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采用AlGaN/GaN阻挡层的大功率InGaN/GaN MQWs蓝光LED 被引量:1
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作者 齐胜利 陈志忠 +8 位作者 潘尧波 郝茂盛 邓俊静 田朋飞 张国义 颜建锋 朱广敏 陈诚 李士涛 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期216-218,共3页
大功率InGaN/GaN多量子阱蓝光发光二极管在大注入电流下,载流子泄漏而引起的效率下降问题是目前限制大功率发光二极管光电特性及其应用的突出问题。本文通过在p型GaN和InGaN/GaN多量子阱(MQW)有源区之间插入p型AlGaN/GaN多量子势垒(MQB... 大功率InGaN/GaN多量子阱蓝光发光二极管在大注入电流下,载流子泄漏而引起的效率下降问题是目前限制大功率发光二极管光电特性及其应用的突出问题。本文通过在p型GaN和InGaN/GaN多量子阱(MQW)有源区之间插入p型AlGaN/GaN多量子势垒(MQB)电子阻挡层,利用多量子势垒对电子的量子反射作用,有效地解决了大注入下载流子泄漏问题。与未使用多量子势垒电子阻挡层的样品相比,MQB样品的光功率和外量子效率分别提高了约80%和100%。 展开更多
关键词 氮化镓 多量子阱 发光二极管 铝镓氮/氮化镓 多量子势垒 外量子效率
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Photoluminescence of green InGaN/GaN MQWs grown on pre-wells
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作者 Shou-Qiang Lai Qing-Xuan Li +5 位作者 Hao Long Jin-Zhao Wu Lei-Ying Ying Zhi-Wei Zheng Zhi-Ren Qiu and Bao-Ping Zhang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第12期492-497,共6页
Photoluminescence(PL)characteristics of the structure consisting of green InGaN/GaN multiple quantum wells(MQWs)and low indium content InGaN/GaN pre-wells are investigated.Several PL peaks from pre-wells and green InG... Photoluminescence(PL)characteristics of the structure consisting of green InGaN/GaN multiple quantum wells(MQWs)and low indium content InGaN/GaN pre-wells are investigated.Several PL peaks from pre-wells and green InGaN/GaN MQWs are observed.The peak energy values for both pre-wells and green InGaN/GaN MQWs display an S-shaped variation with temperature.In addition,the differences in the carrier localization effect,defect density,and phonon-exciton interaction between the pre-wells and green InGaN/GaN MQWs,and the internal quantum efficiency of the sample are studied.The obtained results elucidate the mechanism of the luminescence characteristics of the sample and demonstrate the significant stress blocking effect of pre-wells. 展开更多
关键词 ingan/gan PHOTOLUMINESCENCE pre-wells green LED
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MOCVD生长InGaN/GaN MQW紫光LED 被引量:9
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作者 李忠辉 杨志坚 +7 位作者 于彤军 胡晓东 杨华 陆曙 任谦 金春来 章蓓 张国义 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期107-109,共3页
