SiO2嵌入分离层制备高性能薄膜复合膜 被引量：1

1

作者 胡小杰 丰桂珍 +2 位作者 方圳生 张火梅 陈俊 《水处理技术》 北大核心 2025年第3期44-48,共5页

为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO_(2))作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO_(2)),研究SiO_(2)... 为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO_(2))作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO_(2)),研究SiO_(2)的添加对膜表面特性、分离性能及抗污染性能的影响。结果表明:SiO_(2)的嵌入对膜的表面粗糙度、亲水性和负电性都有较大增强;当SiO_(2)添加质量比为0.02%时,TFN-SiO_(2)膜的水通量达到35.5 L/(m^(2)·h),对Na_(2)SO_(4)的截留维持在95%以上,在30 h的脱盐试验中保持良好的稳定性,同时对腐殖酸(HA)、牛血清蛋白(BSA)、海藻酸钠(SA)三种模型污染物的抗污染性能有所提升。 展开更多

关键词 界面聚合 sio2 薄膜复合膜 抗污染性

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SiO2薄膜热应力模拟计算 被引量：10

2

作者 吴靓臻 唐吉玉 +3 位作者 马远新 孔蕴婷 文于华 陈俊芳 《华南师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2009年第1期52-55,共4页

薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋... 薄膜内应力严重影响薄膜在实际中的应用.该文采用有限元模型对S iO2薄膜热应力进行模拟计算,验证了模型的准确性.计算了薄膜热应力的大小和分布,分析了不同镀膜温度、不同膜厚和不同基底厚度生长环境下热应力的大小,得到了相应的变化趋势图,对薄膜现实生长具有一定的指导意义. 展开更多

关键词 热应力 sio2薄膜 有限元 模拟

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Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7栅绝缘层的SiO2修饰对ZnO-TFTs性能的影响

3

作者 叶伟 崔立堃 常红梅 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第6期1344-1351,共8页

具有高介电常数的栅绝缘层材料存在某种极化及耦合作用,使得ZnO-TFTs具有高的界面费米能级钉扎效应、大的电容耦合效应和低的载流子迁移率.为了解决这些问题,本文提出了一种使用SiO 2 修饰的Bi 1.5 Zn 1.0 Nb 1.5 O 7 作为栅绝缘层的ZnO... 具有高介电常数的栅绝缘层材料存在某种极化及耦合作用,使得ZnO-TFTs具有高的界面费米能级钉扎效应、大的电容耦合效应和低的载流子迁移率.为了解决这些问题,本文提出了一种使用SiO 2 修饰的Bi 1.5 Zn 1.0 Nb 1.5 O 7 作为栅绝缘层的ZnO-TFTs结构,分析了SiO 2 修饰对栅绝缘层和ZnO-TFTs性能的影响.结果表明,使用SiO 2 修饰后,栅绝缘层和ZnO-TFTs的性能得到显著提高,使得ZnO-TFTs在下一代显示领域中具有非常广泛的应用前景.栅绝缘层的漏电流密度从4.5×10^-5 A/cm^2 降低到7.7×10^-7 A/cm^2 ,粗糙度从4.52nm降低到3.74nm,ZnO-TFTs的亚阈值摆幅从10V/dec降低到2.81V/dec,界面态密度从8×10^13 cm^-2 降低到9×10 12 cm^-2 ,迁移率从0.001cm^2 /(V·s)升高到0.159cm^2 /(V·s). 展开更多

关键词 sio2薄膜 氧化锌薄膜晶体管 修饰层 Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7薄膜 射频磁控溅射

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磁场预退火对FeCo/SiO2薄膜结构和磁性的影响 被引量：1

4

作者 胡灵龙 冯明 +2 位作者 徐仕翀 李海波 刘梅 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2019年第5期55-58,共4页

采用溶胶-凝胶旋涂工艺并结合氢气还原在Si(001)基片上制备FeCo/SiO2薄膜。将薄膜样品在0、800 kA/m磁场中于400℃真空退火1 h后于900℃在氢气气氛中还原得到FeCo/SiO2薄膜。利用X射线衍射仪和振动样品磁强计对样品的结构和磁性进行分... 采用溶胶-凝胶旋涂工艺并结合氢气还原在Si(001)基片上制备FeCo/SiO2薄膜。将薄膜样品在0、800 kA/m磁场中于400℃真空退火1 h后于900℃在氢气气氛中还原得到FeCo/SiO2薄膜。利用X射线衍射仪和振动样品磁强计对样品的结构和磁性进行分析。结果表明:随着FeCo/SiO2薄膜中FeCo含量的增加,FeCo的晶粒尺寸增大,出现单畴-多畴转变,垂直膜面方向矫顽力先增大后减小,磁场预退火抑制FeCo晶粒生长,使单畴-多畴转变可在FeCo更高含量发生;平行膜面矫顽力变化相对复杂;饱和磁化强度值随着FeCo含量增加呈单调增加趋势,磁场退火对其影响较小。 展开更多

