SnO_2:F导电薄膜的制备方法和性能表征 被引量：7

1

作者 苗莉 徐瑞松 马跃良 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期121-123,共3页

采用喷雾热分解(Spray pyrolysis)方法,以NH_4F、SnCl_2·2H_2O为原料,对反应液配方进行了优化,在普通玻璃衬底上制备出了光电性能优良的掺F二氧化锡透明导电薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV/V... 采用喷雾热分解(Spray pyrolysis)方法,以NH_4F、SnCl_2·2H_2O为原料,对反应液配方进行了优化,在普通玻璃衬底上制备出了光电性能优良的掺F二氧化锡透明导电薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV/VIS)对薄膜的结构、形貌、光学、电学特征进行了表征和分析。结果表明:在衬底温度为500℃,NH_4F/SnCl_2·2H_2O的质量百分比为20%,喷涂时间为15s时掺F二氧化锡薄膜的方块电阻最低达到6.2Ω/□,可见光透射率为86.95%,且薄膜晶粒均匀,表面形貌平整致密。 展开更多

关键词 sno2:f导电薄膜 喷雾热分解法 性能

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F掺杂SnO_2透明导电薄膜微结构及性能研究 被引量：10

2

作者 莫建良 陈华 +4 位作者 曹涯雁 刘起英 汪建勋 翁文剑 韩高荣 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期152-156,共5页

通过实验测量常压热分解CVD工艺制备的F掺杂SnO2薄膜的方块电阻、膜厚、形貌、微结构、中远红外反射率等性质,详细研究了基板温度对SnO2薄膜微结构的影响和微结构与薄膜电学、光学性能之间的关系。研究发现,将基板温度从375℃提高到525... 通过实验测量常压热分解CVD工艺制备的F掺杂SnO2薄膜的方块电阻、膜厚、形貌、微结构、中远红外反射率等性质,详细研究了基板温度对SnO2薄膜微结构的影响和微结构与薄膜电学、光学性能之间的关系。研究发现,将基板温度从375℃提高到525℃以上,薄膜结晶程度大大提高,薄膜厚度从25nm提高到近300nm,方块电阻下降了两个数量级,中远红外的反射率达到了85%以上。 展开更多

关键词 CVD f掺杂sno2薄膜 微结构 性能

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F掺杂对SnO_2薄膜组成、结构与光学性能的影响 被引量：4

3

作者 陈云霞 施玮 王克亮 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2011年第11期24-28,共5页

以氯化亚锡、无水乙醇为主要原料,氢氟酸、氟硅酸和氟化铵为掺杂剂,采用溶胶-凝胶法制备了不同F掺杂浓度的SnO2透明薄膜,考察了氢氟酸、氟硅酸和氟化铵三种不同掺杂源的分别加入对薄膜物相组成、光学透过率以及微观结构的影响。分析结... 以氯化亚锡、无水乙醇为主要原料,氢氟酸、氟硅酸和氟化铵为掺杂剂,采用溶胶-凝胶法制备了不同F掺杂浓度的SnO2透明薄膜,考察了氢氟酸、氟硅酸和氟化铵三种不同掺杂源的分别加入对薄膜物相组成、光学透过率以及微观结构的影响。分析结果表明,F掺杂SnO2薄膜具有的是单一四方金红石相结构,且F的掺杂能抑制薄膜中SnO2晶粒的长大,三种掺杂源中,以0～14mol%氟硅酸掺杂的SnO2薄膜表观质量最佳,且可见光范围内的透过率在75～85%之间。 展开更多

关键词 f掺杂 sno2薄膜 组成与结构 光学性能 溶胶-凝胶法

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SnO_2气敏薄膜在SnO_2/Fe_2O_3双层结构中成核及生长过程的模拟 被引量：3

4

作者 赵永生 阎大卫 +3 位作者 康昌鹤 马晓翠 邹慧珠 杜国同 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第3期271-273,共3页