利用LP MOCVD系统生长了InGaN/GaNMQW紫光LED外延片 ,双晶X射线衍射测试获得了 2级卫星峰 ,室温光致发光谱的峰值波长为 399 5nm ,FWHM为 15 5nm ,波长均匀性良好。制成的LED管芯 ,正向电流2 0mA时 ,工作电压在 4V以下。
关键词 ingan 量子阱 紫光LED MOCVD 发光二极管 外延生长 镓铟化合物 氮化镓 gan
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硅基InGaN/GaN多量子阱微盘器件的发光、探测和数据传输 被引量:1
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作者 秦飞飞 卢雪瑶 +6 位作者 王潇璇 吴佳启 曹越 张蕾 樊学峰 朱刚毅 王永进 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第6期978-985,共8页
光源和探测器的集成可有效促进轻量化和小型化光电系统的发展,InGaN/GaN多量子阱器件中发光与探测共存现象为收发一体芯片的设计提供了可能。本文采用标准半导体工艺制备了硅片上集成的圆盘形InGaN/GaN多量子阱阵列器件,并对其发光、探... 光源和探测器的集成可有效促进轻量化和小型化光电系统的发展,InGaN/GaN多量子阱器件中发光与探测共存现象为收发一体芯片的设计提供了可能。本文采用标准半导体工艺制备了硅片上集成的圆盘形InGaN/GaN多量子阱阵列器件,并对其发光、探测以及基本通信特性进行了研究。微盘型器件中的共振模式有助于提升其探测特性,同时各向同性的辐射特性有助于器件作为光源时与探测器在空间上的耦合。作为光源,该器件的开启电压为2.5 V,中心波长455 nm,-3 dB带宽为5.4 MHz。作为探测器,该器件对紫外到蓝光波段的光有响应,探测性能随波长增加而减弱,截止波长450 nm。在365 nm光源激发下,该器件具有最高开关比7.2×10^(4),下降沿时间为0.41 ms。同时,基于单个微盘器件,本文构建并演示了半双工通信系统,在不同频段实现数据传输。这项研究对于电驱动光源制备以及收发一体的光通信具有重要意义。 展开更多
关键词 硅基ingan/gan 多量子阱器件 发光与探测 半双工通信
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Efficiency Droop Effect Mechanism in an InGaN/GaN Blue MQW LED 被引量:1
5
作者 WANG Jia-Xing WANG Lai +1 位作者 HAO Zhi-Biao LUO Yi 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2011年第11期249-252,共4页
In order to clarify the origin of the efficiency droop effect in InGaN based blue multiple-quantum-well(MQW)light emitting diodes(LEDs),a reasonable model is set up,taking all the possible factor(carrier delocalizatio... In order to clarify the origin of the efficiency droop effect in InGaN based blue multiple-quantum-well(MQW)light emitting diodes(LEDs),a reasonable model is set up,taking all the possible factor(carrier delocalization,carrier leakage and Auger recombination)into account.By fitting the external quantum efficiency-injection current(η–Ⅰ)measurements of two LED samples,the validity of the model is demonstrated.The fit results show that the main origin of efficiency droop at a high injection current is carrier leakage.Furthermore it is also indicated that carrier delocalization plays an important role in the efficiency droop effect in those LEDs of large localization degree. 展开更多