关键词 FeCo/sio2薄膜 溶胶-凝胶旋涂 磁场预退火 结构 磁性

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超亲水性介孔SiO2/Bi2O3/TiO2分层薄膜的制备及其自洁净性能研究 被引量：2

5

作者 严淑琴 胡芸 +1 位作者 单文杰 韦朝海 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1110-1114,共5页

采用溶胶-凝胶/旋转涂覆法在玻璃基板表面制备介孔SiO2/Bi2O3/TiO2分层薄膜。采用XRD、UV-vis及表面接触角测量仪对薄膜的结构、透光性及超亲水性进行分析。结果表明,介孔SiO2/Bi2O3/TiO2分层薄膜仍然保持了表面SiO2的介孔结构,在无光... 采用溶胶-凝胶/旋转涂覆法在玻璃基板表面制备介孔SiO2/Bi2O3/TiO2分层薄膜。采用XRD、UV-vis及表面接触角测量仪对薄膜的结构、透光性及超亲水性进行分析。结果表明,介孔SiO2/Bi2O3/TiO2分层薄膜仍然保持了表面SiO2的介孔结构,在无光照条件下仍具有超亲水性。涂有硬脂酸的薄膜在紫外光照射后恢复了其超亲水性,具有良好的自洁净性能。且SiO2/Bi2O3/TiO2分层薄膜表现出比单独的SiO2/TiO2和SiO2/Bi2O3分层薄膜更高的光催化活性。 展开更多

关键词 介孔sio2 BI2O3 TiO2分层薄膜 超亲水性 光催化 自洁净性能

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SiO2阻挡层对电子束沉积法生长高迁移率IWO薄膜性能的影响 被引量：2

6

作者 任世荣 陈新亮 +4 位作者 张存善 孙建 张晓丹 耿新华 赵颖 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期843-847,共5页

利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO(In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究。SiO2缓冲层在室温生长。SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜。实验获得的具有SiO2... 利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO(In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究。SiO2缓冲层在室温生长。SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜。实验获得的具有SiO2阻挡层的IWO薄膜的电子迁移率μ～54.5 cm.2V-.1s-1,电阻率ρ～5.86×10-4Ω.cm,电子载流子浓度n～1.95×1020 cm-3,400～1600 nm光谱区域内的平均透过率～76%。 展开更多

关键词 电子束沉积技术 sio2阻挡层 IWO薄膜 高迁移率

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TiO_2-SiO_2双组分膜结构与光催化性能的研究 被引量：23

7

作者 何静 江伟辉 +2 位作者 于云 宋力昕 胡行方 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期713-719,共7页

采用溶胶-凝胶法制备了不同Si/Ti比的TiO2-SiO2双组分膜.用紫外光照射亚甲基蓝的分解实验比较薄膜的光催化性能.通过XRD、FTIR、HRTEM、FE-SEM、AFM以及UV-VS-NIR分光光度计等分析手段对薄膜的结构和光学性能进行了表征.结果表明:适量S... 采用溶胶-凝胶法制备了不同Si/Ti比的TiO2-SiO2双组分膜.用紫外光照射亚甲基蓝的分解实验比较薄膜的光催化性能.通过XRD、FTIR、HRTEM、FE-SEM、AFM以及UV-VS-NIR分光光度计等分析手段对薄膜的结构和光学性能进行了表征.结果表明:适量SiO2的引入,显著提高了TiO2薄膜的光催化活性,Si/Ti比为0.2时薄膜的光催化活性为最佳. SiO2引入TiO2薄膜后,生成了Ti-O-Si玻璃相和无定形SiO2,这两种物相聚集在TiO2 晶界周围,有效地阻止了TiO2的晶粒长大,提高了锐钛矿相向金红石相的转变温度,使复合薄膜经过500℃热处理后,只有锐钛矿相存在,有利于薄膜的光催化活性的提高. 展开更多