用ＳＥＭ对ＳｎＯ２／Ｆｅ２Ｏ３样品的断面结构进行了观察研究，发现ＳｎＯ２是在Ｆｅ２Ｏ３柱状结构的间隙中开始生长的，据此提出了双层膜结构生长热力学模型，由模型推出的结论与实验结果吻合。计算结果表明，ＳｎＯ２在Ｆｅ２Ｏ３... 用ＳＥＭ对ＳｎＯ２／Ｆｅ２Ｏ３样品的断面结构进行了观察研究，发现ＳｎＯ２是在Ｆｅ２Ｏ３柱状结构的间隙中开始生长的，据此提出了双层膜结构生长热力学模型，由模型推出的结论与实验结果吻合。计算结果表明，ＳｎＯ２在Ｆｅ２Ｏ３薄膜的间隙中生长速度很快，而后逐渐变慢，达到稳定沉积速率，在这种沉积速率下形成ＳｎＯ２的柱状结构。ＳｎＯ２膜的这种沉积方式使得Ｆｅ２Ｏ３与其接触面积很大，两者结合十分牢固。 展开更多

关键词 气敏薄膜 双层结构 理论模拟 二氧化锡 成核

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超声喷雾法制备SnO_2:F薄膜及其性能研究 被引量：10

5

作者 施卫 李琦 《西安理工大学学报》 CAS 1998年第1期56-60,共5页

用超声喷雾热解淀积技术制备了ＳｎＯ２Ｆ透明导电薄膜，其电阻率达４×１０－４Ωｃｍ，可见光透过率达９１％。研究了衬底温度、Ｆ／Ｓｎ比例对ＳｎＯ２Ｆ薄膜光电特性的影响。ＸＲＤ分析及ＳＥＭ观察表明，ＳｎＯ２Ｆ薄膜为多晶... 用超声喷雾热解淀积技术制备了ＳｎＯ２Ｆ透明导电薄膜，其电阻率达４×１０－４Ωｃｍ，可见光透过率达９１％。研究了衬底温度、Ｆ／Ｓｎ比例对ＳｎＯ２Ｆ薄膜光电特性的影响。ＸＲＤ分析及ＳＥＭ观察表明，ＳｎＯ２Ｆ薄膜为多晶结构，平均粒径约５０ｎｍ。对超声雾化及淀积原理进行了分析，由于溶液的超声雾化微粒均匀性好，载气流量与溶液雾化微粒线度无关，使得超声雾化热解淀积工艺控制相对容易，热解反应类型大多为化学气相淀积，所制备薄膜的均匀性和重复性良好。 展开更多

关键词 薄膜 超声雾化 热解淀积 二氧化锡 氟

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二甲基二氯化锡前驱体CVD制备SnO2∶F薄膜及其性能研究 被引量：1

6

作者 陈峰 张振华 +2 位作者 赵会峰 鲍思权 姜宏 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第24期6-10,15,共6页

采用二甲基二氯化锡(DMTC)为新前驱体,通过常压CVD法在硼硅玻璃基板上制备SnO_2∶F透明导电薄膜,研究了DMTC、TFA和H_2O的含量对薄膜结构及光电性能的影响,研究表明当F/Sn物质的量比为1∶1、H2O/Sn物质的量比为3∶2时,制备出可见光透过... 采用二甲基二氯化锡(DMTC)为新前驱体,通过常压CVD法在硼硅玻璃基板上制备SnO_2∶F透明导电薄膜,研究了DMTC、TFA和H_2O的含量对薄膜结构及光电性能的影响,研究表明当F/Sn物质的量比为1∶1、H2O/Sn物质的量比为3∶2时,制备出可见光透过率84.17%、方块电阻9.2Ω/□且结晶性能良好的多晶SnO_2薄膜。通过与单丁基三氯化锡(MBTC)为前驱体所制备薄膜的性能进行比较,结果表明,两种前驱体所制备薄膜均具有四方金红石结构,利用DMTC不仅可以制备出与MBTC性能相近的薄膜,同时薄膜表面更加均匀。 展开更多

关键词 二甲基二氯化锡 化学气相沉积法 sno2∶f薄膜

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SnO_2∶Fe_2O_3混合薄膜的制备及其在丙酮蒸汽中的反射光谱 被引量：1

7

作者 郑顺镟 庄中禄 郭斯淦 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第6期365-368,共4页

