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类锗烯H2C=GeLiCl与RH(R=F,OH,NH2)的插入反应 被引量:2
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作者 李文佐 肖翠平 +1 位作者 宫宝安 程建波 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第4期720-724,共5页
采用DFTB3LYP和QCISD方法研究了不饱和类锗烯H2C!GeLiCl与RH(R=F,OH,NH2)的插入反应.在B3LYP/6-311+G(d,p)水平上优化了反应势能面上的驻点构型.结果表明,H2C!GeLiCl与HF、H2O或NH3发生插入反应的机理相同.QCISD/6-311++G(d,p)//B3LYP/6... 采用DFTB3LYP和QCISD方法研究了不饱和类锗烯H2C!GeLiCl与RH(R=F,OH,NH2)的插入反应.在B3LYP/6-311+G(d,p)水平上优化了反应势能面上的驻点构型.结果表明,H2C!GeLiCl与HF、H2O或NH3发生插入反应的机理相同.QCISD/6-311++G(d,p)//B3LYP/6-311+G(d,p)计算的三个反应的势垒分别为173.53、194.48和209.05kJ·mol-1,反应热分别为60.18、72.93和75.34kJ·mol-1.相同条件下发生插入反应时,反应活性顺序都是H—F>H—OH>H—NH2. 展开更多
关键词 类锗烯H2C=GeLiCl rh(r=f oh nh2) 插入反应 DfT QCISD
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