关键词 TiO2-sio2薄膜 双组分 溶胶-凝胶法 光催化性能

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超亲水TiO_2/SiO_2复合薄膜的制备与表征 被引量：28

8

作者 余家国 赵修建 +2 位作者 林立 韩建军 赵青南 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期529-534,共6页

通过 ｓｏｌ－ｇｅｌ工艺在普通钠钙玻璃表面制备了均匀透明的 ＴｉＯ２／ＳｉＯ２复合薄膜．实验结果表明：在 ＴｉＯ２薄膜中添加 ＳｉＯ２，可以抑制薄膜中 ＴｉＯ２晶粒的长大，同时薄膜表面的羟基含量增加，水在复合薄膜表面的润... 通过 ｓｏｌ－ｇｅｌ工艺在普通钠钙玻璃表面制备了均匀透明的 ＴｉＯ２／ＳｉＯ２复合薄膜．实验结果表明：在 ＴｉＯ２薄膜中添加 ＳｉＯ２，可以抑制薄膜中 ＴｉＯ２晶粒的长大，同时薄膜表面的羟基含量增加，水在复合薄膜表面的润湿角下降，亲水能力增强．当 ＳｉＯ２含量为 １０～２０ ｍｏｌ％时获得了润湿角为０°的超亲水性薄膜． 展开更多

关键词 复合薄膜 超亲水性 制备 表征 二氧化钛 二氧化硅 钠钙玻璃 表面薄膜 溶胶-凝胶法

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纳米多孔SiO_2薄膜的制备与红外光谱研究 被引量：16

9

作者 王娟 张长瑞 +1 位作者 冯坚 杨大祥 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期1045-1048,共4页

以正硅酸乙酯为原料, 采用溶胶-凝胶法, 结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜. XRD表明薄膜为无定形态; SEM显示薄膜具有多孔网络结构, 其SiO2粒子直径为10～20 nm. 利用FTIR研究了薄膜的结构, 纳米多孔SiO2薄... 以正硅酸乙酯为原料, 采用溶胶-凝胶法, 结合旋转涂胶、超临界干燥工艺在硅片上制备了纳米多孔SiO2薄膜. XRD表明薄膜为无定形态; SEM显示薄膜具有多孔网络结构, 其SiO2粒子直径为10～20 nm. 利用FTIR研究了薄膜的结构, 纳米多孔SiO2薄膜含有Si-O-Si与Si-OR结构, 呈疏水性; 该SiO2薄膜热处理后因含有Si-OH基团而呈吸水性; 用三甲基氯硅烷对热处理SiO2薄膜进行修饰可使其呈疏水性, 修饰后的薄膜在N2中温度不高于450 ℃可保持其疏水性与多孔结构. 展开更多

关键词 纳米多孔 sio2薄膜 三甲基氯硅烷 溶胶-凝胶 红外光谱

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La／TiO_2-SiO_2薄膜的光催化性能研究 被引量：12

10

作者 何静 江伟辉 +2 位作者 于云 宋力昕 胡行方 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期230-234,共5页

采用溶胶-凝胶法制备了不同掺杂量的La／TiO2-SiO2复合薄膜．通过XRD、 FE-SEM和AFM研究了复合薄膜的微观结构,采用紫外光照射下亚甲基蓝的分解实验比较薄膜的光催化性能．结果表明:La掺杂可显著提高TiO2-SiO2复合薄膜的光催化活性,以5... 采用溶胶-凝胶法制备了不同掺杂量的La／TiO2-SiO2复合薄膜．通过XRD、 FE-SEM和AFM研究了复合薄膜的微观结构,采用紫外光照射下亚甲基蓝的分解实验比较薄膜的光催化性能．结果表明:La掺杂可显著提高TiO2-SiO2复合薄膜的光催化活性,以5％掺杂量为最佳,其光降解率比掺杂前提高了约23％．薄膜活性提高的主要原因是La掺杂后细化了TiO2的晶粒,提高了薄膜的比表面积,使其具有更高的氧化还原电势,La2+取代Ti4+ 进入到TiO2晶格,引起晶格膨胀,这种不同价离子的取代导致TiO2粒子表面电荷分布不平衡,从而提高了光生电子-空穴的分离效率． 展开更多

关键词 TiO2-sio2薄膜 LA掺杂 溶胶-凝胶法 光催化性能

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SiO_2薄膜光学常数物理模型（英文） 被引量：8

11

作者 刘华松 杨霄 +6 位作者 刘丹丹 王利栓 姜承慧 姜玉刚 季一勤 张锋 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第9期286-291,共6页

SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交... SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交表设计了8组反演计算实验,以评价函数MSE为考核指标。实验结果表明:对IBS SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为界面层模型,对EB SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为Pore模型。同时确定了不同物理模型对拟合MSE函数的影响大小和反演计算过程模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,两种薄膜反演计算的MSE函数相对初始MSE可下降35%和38%,表明拟合过程模型选择合理物理意义明确。文中提供了一种判断薄膜物理模型中各因素对于薄膜光学常数分析作用大小的途径,对于薄膜光学常数分析具有指导意义。 展开更多

关键词 sio2薄膜 光学常数 界面层 折射率梯度 孔隙 表面层

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TiO_2/SiO_2纳米薄膜的光催化活性和亲水性 被引量：29

12

作者 余家国 赵修建 +2 位作者 陈文梅 林立 张艾丽 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2001年第3期261-264,共4页

通过 sol-gel工艺在钠钙玻璃表面制备了均匀透明的 TiO_2/SiO_2复合纳米薄膜 .实验结果表明 :当 SiO_2添加量较高时 , TiO_2/SiO_2复合纳米薄膜的光催化活性明显降低 ;当 SiO_2添加量较低时 ,TiO_2/SiO_2复合薄膜的光催化活性无明显变... 通过 sol-gel工艺在钠钙玻璃表面制备了均匀透明的 TiO_2/SiO_2复合纳米薄膜 .实验结果表明 :当 SiO_2添加量较高时 , TiO_2/SiO_2复合纳米薄膜的光催化活性明显降低 ;当 SiO_2添加量较低时 ,TiO_2/SiO_2复合薄膜的光催化活性无明显变化 .在 TiO_2薄膜中添加 SiO_2,可以抑制薄膜中 TiO_2晶粒的长大 ,同时薄膜表面的羟基含量增加 ,水在复合薄膜表面的润湿角下降 ,亲水能力增强 .当 SiO_2含量为 10％－ 20％（摩尔分数）时获得了润湿角为 0°的超亲水性薄膜 . 展开更多

关键词 复合纳米薄膜 二氧化钛 二氧化硅 溶胶-凝胶工艺 光催化活性 超亲水性

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离子束溅射制备氧化物薄膜沉积速率调整方法 被引量：3

13

作者 刘华松 傅翾 +7 位作者 季一勤 张锋 陈德应 姜玉刚 刘丹丹 王利栓 冷健 庄克文 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第7期2192-2197,共6页

采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。采用正交表L9(34)设计了9组实验,采用时间监控的离子束溅射沉积方法,分别制备HfO2、Ta2O... 采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。采用正交表L9(34)设计了9组实验,采用时间监控的离子束溅射沉积方法,分别制备HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜,并对三种薄膜的27个样品采用椭圆偏振法测量并计算物理厚度,继而获得沉积速率。实验结果表明:对Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率影响的工艺参数相同,影响权重从大到小依次为离子束流、离子束压、氧气流量和基板温度;对HfO2薄膜沉积速率影响的工艺参数按权重从大到小依次为离子束流、离子束压、基板温度和氧气流量。研究结果为调整HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率提供了依据。 展开更多

关键词 离子束溅射 HFO2薄膜 Ta2O5薄膜 sio2薄膜 沉积速率

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还原温度对FeCo/SiO_2薄膜结构和磁性的影响 被引量：4

14

作者 刘梅 鲁铭 +2 位作者 王世苗 徐仕翀 李海波 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期23-26,共4页

采用溶胶-凝胶旋涂法并结合在氢气中的还原工艺,在Si(001)基片上制备FeCo/SiO2复合薄膜,利用X线衍射和振动样品磁强计研究了还原温度对薄膜样品微观结构和磁性的影响。结果表明:当还原温度为700℃,薄膜中FeCo具有强的(110)择优取向,样... 采用溶胶-凝胶旋涂法并结合在氢气中的还原工艺,在Si(001)基片上制备FeCo/SiO2复合薄膜,利用X线衍射和振动样品磁强计研究了还原温度对薄膜样品微观结构和磁性的影响。结果表明:当还原温度为700℃,薄膜中FeCo具有强的(110)择优取向,样品矫顽力较大;随着还原温度的升高,FeCo出现(200)择优取向生长,样品矫顽力逐渐降低;当还原温度为1000℃,FeCo具有较强的(200)择优取向,晶面间距膨胀引致的相对形变最小,样品矫顽力较小;当还原温度为1200℃,样品中出现晶态SiO2,FeCo具有强的(110)择优取向,不利于复合薄膜软磁性能提高。 展开更多