关键词 ingan/gan LED INJECTION
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Carrier transport via V-shaped pits in InGaN/GaN MQW solar cells
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作者 刘诗涛 全知觉 王立 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第3期558-563,共6页
Carrier transport via the V-shaped pits (V-pits) in InGaN/GaN multiple-quantum-well (MQW) solar cells is numer- ically investigated. By simulations, it is found that the V-pits can act as effective escape paths fo... Carrier transport via the V-shaped pits (V-pits) in InGaN/GaN multiple-quantum-well (MQW) solar cells is numer- ically investigated. By simulations, it is found that the V-pits can act as effective escape paths for the photo-generated carriers. Due to the thin barrier thickness and low indium composition of the MQW on V-pit sidewall, the carriers entered the sidewall QWs can easily escape and contribute to the photocurrent. This forms a parallel escape route for the carries generated in the fiat quantum wells. As the barrier thickness of the fiat MQW increases, more carriers would transport via the V-pits. Furthermore, it is found that the V-pits may reduce the recombination losses of carriers due to their screening effect to the dislocations. These discoveries are not only helpful for understanding the carrier transport mechanism in the InGaN/GaN MQW, but also important in design of the structure of solar cells. 展开更多
关键词 V-shaped pits ingan/gan multiple-quantum-well solar cells carrier transport
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p-NiO/MQWs/n-GaN异质结器件制备及其特性的研究
7
作者 项国姣 高薇 +4 位作者 付宏远 周毅坚 彭文博 赵洋 王辉 《光电子技术》 CAS 北大核心 2020年第3期180-185,共6页
采用射频磁控溅射设备以NiO为空穴注入层在MQWs/n-GaN上制备了p-NiO/MQWs/n-GaN异质结发光器件。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外分光光度计(UV-2700)等测试系统对制备的NiO层结构、形貌及光学特性进行了测试,结果表明Ni... 采用射频磁控溅射设备以NiO为空穴注入层在MQWs/n-GaN上制备了p-NiO/MQWs/n-GaN异质结发光器件。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外分光光度计(UV-2700)等测试系统对制备的NiO层结构、形貌及光学特性进行了测试,结果表明NiO薄膜具有较好的结晶质量。对p-NiO/MQWs/n-GaN异质结器件进行了电流-电压(I-V)特性和电致发光(EL)特性测试。I-V特性测试结果显示,器件具有明显的整流特性,开启电压约为2.9 V。EL特性测试结果显示,该器件实现了室温下的蓝紫光发射,结合GaN的光致发光(PL)谱和器件的能带结构图,对器件的电致发光机理进行了深入研究。 展开更多
关键词 NIO 量子阱 磁控溅射 电致发光