以ＳｎＣｌ４·５Ｈ２Ｏ，ＦｅＣｌ３·６Ｈ２Ｏ及无水乙醇为主要原料，采用溶胶凝胶法制备了ＳｎＯ２∶Ｆｅ２Ｏ３混合薄膜，测量并研究了其在可见光区附近的丙酮气敏反射光谱。

关键词 溶胶-凝胶法 气敏反射光谱 半导体薄膜技术

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超声热解法制备SnO2:F薄膜加热管及其性能研究

8

作者 施卫 侯磊 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1160-1164,1168,共6页

采用超声喷涂热解淀积方法将SnO2:F透明导电薄膜制备于耐高温的硼硅玻璃管内壁.XRD物相分析及SEM、STM形貌分析表明,SnO2:F薄膜为多晶结构,平均粒径50nm.分析了薄膜中F取代SnO2中O的形成过程和薄膜电导率增强的机理,解释了不同的工艺条... 采用超声喷涂热解淀积方法将SnO2:F透明导电薄膜制备于耐高温的硼硅玻璃管内壁.XRD物相分析及SEM、STM形貌分析表明,SnO2:F薄膜为多晶结构,平均粒径50nm.分析了薄膜中F取代SnO2中O的形成过程和薄膜电导率增强的机理,解释了不同的工艺条件对薄膜的结构、光电特性的影响,确定了制备SnO2:F薄膜加热管的最佳工艺条件.该条件下制备的薄膜的电阻率达4×10-4Ω·cm,可见光透过率高于90%,功率密度平均可达35 W/cm2. 展开更多

关键词 薄膜技术 sno2:f薄膜 光电特性 超声喷涂热解法

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退火处理对SnO2：F薄膜光电性能的影响 被引量：4

9

作者 李铭 高倩 +2 位作者 刘涌 宋晨路 韩高荣 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期132-135,共4页

SnO2∶F薄膜作为low-e玻璃的表面功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。Low-e玻璃在后期退火(深加工)后,其性能的变化已经引起了学术研究和实际应用方面的的关注。我们对于用化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250nm厚的SnO2∶F薄膜进行... SnO2∶F薄膜作为low-e玻璃的表面功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。Low-e玻璃在后期退火(深加工)后,其性能的变化已经引起了学术研究和实际应用方面的的关注。我们对于用化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250nm厚的SnO2∶F薄膜进行不同的退火处理。并通过一系列的研究,结果发现,薄膜的结构、组成、电学、光学性能在氮气和空气两种不同的退火气氛下会有显著的变化。SnO2∶F薄膜的Low-e性能经过空气中高温退火后下降明显。通过计算对比退火后SnO2∶F薄膜的晶格常数和晶胞尺寸,提出了一种对于薄膜Low-e性能下降的合理解释。 展开更多

关键词 LOW-E sno2∶f薄膜 退火 常压化学气相沉积

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用超声喷雾热分解法制备SnO_2:F薄膜 被引量：2

10

作者 陈全 崔容强 +2 位作者 徐东 Wolden COLIN 奚建平 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期97-100,共4页

采用超声喷雾热分解法沉积高性能掺氟二氧化锡(SnO2:F)透明导电膜(TCO),其最小方块电阻为9 Ω(400 nm厚),可见光透过率大于80%。X射线衍射(XRD)分析表明,SnO2:F薄膜为多晶结构;原子力显微镜(AFM)观察表明,SnO2:F薄膜平均粒径约为100 nm... 采用超声喷雾热分解法沉积高性能掺氟二氧化锡(SnO2:F)透明导电膜(TCO),其最小方块电阻为9 Ω(400 nm厚),可见光透过率大于80%。X射线衍射(XRD)分析表明,SnO2:F薄膜为多晶结构;原子力显微镜(AFM)观察表明,SnO2:F薄膜平均粒径约为100 nm。此外对石墨导热体和置于其上的玻璃基片两者之间的温度差别做了初步研究。 展开更多

关键词 超声喷雾热分解法 制备 sno2:f薄膜 金属氧化物薄膜 半导体材料

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采用USP-CVD沉积SnO_2透明导电膜——F、Sb掺杂及特性研究 被引量：2