关键词 溶胶-凝胶旋涂 FeCo/sio2薄膜 结构 择优取向 磁性

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不同沉积方式SiO_2薄膜的自然时效特性（英文） 被引量：2

15

作者 姜玉刚 刘小利 +6 位作者 刘华松 王利栓 李士达 陈丹 刘丹丹 姜承慧 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第5期266-271,共6页

SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。文中采用不同沉积技术在Si基底上制备了SiO_2薄膜,并研究了它们光学特性的自然时效特性。采用不同贮存时间的椭偏光谱表征SiO_2薄膜的光学特性,随着时间的增加,EB-SiO_2薄膜和IAD... SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。文中采用不同沉积技术在Si基底上制备了SiO_2薄膜,并研究了它们光学特性的自然时效特性。采用不同贮存时间的椭偏光谱表征SiO_2薄膜的光学特性,随着时间的增加,EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度随着增加,但IBS-SiO_2薄膜随着减小,变化率分别为1.0%,2.3%和-0.2%。当贮存时间达到120天时,IBS-SiO_2薄膜、EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度趋于稳定。实验结果表明,IBSSiO_2薄膜的光学特性稳定性最好,在最外层保护薄膜选择中,应尽可能选择离子束溅射技术沉积SiO_2薄膜。 展开更多

关键词 IBS-sio2薄膜 EB-sio2薄膜 IAD-sio2薄膜 光学稳定性 光学常数

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退火和老化气氛对铝酸钙玻璃上SiO_2薄膜性能影响 被引量：4

16

作者 赵华 金扬利 +1 位作者 祖成奎 韩滨 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期116-120,共5页

将用IAD法在CAB玻璃基体上沉积的SiO2薄膜在600℃条件下部分进行退火,然后在不同湿度气氛中进行老化处理。利用分光光度计、纳米硬度计和扫描电镜研究了退火处理及不同老化气氛对SiO2薄膜的光谱性能、硬度及摩擦性能的影响。实验结果如... 将用IAD法在CAB玻璃基体上沉积的SiO2薄膜在600℃条件下部分进行退火,然后在不同湿度气氛中进行老化处理。利用分光光度计、纳米硬度计和扫描电镜研究了退火处理及不同老化气氛对SiO2薄膜的光谱性能、硬度及摩擦性能的影响。实验结果如下:虽然退火和老化方式影响SiO2薄膜的结构,但不同处理的SiO2膜层表面摩擦系数均小于CAB玻璃基体,退火处理后的SiO2薄膜硬度高于不退火处理的SiO2薄膜硬度;SiO2薄膜在可见光区内对CAB玻璃能够起到有效的增透作用;退火处理后红外透过率提高。实验结果表明CAB玻璃表面镀SiO2薄膜在不损害光谱性能的同时可以起到有效地防护作用,显著提高其耐摩性能。 展开更多

关键词 退火 SiO薄膜 光学性能 力学性能 扫描电镜

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PECVD SiO_2薄膜内应力研究 被引量：17

17

作者 孙俊峰 石霞 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期397-400,共4页

研究了等离子体增强化学气相淀积(PECVD)法生长SiO2薄膜的内应力。借助XP-2型台阶仪和椭偏仪测量计算了SiO2薄膜的内应力,通过改变薄膜淀积时的工艺条件,如淀积温度、气体流量、反应功率、腔体压力等,分析了这些参数对SiO2薄膜内应力的... 研究了等离子体增强化学气相淀积(PECVD)法生长SiO2薄膜的内应力。借助XP-2型台阶仪和椭偏仪测量计算了SiO2薄膜的内应力,通过改变薄膜淀积时的工艺条件,如淀积温度、气体流量、反应功率、腔体压力等,分析了这些参数对SiO2薄膜内应力的影响。同时讨论了内应力产生的原因以及随工艺条件变化的机理,对工艺条件的优化有一定参考价值。 展开更多

关键词 内应力 二氧化硅薄膜 等离子增强化学气相淀积

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相变光盘介电薄膜ZnS-SiO_2 的微结构和光学特性(英文) 被引量：3