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MOVPE生长的InGaN/GaN单量子阱的光致发光和光吸收特性(英文) 被引量:5
8
作者 王玥 施卫 +3 位作者 苑进社 贺训军 胡辉 姬广举 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期407-411,共5页
研究了用金属有机物气相外延(MOVPE)法在蓝宝石衬底上生长的In组分浓度保持不变的InGaN/GaN单量子阱结构在室温下的发光特性和光吸收特性。实验结果表明,在InGaN厚度<3 nm时,随着样品InGaN势阱层宽度的增加(1 nm),光致发光(PL)谱的... 研究了用金属有机物气相外延(MOVPE)法在蓝宝石衬底上生长的In组分浓度保持不变的InGaN/GaN单量子阱结构在室温下的发光特性和光吸收特性。实验结果表明,在InGaN厚度<3 nm时,随着样品InGaN势阱层宽度的增加(1 nm),光致发光(PL)谱的发光峰值波长出现明显的红移33 nm现象,而且发光强度下降8%,谱线半峰全宽(FWHM)展宽,通过对样品的透射、反射光谱研究发现,量子阱层窄(1.5 nm)的样品在波长接近红外区时出现无吸收的现象,即R+T达到了100%,而在阱层较宽的样品中没有发现这一现象,对引起这些现象的原因进行了讨论。这些结果有助于开发和优化三族氮化物半导体光电器件的进一步研究工作。 展开更多
关键词 ingan/gan 单量子阱 光致发光 透射光谱 反射光谱
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具有超晶格应力调制结构的绿光InGaN/GaN多量子阱的发光特性 被引量:5
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作者 王小丽 王文新 +5 位作者 江洋 马紫光 崔彦翔 贾海强 宋京 陈弘 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第11期1152-1158,共7页
研究了具有InGaN/GaN超晶格(SL)插入结构的绿光InGaN/GaN多量子阱(MQW)的发光特性。结构测试表明,SL插入结构并没有引起MQW中平均In组份的增加,而是改变了In组份的分布,形成了高In组份的量子点和低In组份量子阱。其电致发光(EL)谱和光... 研究了具有InGaN/GaN超晶格(SL)插入结构的绿光InGaN/GaN多量子阱(MQW)的发光特性。结构测试表明,SL插入结构并没有引起MQW中平均In组份的增加,而是改变了In组份的分布,形成了高In组份的量子点和低In组份量子阱。其电致发光(EL)谱和光致发光(PL)谱均出现了双发光峰。我们认为这两个峰分别来自于量子点和量子阱,且存在着载流子从阱向点转移的输运机制。最后变温PL积分强度的Arrhenius拟合表明,SL插入结构并没有在MQW中引入新的缺陷,使其发光效率下降。 展开更多
关键词 ingan/gan多量子阱 超晶格 电致发光 光致发光
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GaN基外延膜的激光剥离和InGaNLD外延膜的解理 被引量:3
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作者 黎子兰 胡晓东 +3 位作者 章蓓 陈科 聂瑞娟 张国义 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期29-32,共4页
利用波长为 2 4 8nm的KrF准分子激光器进行了蓝宝石衬底GaN外延层剥离。对极薄的MOCVD生长的单层GaN外延膜 (3μm)和InGaNLD外延膜 (5 μm)实现了大面积剥离。对剥离蓝宝石衬底背面抛光和未抛光外延片的不同特点作了比较 ,激光剥离所需... 利用波长为 2 4 8nm的KrF准分子激光器进行了蓝宝石衬底GaN外延层剥离。对极薄的MOCVD生长的单层GaN外延膜 (3μm)和InGaNLD外延膜 (5 μm)实现了大面积剥离。对剥离蓝宝石衬底背面抛光和未抛光外延片的不同特点作了比较 ,激光剥离所需的能量密度阈值分别约为 2 0 0mJ/cm2 和 30 0mJ/cm2 ,优化结果表明 ,能量密度分别在 4 0 0mJ/cm2 和 6 0 0mJ/cm2 可实现稳定的剥离。同时对剥离后的InGaN多量子阱LD结构薄膜进行了解理 ,SEM观察显示获得的InGaNLD腔面平整光滑。 展开更多
关键词 剥离 gan ingan LD 解理
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In含量对InGaN/GaN LED光电性能的影响 被引量:4
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作者 李国斌 陈长水 刘颂豪 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期1233-1239,共7页
