探测器的固有噪声,是影响双光束分光光度计检测性能的重要因素。为消除此影响,提出自适应滤波双光束分光光度计。首先,设计实时暗电流检测系统,能在每个检测周期内捕获样品信号、参考信号和暗电流信号。其次,针对时域差... 暗电流作为光电探测器的固有噪声,是影响双光束分光光度计检测性能的重要因素。为消除此影响,提出自适应滤波双光束分光光度计。首先,设计实时暗电流检测系统,能在每个检测周期内捕获样品信号、参考信号和暗电流信号。其次,针对时域差异引起的暗电流消除问题,引入自适应级联滤波算法(Recursive Least Squares and Normalized Least Mean Squares,RLS-NLMS),算法采用三级级联滤波模型,一级局部均值(Local Mean,LM)降低暗电流与检测信号之间的相关性,二级低阶RLS滤波器用于检测信号滤波,三级高阶NLMS滤波器用于处理RLS输出信号。实验结果显示,自适应滤波双光束分光光度计的透射比相对误差仅为1.46%,较传统方法降低了66%,在暗电流消除方面表现出色,具有实际应用价值。 展开更多
关键词 暗电流 双光束分光光度计 光电探测器 分光系统 级联滤波
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pπBn型Ⅱ类超晶格暗电流特性研究 被引量:1
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作者 闫勇 王晓华 +1 位作者 周朋 刘铭 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2024年第5期750-757,共8页
InAs/GaSbⅡ类超晶格(T2SL)红外探测器由于具有宽光谱探测能力、较好的材料均匀性、可以抑制载流子俄歇复合率和灵活的能带设计等优点,在长波红外探测领域具有很大的优势。但由于暗电流较大,其性能并未达到理论预测。pπBn结构是在超晶... InAs/GaSbⅡ类超晶格(T2SL)红外探测器由于具有宽光谱探测能力、较好的材料均匀性、可以抑制载流子俄歇复合率和灵活的能带设计等优点,在长波红外探测领域具有很大的优势。但由于暗电流较大,其性能并未达到理论预测。pπBn结构是在超晶格材料的吸收层和接触层之间增加单极势垒,以抑制G-R暗电流和隧穿暗电流。本文分别从理论上研究了吸收层、势垒层和接触层的超晶格能带结构。模拟了pπBn结构的InAs/GaSb T2SL,研究了其吸收层掺杂浓度、势垒层掺杂浓度和势垒厚度对器件暗电流的影响。通过优化吸收层掺杂浓度、势垒层厚度和掺杂浓度,得到暗电流密度为8.35×10^(-7)A/cm^(-2)的pπBn结构InAs/GaSb T2SL,与优化前的结构相比,暗电流降低了一个数量级。研究过程不仅为pπBn结构的InAs/GaSb T2SL器件的低暗电流设计提供了指导,而且为优化超晶格器件的暗电流提供了一种系统的方法。 展开更多
关键词 INAS/GASB 能带结构 暗电流密度
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超小间距微台面InGaAs探测器光电性能研究
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作者 田宇 于春蕾 +6 位作者 李雪 邵秀梅 李淘 杨波 于小媛 曹嘉晟 龚海梅 《红外与毫米波学报》 CSCD 北大核心 2024年第6期755-761,共7页
超小中心距InGaAs探测器的制备需要降低探测器像元间的串音和探测器的暗电流。通过探索微台面InGaAs探测器制备工艺,成功制备了10µm和5µm中心距微台面InGaAs光敏芯片测试结构,并对其像元间的串音和探测器的暗电流进行了详细... 超小中心距InGaAs探测器的制备需要降低探测器像元间的串音和探测器的暗电流。通过探索微台面InGaAs探测器制备工艺,成功制备了10µm和5µm中心距微台面InGaAs光敏芯片测试结构,并对其像元间的串音和探测器的暗电流进行了详细研究。结果表明,当隔离沟槽刻蚀进入吸收层时,微台面结构能有效抑制像元间的串音;但是由于在制备微台面器件过程中造成的材料损伤,由此引起的复合电流和欧姆漏电流的增加,会导致探测器暗电流增幅超过一个数量级。研究结果为制备超小中心距InGaAs焦平面探测器提供了新思路和启示。 展开更多
关键词 铟镓砷 微台面 串音 暗电流
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基于带隙基准的改进型像元共享CTIA红外读出电路设计
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作者 王坤 关晓宁 +5 位作者 康智博 张凡 张焱超 邓旭光 周峰 芦鹏飞 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2024年第6期816-821,共6页
为了提高红外读出电路动态范围、增强红外成像质量,加入暗电流抑制模块电路,设计了一种四像元分时共享的电容反馈跨阻放大器(CTIA)和带隙基准源相互配合的高性能红外读出电路。通过带隙基准源产生两个基准电压586 mV和293 mV,其中293 m... 为了提高红外读出电路动态范围、增强红外成像质量,加入暗电流抑制模块电路,设计了一种四像元分时共享的电容反馈跨阻放大器(CTIA)和带隙基准源相互配合的高性能红外读出电路。通过带隙基准源产生两个基准电压586 mV和293 mV,其中293 mV基准电压值的温漂系数达到1.49×10-6/℃,可对分流管的栅极和源极提供稳定的电压偏置,实现对暗电流的精准撇除。结果表明,该电路可实现电流信号从10 pA~10 nA宽动态范围的积分电压读出,读出数据通过线性拟合,拟合优度R 2达到0.9992,说明电路性能良好。此研究未来可应用到线列和面阵的红外探测器中。 展开更多