18

作者 刘波 阮昊 干福熹 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第7期834-836,共3页

采用射频磁控溅射法制备了ZnS SiO2 介电薄膜 ,利用透射电镜和椭偏仪研究了溅射条件对ZnS SiO2薄膜微结构和折射率n的影响 研究表明 ,ZnS SiO2 薄膜中存在微小晶粒 ,大小为 2～ 10nm的ZnS颗粒分布在SiO2 基体中 ,当溅射功率和溅射气压... 采用射频磁控溅射法制备了ZnS SiO2 介电薄膜 ,利用透射电镜和椭偏仪研究了溅射条件对ZnS SiO2薄膜微结构和折射率n的影响 研究表明 ,ZnS SiO2 薄膜中存在微小晶粒 ,大小为 2～ 10nm的ZnS颗粒分布在SiO2 基体中 ,当溅射功率和溅射气压变化时 ,ZnS SiO2 薄膜的微结构和折射率n发生显著变化 ,微结构的变化是导致折射率n变化的主要原因 ,通过优化溅射条件可以制备适用于相变光盘的高质量ZnS SiO2 展开更多

关键词 ZnS—sio2薄膜 微结构 折射率 射频磁控溅射法 透射电镜 椭偏仪

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多孔TiO_2/SiO_2复合薄膜的制备及其超亲水性机理 被引量：7

19

作者 杨春晓 黄洪 +1 位作者 黄涛 司徒粤 《应用化工》 CAS CSCD 2013年第7期1174-1179,共6页

采用溶胶-凝胶法,以钛酸四丁酯和正硅酸乙酯为前驱体,利用乙酰丙酮和二乙醇胺为络合剂,制备多孔TiO2/SiO2复合薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)、X射线衍射分析(XRD)、接触角测试仪(WCA)等... 采用溶胶-凝胶法,以钛酸四丁酯和正硅酸乙酯为前驱体,利用乙酰丙酮和二乙醇胺为络合剂,制备多孔TiO2/SiO2复合薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)、X射线衍射分析(XRD)、接触角测试仪(WCA)等对薄膜的结构和性能进行了表征。结果表明,TiO2/SiO2复合薄膜表面相对孤立或连通的孔结构是由缩聚反应诱导的相分离以及溶胶-凝胶转化过程同步作用产生的。多孔复合薄膜具有优异的超亲水性能,自然条件下与水接触角仅为2.5°,而普通致密TiO2薄膜在相同条件下接触角为19.3°。复合薄膜的超亲水性是由多孔结构和SiO2复合的共同作用产生,受到表面微观形貌和表面化学组成(羟基含量)的共同影响。 展开更多

关键词 TIO2 sio2复合薄膜 多孔结构 相分离 超亲水性 羟基含量

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Ag/SiO_2复合薄膜的紫外光还原制备及其光学性能 被引量：5

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作者 孙小飞 魏长平 +1 位作者 李启源 许洁 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第11期1895-1899,共5页

采用溶胶凝胶法(sol-gel)制备不同Ag掺杂量的Ag/SiO2复合薄膜,通过紫外辐射技术对薄膜进行了还原处理,采用XRD、SEM、IR、UV-Vis、Raman和荧光光谱(PL)等技术对薄膜样品结构进行了表征和光学性能测试。XRD结果表明,复合薄膜样品中的Ag... 采用溶胶凝胶法(sol-gel)制备不同Ag掺杂量的Ag/SiO2复合薄膜,通过紫外辐射技术对薄膜进行了还原处理,采用XRD、SEM、IR、UV-Vis、Raman和荧光光谱(PL)等技术对薄膜样品结构进行了表征和光学性能测试。XRD结果表明,复合薄膜样品中的Ag纳米粒子呈面心立方相,利用谢乐公式计算出金属银的平均晶粒尺寸约为10.2nm;SEM结果显示,所得Ag/SiO2复合薄膜均匀性良好,薄膜中绝大部分纳米颗粒尺寸较小,薄膜约厚1μm;UV-Vis结果表明,随着nAg/nSi的增加,Ag纳米粒子在420nm附近的表面等离子共振吸收峰逐渐增强,并伴有一定的红移;PL谱表明,由于Ag纳米粒子的表面等离子共振,薄膜样品在442nm处发出强光,并且随着Ag浓度增大,发光强度略有降低,出现蓝移;从Raman光谱可以看出由于Ag纳米颗粒表面局域电磁场增强造成的表面增强的拉曼散射(SERS)。 展开更多

关键词 Ag/sio2 复合薄膜 紫外辐射 光学性能

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