运用软件模拟和理论计算的方法分析了In含量对发光二极管光电性能的影响,研究了In含量与光谱功率密度、量子阱中载流子的浓度、辐射速率、发光功率等之间的关系。分析结果表明:电子泄漏与能带填充是影响光电性能的主要原因。当In含量较... 运用软件模拟和理论计算的方法分析了In含量对发光二极管光电性能的影响,研究了In含量与光谱功率密度、量子阱中载流子的浓度、辐射速率、发光功率等之间的关系。分析结果表明:电子泄漏与能带填充是影响光电性能的主要原因。当In含量较低时,随着电流密度增大(<8 kA/cm2),光谱发生蓝移程度相对较小,但电流密度太大(>8 kA/cm2)会造成电子泄漏,发光功率降低;而当In含量较高时,随着电流密度增大,光谱发生蓝移程度相对较大,但在电流密度较大时,会获得较高的发光功率。因此,为了使InGaN/GaN发光二极管获得最大量子效率与发光效率,应该根据电流密度的大小(8 kA/cm2)来选择In含量的高低。 展开更多
关键词 In含量 效率下降 数值模拟 ingan/gan发光二极管
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局域表面等离激元对InGaN/GaN多量子阱发光效率的影响 被引量:1
12
作者 许恒 闫龙 +2 位作者 李玲 张源涛 张宝林 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期324-330,共7页
Ag纳米粒子的形貌对InGaN/Ga N多量子阱(MQWs)的光致发光(PL)效率有着显著影响。本文采用离子束沉积(IBD)技术将Ag沉积在InGaN/Ga N MQWs上,然后通过快速热退火处理制备Ag纳米粒子。通过改变Ag的沉积时间获得了具有不同Ag纳米粒子形貌... Ag纳米粒子的形貌对InGaN/Ga N多量子阱(MQWs)的光致发光(PL)效率有着显著影响。本文采用离子束沉积(IBD)技术将Ag沉积在InGaN/Ga N MQWs上,然后通过快速热退火处理制备Ag纳米粒子。通过改变Ag的沉积时间获得了具有不同Ag纳米粒子形貌的样品。用原子力显微镜对各样品的Ag纳米粒子形貌和尺寸进行了表征,并且测试了吸收谱、室温和变温PL谱及时间分辨光致发光(TRPL)谱。结果表明:随着Ag沉积时间的延长,所得Ag纳米粒子粒径增大,粒子纵横比先增大后减小且吸收谱峰红移。由于不同形貌的Ag纳米粒子在入射光作用下产生的局域表面等离激元(LSPs)与MQWs中激子耦合强度不同,光发射能力也不同,与没有Ag纳米粒子的样品相比,沉积时间为15 s的样品室温PL积分强度被抑制6.74倍,沉积时间为25 s和35 s的样品室温PL积分强度分别增强1.55和1.72倍且峰位发生红移,沉积时间为45 s的样品室温PL积分强度基本没有变化。TRPL与变温PL的测试结果证明,室温PL积分强度的改变是由于LSPs与MQWs中的激子耦合作用引起的。纵横比大且吸收谱与MQWs的PL谱交叠大的Ag纳米粒子能够更好地增强InGaN/Ga N MQWs的发光。 展开更多
关键词 离子束沉积 AG纳米粒子 局域表面等离激元 ingan/gan多量子阱 光致发光
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MOCVD生长InGaN合金的表面形貌与光学性质研究(英文) 被引量:1
13
作者 苑进社 张淼 竹有章 《电子显微学报》 CAS CSCD 2006年第3期187-189,共3页
基于X射线衍射和原子力显微分析,研究了MOCVD生长的InGaN合金的表面形貌和光致发光光谱。结果发现本实验所用InGaN合金样品表面形貌呈现类花生状微结构团簇,纳米尺度较小的球状富铟InGaN颗粒附着在较大颗粒上;X射线衍射数据计算得微晶... 基于X射线衍射和原子力显微分析,研究了MOCVD生长的InGaN合金的表面形貌和光致发光光谱。结果发现本实验所用InGaN合金样品表面形貌呈现类花生状微结构团簇,纳米尺度较小的球状富铟InGaN颗粒附着在较大颗粒上;X射线衍射数据计算得微晶粒度折合当量直径约23nm。原子力显微测量得典型的微结构团簇横向宽度约400nm^900nm,表面粗糙度在所选择的6.43μm区域内方均根值为11.52nm,3.58μm区域内方均根值为8.48nm。在室温下用325nm连续激光激发测得样品的表面发光光谱,结果显示光致发光光谱出现多峰结构,其主要发光峰峰值波长分别位于569nm、532nm和497nm。理论计算分析认为发光光谱多峰结构可能是由于InGaN/GaN异质结构形成的F-P垂直腔中多光束干涉调制效应造成的,同时InGaN合金的尺度和组分涨落导致较宽的发光峰。研究结果对设计GaN基半导体光电子器件具有一定的参考价值。 展开更多
关键词 ingan/gan异质结构 表面形貌 光致发光
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量子尺寸效应对InGaN/GaN量子点中的类氢杂质态的影响 被引量:1
14
作者 蒋逢春 苏玉玲 李俊玉 《郑州轻工业学院学报(自然科学版)》 CAS 2012年第2期102-104,共3页