11

作者 丁尔峰 崔容强 +3 位作者 周之斌 赵亮 于化丛 赵占霞 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第12期779-783,共5页

以F、Sb掺杂,采用超声雾化喷涂化学气相沉积工艺制备出二氧化锡透明导电膜。对SnO2∶F薄膜的沉积工艺进行了研究,探索出最佳的工艺条件,沉积出方块电阻低达6 赘/□左右的高透过率透明导电薄膜,其可见光平均透过率可以达到85%。分析了HF... 以F、Sb掺杂,采用超声雾化喷涂化学气相沉积工艺制备出二氧化锡透明导电膜。对SnO2∶F薄膜的沉积工艺进行了研究,探索出最佳的工艺条件,沉积出方块电阻低达6 赘/□左右的高透过率透明导电薄膜,其可见光平均透过率可以达到85%。分析了HF和NH4F掺杂的不同点。对在两种最佳工艺条件下沉积的膜的结构、电学性质进行了研究。对SnO2∶Sb薄膜的电学性质进行了研究,用X射线衍射方法分析了在同一温度下,不同Sb掺杂浓度的膜的结构。并对薄膜的透过率、折射率及光学带隙等光学性质进行了分析。 展开更多

关键词 超声雾化喷涂化学气相沉积(USP-CVD) sno2:f sno2:Sb NH4f Hf

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喷雾热解法制备SnO_2∶F+Sb薄膜的结构及性能研究 被引量：1

12

作者 钟明 赵高扬 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1429-1431,1434,共4页

采用喷雾热解法在玻璃基板上制备了SnO2∶F+Sb薄膜,对薄膜的结构及性能进行了研究。用STM对薄膜表面进行表征,发现薄膜表面光滑平整,粗糙度Ra为16.283nm。四探针测试仪测定薄膜方阻为60Ω/□,电阻率为2.1×10-3Ω.cm。用XRD表征薄... 采用喷雾热解法在玻璃基板上制备了SnO2∶F+Sb薄膜,对薄膜的结构及性能进行了研究。用STM对薄膜表面进行表征,发现薄膜表面光滑平整,粗糙度Ra为16.283nm。四探针测试仪测定薄膜方阻为60Ω/□,电阻率为2.1×10-3Ω.cm。用XRD表征薄膜结构,薄膜为四方相多晶SnO2结构,说明掺杂没有该变薄膜结构。对薄膜的光学性能进行了测试,可见光透过率达到80%,在2500nm处的中远红外区反射率由镀膜前的6%上升到36%。按国家标准测试了镀膜玻璃耐酸碱稳定性,实验前后薄膜的可见光透过率变化<3%,符合国家标准。同时本研究还对镀膜玻璃的保温性能进行了测试,结果表明本实验制备的镀膜玻璃具有较好的保温性能。 展开更多

关键词 喷雾热解 sno2:f+Sb薄膜 镀膜玻璃

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SnO_2:F透明导电薄膜及其物理特性

13

作者 胡启富 林秀森 《厦门大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1990年第5期525-528,共4页

本文中报道优质SnO_2:F透明导电薄膜的制备方法,通过对薄膜透射率和电导(方块电阻)的测量分析,研究薄膜特性与工艺条件的关系,探讨最佳工艺条件和薄膜形成规律。提出一种SnO_2:F 晶体缺陷结构模型,可以较好解释电导随 F掺杂浓度的变化... 本文中报道优质SnO_2:F透明导电薄膜的制备方法,通过对薄膜透射率和电导(方块电阻)的测量分析,研究薄膜特性与工艺条件的关系,探讨最佳工艺条件和薄膜形成规律。提出一种SnO_2:F 晶体缺陷结构模型,可以较好解释电导随 F掺杂浓度的变化结果。 展开更多

关键词 sno2:f 导电 薄膜 物理特性 透明

全文增补中

SiC_xO_y/SnO_2:F/TiO_2复合薄膜的制备及其性能

14

作者 陈莹莹 张溪文 +1 位作者 郭玉 韩高荣 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期908-910,共3页