关键词 探测器 读出电路 暗电流抑制 像元共享 带隙基准
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非均匀GaAs/AlGaAs量子阱红外探测器材料表征和器件性能研究
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作者 苏家平 周孝好 +4 位作者 唐舟 范柳燕 夏顺吉 陈平平 陈泽中 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第1期7-14,共8页
本文利用分子束外延(MBE)技术成功生长了GaAs/AlGaAs非均匀量子阱红外探测器材料,并对相关微结构作了细致表征。分析比较了非均匀量子阱结构和常规量子阱红外探测器性能差异,并对比研究了不同势阱宽度下非均匀量子阱红外探测器的性能变... 本文利用分子束外延(MBE)技术成功生长了GaAs/AlGaAs非均匀量子阱红外探测器材料,并对相关微结构作了细致表征。分析比较了非均匀量子阱结构和常规量子阱红外探测器性能差异,并对比研究了不同势阱宽度下非均匀量子阱红外探测器的性能变化。通过高分辨透射电子显微镜(HRTEM)结合能谱仪(EDS)对非均匀量子阱红外探测器材料微结构进行了分析,并利用二次离子质谱仪(SIMS)对非均匀势阱掺杂进行了表征。结果表明,该量子阱外延材料晶体质量很好,量子阱结构和掺杂浓度也与设计值符合较好。对于非均匀量子阱红外探测器,通过改变每个阱的掺杂浓度和势垒宽度,可以改变量子阱电场分布,而与传统的均匀量子阱红外探测器相比,其暗电流显著下降(约一个数量级)。在不同阱宽下,非均匀量子阱的跃迁模式发生改变,束缚态到准束缚态跃迁模式下(B-QB)的器件具有较高的黑体响应率以及较低的暗电流。 展开更多
关键词 非均匀 量子阱 高分辨电镜 二次离子质谱 暗电流
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高速大像素CMOS图像传感器中钳位光电二极管形状设计的研究进展
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作者 张文轩 程正喜 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期514-523,共10页
采用钳位光电二极管(PPD)的CMOS图像传感器,由于其优异的性能,已成为图像传感领域中占主导地位的技术。然而,更大尺寸PPD的应用在电荷传输速度和效率方面存在挑战,特别是在微光、高速探测的场景中,传统的像素设计难以满足必要的性能标... 采用钳位光电二极管(PPD)的CMOS图像传感器,由于其优异的性能,已成为图像传感领域中占主导地位的技术。然而,更大尺寸PPD的应用在电荷传输速度和效率方面存在挑战,特别是在微光、高速探测的场景中,传统的像素设计难以满足必要的性能标准。一种有效的方法是通过PPD的形状设计来提升大像素性能。首先全面概述了产生PPD横向电场的两种机制:边缘电场设计和钳位电压调制,并探讨了基于这两种设计策略的各种设计改进。然后总结了传输栅-浮空扩散(TG-FD)节点收集结构及像素整体布局优化的相关研究进展。此外,还研究了PPD的形状设计对暗电流的影响。通过全面分析PPD形状设计中采用的方法,为提升大像素设计提供了参考。 展开更多
关键词 CMOS图像传感器 大尺寸像素 横向电场 电荷转移 暗电流
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低能电子轰击引起氧化铝钝化膜BCMOS传感器暗电流变化研究 被引量:1
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作者 闫磊 石峰 +7 位作者 程宏昌 焦岗成 杨晔 肖超 樊海波 郑舟 董海晨 何惠洋 《红外技术》 CSCD 北大核心 2024年第3期342-346,共5页
针对低能电子(电子能量为300~1500 eV)轰击引起氧化铝钝化层BCMOS(Back-thinned Complementary Metal-Oxide-Semiconductor,BCMOS)图像传感器暗电流增加问题,设计了电子轰击BCMOS图像传感器实验,经统计发现,对于厚度为10 nm的氧化铝钝化... 针对低能电子(电子能量为300~1500 eV)轰击引起氧化铝钝化层BCMOS(Back-thinned Complementary Metal-Oxide-Semiconductor,BCMOS)图像传感器暗电流增加问题,设计了电子轰击BCMOS图像传感器实验,经统计发现,对于厚度为10 nm的氧化铝钝化层BCMOS图像传感器,轰击能量大于600 eV时暗电流增加速率明显;轰击电子能量不超过1.5 keV时,暗电流存在最大值,约为12000 e-/pixel/s;电子轰击后的BCMOS图像传感器在电子干燥柜中静置时,其暗电流呈指数趋势下降。通过分析指出入射电子引起氧化铝钝化层与硅界面处缺陷态增加,是引起上述现象的主要原因。 展开更多
关键词 暗电流 电子轰击 背减薄CMOS 氧化铝钝化层
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