在有效质量近似下,运用变分法研究了量子尺寸效应对闪锌矿InGaN/GaN量子点中类氢杂质的施主束缚能的影响.数值结果显示,类氢杂质的施主束缚能在很大程度上依赖于杂质位置和量子点结构参数,当杂质位于量子点中心时,施主束缚能最大;当量... 在有效质量近似下,运用变分法研究了量子尺寸效应对闪锌矿InGaN/GaN量子点中类氢杂质的施主束缚能的影响.数值结果显示,类氢杂质的施主束缚能在很大程度上依赖于杂质位置和量子点结构参数,当杂质位于量子点中心时,施主束缚能最大;当量子点尺寸增加时,位于该量子点任一位置处的杂质束缚能均降低. 展开更多
关键词 ingan/gan 量子点 类氢杂质态 变分法 量子尺寸效应 束缚能
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红橙光InGaN/GaN量子阱的结构与光学性质研究
15
作者 苏辉 张荣 +8 位作者 谢自力 刘斌 李毅 傅德颐 赵红 华雪梅 韩平 施毅 郑有炓 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第10期747-750,共4页
采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术生长了具有高In组分InGaN阱层的InGaN/GaN多量子阱(MQW)结构,高分辨X射线衍射(HRXRD)ω-2θ扫描拟合得到阱层In含量28%。比较大的表面粗糙度表明有很大的位错密度。室温下光致荧光(PL)研究发现该... 采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术生长了具有高In组分InGaN阱层的InGaN/GaN多量子阱(MQW)结构,高分辨X射线衍射(HRXRD)ω-2θ扫描拟合得到阱层In含量28%。比较大的表面粗糙度表明有很大的位错密度。室温下光致荧光(PL)研究发现该量子阱发射可见的红橙光,峰位波长在610 nm附近。变温PL(15~300 K)进一步揭示量子阱在低温下有两个发光机制,对应的发射峰波长分别为538 nm和610 nm。由于In分凝和载流子的局域化导致的载流子动力改变,使得量子阱PL发光峰值随温度增加呈明显的"S"变化趋势。 展开更多
关键词 ingan/gan多量子阱 金属有机化学气相沉积 光致荧光谱 原子力显微镜 红橙光
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InGaN/GaN量子阱结构的应变状态与微结构、物理性能关系的研究
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作者 李超荣 吕威 张泽 《电子显微学报》 CAS CSCD 2005年第1期17-22,共6页
应变普遍存在于失配系统中,包括晶格、热膨胀系数以及扩散系数等失配,其状态即应变是否弛豫及弛豫程度与物理性能密切相关。量子阱或超晶格的晶格应变弛豫发生的临界厚度问题是关系到器件设计、材料制备的基本问题,虽然从理论上已提出... 应变普遍存在于失配系统中,包括晶格、热膨胀系数以及扩散系数等失配,其状态即应变是否弛豫及弛豫程度与物理性能密切相关。量子阱或超晶格的晶格应变弛豫发生的临界厚度问题是关系到器件设计、材料制备的基本问题,虽然从理论上已提出了多种计算模型,但不同的模型所计算出的结果差别很大,且不同的模型所使用的范围尚不确定。这就激发了从实验上予以研究的要求。另外,含N的III V族究竟适用何种模型尚无定论,且对其弛豫行为以及对性能的影响缺乏细致的研究。本文应用高分辨X射线衍射和透射电子显微技术研究了InGaN GaN量子阱结构的应变弛豫临界厚度、行为以及对物理性能的影响。得出InGaN GaN量子阱结构的应变弛豫临界厚度更适合基于介稳外延半导体结构应变弛豫的Fischer模型;失配位错为纯刃型位错,可通过滑移面的改变而形成穿透位错;弛豫发生后,非常明显地影响发光性能,尤其是室温下的发光性能。 展开更多
关键词 ingan/gan 量子阱结构 失配 临界厚度 半导体结构 发光性能 器件设计 弛豫 配位 超晶格
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Al在生长InGaN材料中的表面活化效应
17
作者 袁凤坡 尹甲运 +2 位作者 刘波 梁栋 冯志宏 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期126-128,共3页
为了解决材料的界面平整度,改善材料的晶体质量,在Ⅲ-Ⅴ族氮化物(InGaN)材料的生长过程中,加入了Al掺杂剂。实验发现,InGaN材料的双晶衍射半宽从533 arcsec(非掺Al)下降到399 arcsec(轻掺Al),PL光谱半宽变窄,从21.4 nm(非掺Al)降为20.9 ... 为了解决材料的界面平整度,改善材料的晶体质量,在Ⅲ-Ⅴ族氮化物(InGaN)材料的生长过程中,加入了Al掺杂剂。实验发现,InGaN材料的双晶衍射半宽从533 arcsec(非掺Al)下降到399 arcsec(轻掺Al),PL光谱半宽变窄,从21.4 nm(非掺Al)降为20.9 nm(轻掺Al)。研究结果表明,Al作为活性剂明显提高了InGaN材料质量,这将对改善LED和LD多量子阱材料和器件质量带来积极影响,目前还没有相关的文献报道。 展开更多
