分别采用超声微波溶剂热法、常压溶剂热法及高压溶剂热法制备In_2Se_3/CuSe粉体,研究不同方法制备In_2Se_3/CuSe粉体的物相、形貌,并利用涂覆–快速热处理法制作薄膜太阳电池吸收层。通过XRD、Raman、FESEM和TEM对样品的物相、形貌和组...分别采用超声微波溶剂热法、常压溶剂热法及高压溶剂热法制备In_2Se_3/CuSe粉体,研究不同方法制备In_2Se_3/CuSe粉体的物相、形貌,并利用涂覆–快速热处理法制作薄膜太阳电池吸收层。通过XRD、Raman、FESEM和TEM对样品的物相、形貌和组成进行了表征。结果表明:超声微波溶剂热法和常压溶剂热法得到的产物是以In_2Se_3+CuSe混合相的形式存在,高压溶剂热法合成的In_2Se_3/CuSe粉体则呈核壳结构,(以In_2Se_3为核,CuSe为壳)。涂覆–快速热处理法制备CIS薄膜的FESEM照片结果表明,高压溶剂热法合成的In_2Se_3/CuSe更容易获得平整致密的薄膜。将该CIS薄膜直接用于电池器件的组装,获得的光电性能参数:Voc为50 m V,Jsc为8 m A/cm^2。展开更多
文章利用分子束外延方法在蓝宝石衬底上制备Bi_2Se_3拓扑绝缘体薄膜,研究衬底温度对薄膜生长质量的影响。首先对370、380、390、400℃衬底温度下生长的Bi_2Se_3薄膜样品,利用反射高能电子衍射仪(reflection high-energy electron diffra...文章利用分子束外延方法在蓝宝石衬底上制备Bi_2Se_3拓扑绝缘体薄膜,研究衬底温度对薄膜生长质量的影响。首先对370、380、390、400℃衬底温度下生长的Bi_2Se_3薄膜样品,利用反射高能电子衍射仪(reflection high-energy electron diffraction,RHEED)、原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)进行表面形貌的表征;利用X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)和X射线能谱仪(energy dispersive X-ray spectroscopy,EDS)对样品的晶相和化学组分进行分析筛样。结果表明,衬底温度为390℃时制备的Bi_2Se_3薄膜表面平整、成分接近理想配比、结晶质量较好。最后利用综合物性测量系统测量了最佳衬底温度制备的样品的电学性质,表明样品为n型拓扑绝缘体薄膜。展开更多
文摘分别采用超声微波溶剂热法、常压溶剂热法及高压溶剂热法制备In_2Se_3/CuSe粉体,研究不同方法制备In_2Se_3/CuSe粉体的物相、形貌,并利用涂覆–快速热处理法制作薄膜太阳电池吸收层。通过XRD、Raman、FESEM和TEM对样品的物相、形貌和组成进行了表征。结果表明:超声微波溶剂热法和常压溶剂热法得到的产物是以In_2Se_3+CuSe混合相的形式存在,高压溶剂热法合成的In_2Se_3/CuSe粉体则呈核壳结构,(以In_2Se_3为核,CuSe为壳)。涂覆–快速热处理法制备CIS薄膜的FESEM照片结果表明,高压溶剂热法合成的In_2Se_3/CuSe更容易获得平整致密的薄膜。将该CIS薄膜直接用于电池器件的组装,获得的光电性能参数:Voc为50 m V,Jsc为8 m A/cm^2。
文摘文章利用分子束外延方法在蓝宝石衬底上制备Bi_2Se_3拓扑绝缘体薄膜,研究衬底温度对薄膜生长质量的影响。首先对370、380、390、400℃衬底温度下生长的Bi_2Se_3薄膜样品,利用反射高能电子衍射仪(reflection high-energy electron diffraction,RHEED)、原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)进行表面形貌的表征;利用X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)和X射线能谱仪(energy dispersive X-ray spectroscopy,EDS)对样品的晶相和化学组分进行分析筛样。结果表明,衬底温度为390℃时制备的Bi_2Se_3薄膜表面平整、成分接近理想配比、结晶质量较好。最后利用综合物性测量系统测量了最佳衬底温度制备的样品的电学性质,表明样品为n型拓扑绝缘体薄膜。