本文制备了具有低反射率特性和光催化性能的三层复合薄膜SiCxOy/SnO2:F/TiO2。SiCxOy层直接沉积在玻璃基体上,作为障碍层避免离子从玻璃基板扩散到最外的功能层。而SnO2:F和TiO2作为功能层则分别使复合薄膜具有低反射率和光催化性能。利... 本文制备了具有低反射率特性和光催化性能的三层复合薄膜SiCxOy/SnO2:F/TiO2。SiCxOy层直接沉积在玻璃基体上,作为障碍层避免离子从玻璃基板扩散到最外的功能层。而SnO2:F和TiO2作为功能层则分别使复合薄膜具有低反射率和光催化性能。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和傅立叶变换红外光谱仪(FTIR)对样品进行表征。与纯TiO2薄膜相比,复合薄膜由于表面粗糙,以及TiO2到SnO2层界面间的电子移动,表现出较高的光催化性能和亲水性。另一方面,由于SnO2:F层的低E特性,复合薄膜的远红外反射率随着TiO2薄膜厚度逐渐增加而减少。 展开更多

关键词 SiCxOy/sno2:f/TiO2 复合薄膜 低反射率 光催化性能 亲水性

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SnO_2纳米薄膜的制备、显微结构及气敏性能 被引量：8

15

作者 赵杰 赵经贵 +3 位作者 高山 霍丽华 王海水 席时权 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期122-125,共4页

以SnCl2 ·2H2 O和无水乙醇为原料 ,采用溶胶 凝胶方法制备了SnO2 透明溶胶 ,通过浸渍提拉技术制备了SnO2 纳米薄膜 ;利用XRD、UV和AFM技术研究了薄膜的结构和形貌。结果表明 ,SnO2 纳米薄膜的球形粒径约 5nm ;随着薄膜沉积层数的增... 以SnCl2 ·2H2 O和无水乙醇为原料 ,采用溶胶 凝胶方法制备了SnO2 透明溶胶 ,通过浸渍提拉技术制备了SnO2 纳米薄膜 ;利用XRD、UV和AFM技术研究了薄膜的结构和形貌。结果表明 ,SnO2 纳米薄膜的球形粒径约 5nm ;随着薄膜沉积层数的增加 ,其电子光谱的吸收呈线性增加 ,膜电阻则逐渐减小并趋于稳定值。薄膜对 1 0 0～ 1 0 0 0 μL/L的乙醇和丙酮都有较好的敏感性和响应 恢复特性 ,对 80 0 μL/L的气体响应和恢复时间分别为 3 0和 60s。 展开更多

关键词 sno2 薄膜 溶胶-凝胶法 气敏性能

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Sol-Gel法制备低阻SnO_2薄膜 被引量：8

16

作者 李爱武 全宝富 +1 位作者 刘凤敏 陈丽华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期645-646,648,共3页

采用sol gel法制备了SnO2 薄膜。研究了不同的实验条件对薄膜阻值的影响。利用XRD、XPS分析了薄膜的晶体结构和晶粒尺寸。利用这种低阻SnO2 薄膜制作的热线型气敏元件对H2

关键词 SOL-GEL法 气敏特性 二氧化锡薄膜 气敏材料

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双染料复合敏化SnO_2纳米多孔膜光电极的研究 被引量：8

17

作者 张莉 杨迈之 +5 位作者 乔学斌 郝彦忠 高恩勤 蔡生民 孟凡顺 田禾 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第4期1-5,共5页

研究 了五甲川 菁和联吡 啶钌双 染料复合 敏化 Ｓｎ Ｏ２ 纳米 结构 电极 的光 电化 学行 为． 结果表明， 五甲川菁 在５５０ ～７ ００ ｎ ｍ 范围 有强吸 收带，而 联吡啶钌 在４００ ～６ ００ ｎ ｍ 吸光 性好， 它们 在电极表... 研究 了五甲川 菁和联吡 啶钌双 染料复合 敏化 Ｓｎ Ｏ２ 纳米 结构 电极 的光 电化 学行 为． 结果表明， 五甲川菁 在５５０ ～７ ００ ｎ ｍ 范围 有强吸 收带，而 联吡啶钌 在４００ ～６ ００ ｎ ｍ 吸光 性好， 它们 在电极表面的 共吸附使 吸 光 范 围 几 乎 覆 盖 整 个 可 见 和 近红 外 光 区 ． 它 们 的 激 发 态 能级 为 － ０９１ Ｖ（ ｖｓ Ｎ Ｈ Ｅ） 和 － ０６ Ｖ（ ｖｓ Ｎ Ｈ Ｅ） ，都高 于 Ｓｎ Ｏ２ 纳 米粒 子的 导 带位 置， 有利 于它 们 的激 发态 电 子注入 Ｓｎ Ｏ２ 纳米粒 子的导 带，即 各自 吸收不 同波 长范围 的光， 共同产 生阳 极光电 流． 因而 这种双 染料复合敏 化比单一 五甲川 菁染料或 联吡啶钌 敏化效 果有更显 著的 提高， 同时 光电 转化 率得 到明 显改善，最 高单色光 量子转换 效率（ Ｉ Ｐ Ｃ Ｅ） 可达 ６８ ％ 展开更多