关键词 金属有机物化学汽相淀积 氮化镓 铟镓氮 铝活性剂
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MOCVD生长InGaN/AlGaN双异质结构与GaN过渡层的工艺与特性 被引量:1
18
作者 林秀华 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期324-329,共6页
评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,Ga... 评述利用MOCVD技术在α Al2 O3 衬底上生长GaN薄膜及InGaN/AlGaN双异质结 (DH)结构的工艺与特性 ;从表面动力学观点着重讨论了GaN过渡层MOCVD生长条件 (温度、气流束源等 )对表面形貌、结晶形态、掺杂及其光电性能的影响。分析表明 ,GaN薄膜生长速率主要依赖于反应炉温度 ,气流束源摩尔流量速率。若生长温度太高 ,引起PL发光谱峰向长波侧移动 ;GaN缓冲层生长温度必须控制在 5 5 0℃。高的Ⅴ /Ⅲ双气束流比率能够抑制GaN发光谱中 5 5 0nm辐射峰产生。为了获得高质量 p AlGaN、GaN层 ,控制生长温度和以Cp2 Mg为杂质源的Mg受主掺杂量 ,并在N2 气氛中 80 0℃快速退火 。 展开更多
关键词 氮化镓薄膜 ingan/A1gan双异质结构 MOCVD技术 掺杂 薄膜生长 发光二极管 生长动力学 金属有机物化学沉积 铟镓氮化合物 铝镓氮化合物
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氮空位在纳米GaN颗粒和InGaN AlGaN双异质结中的聚集(英文)
19
作者 张泽 王岩国 李辉 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期253-258,共6页
直流放电等离子法制备纳米GaN颗粒中的氮缺乏可导致空位形成。在电子显微观察的电子辐照条件下 ,这些N 空位将进一步凝聚 ,形成一个a =2 2 0 9nm ,b =3 82 6nm ,c=1 0 3 7nm ,α =β =γ =90°的调制结构。随着电子辐照剂量增加 ... 直流放电等离子法制备纳米GaN颗粒中的氮缺乏可导致空位形成。在电子显微观察的电子辐照条件下 ,这些N 空位将进一步凝聚 ,形成一个a =2 2 0 9nm ,b =3 82 6nm ,c=1 0 3 7nm ,α =β =γ =90°的调制结构。随着电子辐照剂量增加 ,纳米颗粒中心将出现空洞 ,同时使该区的金属镓离子迁移到颗粒的表面。电子显微分析及分子力学理论计算表明 ,这种新的调制结构系空位的有序排列所致。在此基础上 ,进一步研究了InGaN AlGaN的双异质结薄膜结构中直径约为 5 0nm的空洞存在与发光失效的关系 ,讨论了N 展开更多
关键词 氮空位 gan ingan/Algan 双异质结 聚集 氮化镓 氮铟镓 铝镓氮 纳米颗粒 调制结构 高分辨透射电子显微术 选区电子衍射 分子力学
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掺硅InGaN和掺硅GaN的光学性质的研究 被引量:5
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作者 康凌 刘宝林 +1 位作者 蔡加法 潘群峰 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第4期266-269,共4页
采用光致发光方法研究了采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)在蓝宝石衬底上生长的掺硅InGaN和掺硅GaN材料的光学性质。在室温下,InGaN材料带边峰位置为437.0nm,半高宽为14.3nm;GaN材料带边峰位置为363.4nm,半高宽为9.5nm。进行变温测量发... 采用光致发光方法研究了采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)在蓝宝石衬底上生长的掺硅InGaN和掺硅GaN材料的光学性质。在室温下,InGaN材料带边峰位置为437.0nm,半高宽为14.3nm;GaN材料带边峰位置为363.4nm,半高宽为9.5nm。进行变温测量发现,随温度的升高,两种材料的发光强度降低,半高宽增大;GaN材料的带边峰值能量位置出现红移现象,与Varshini公式符合较好;InGaN材料的带边峰值能量位置则出现红移 蓝移 红移现象,这与InGaN材料的局域态、热效应以及由于电子 空穴对的形成而造成的无序程度增加有关,对大于140K的峰值能量位置的红移用Varshini公式拟合,符合较好。 展开更多
关键词 ingan gan 半高宽 红移 蓝移 黄带
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