关键词 纳米结构 多孔膜电极 光电转换 敏化 二氧化锡

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SnO_2薄膜的溶胶-凝胶制备及气敏性能的研究 被引量：5

18

作者 林殷茵 杨合情 +1 位作者 张良莹 姚熹 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期186-189,共4页

采用非醇盐溶胶－凝胶工艺制得纳米微晶ＳｎＯ２多孔薄膜，该法易于实现ＳｎＯ２与多种添加剂的均匀掺杂。通过调整薄膜的微观结构使薄膜对Ｃ２Ｈ５ＯＨ和ＣＯ在最佳工作温度的灵敏度比调整前分别提高了３倍和１４倍。

关键词 薄膜 溶胶-凝胶 气敏材料 纳米微晶 二氧化锡

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用Sol-Gel法制备气敏传感器SnO_2薄膜的研究 被引量：5

19

作者 秦友兰 王万录 +2 位作者 赵作峰 肖金龙 董玉峰 《广西师范大学学报（自然科学版）》 CAS 2000年第3期16-19,共4页

采用无机试剂 ( Sn Cl4 · 5H2 O)为原料 ,用溶胶 -凝胶 ( Sol-Gel)法制备研制气敏传感器的 Sn O2 薄膜 ,研究了 Sn O2 薄膜的电阻随掺杂和温度的变化关系 ,并且用 XRD对 Sn O2 薄膜进行分析 .结果表明 ,掺杂和热处理温度对薄膜晶... 采用无机试剂 ( Sn Cl4 · 5H2 O)为原料 ,用溶胶 -凝胶 ( Sol-Gel)法制备研制气敏传感器的 Sn O2 薄膜 ,研究了 Sn O2 薄膜的电阻随掺杂和温度的变化关系 ,并且用 XRD对 Sn O2 薄膜进行分析 .结果表明 ,掺杂和热处理温度对薄膜晶粒尺寸的大小、薄膜的结构形态均有较大的影响 ,进而影响薄膜的电导及传感器的灵敏度 . 展开更多

关键词 XRD 二氧化锡薄膜 溶胶-凝胶法 气敏传感器

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射频溅射法研制SnO_2纳米薄膜 被引量：5

20

作者 刘庆业 蒙冕武 +1 位作者 邓希敏 刘明登 《广西师范大学学报（自然科学版）》 CAS 2001年第4期64-67,共4页

采用射频溅射工艺制得细小均匀的 β-Sn纳米锡膜 ,然后通过氧化处理工艺获得组织非常细小均匀的纳米级二氧化锡薄膜 .X-衍射实验结果表明 Sn和 Sn O2 晶粒尺寸分别约为 6 nm和 5 nm,采用该工艺获得的Sn O2 纳米薄膜结构比较稳定 ,为薄膜... 采用射频溅射工艺制得细小均匀的 β-Sn纳米锡膜 ,然后通过氧化处理工艺获得组织非常细小均匀的纳米级二氧化锡薄膜 .X-衍射实验结果表明 Sn和 Sn O2 晶粒尺寸分别约为 6 nm和 5 nm,采用该工艺获得的Sn O2 纳米薄膜结构比较稳定 ,为薄膜型 Sn O2 展开更多

关键词 射频溅射 sno2 二氧化锡薄膜 纳米材料 制备工艺

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