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深浮雕连续微光学元件制作方法(英文)
被引量:
6
1
作者
曾红军
陈波
+4 位作者
郭履容
杜春雷
邱传凯
王永茹
潘丽
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
2000年第4期1-6,共6页
提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考...
提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考察和讨论 ,并以微棱镜为例进行了实验验证 ,为进一步制作大数值孔径连续表面微光学元件打下了技术基础。
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关键词
微光学元件
蚀刻
连续深浮雕
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职称材料
大变倍比中波红外变焦系统的小型化设计
被引量:
4
2
作者
李岩
张葆
洪永丰
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第2期215-219,共5页
基于中波红外320×240制冷型探测器,采用机械正组补偿方式,引入衍射光学元件(DOE),并采用折叠光路,实现大变倍比中波红外变焦光学系统的小型化设计。利用变焦原理和Zemax光学设计软件给出系统结构参数,并对设计结果进行像质评价,对...
基于中波红外320×240制冷型探测器,采用机械正组补偿方式,引入衍射光学元件(DOE),并采用折叠光路,实现大变倍比中波红外变焦光学系统的小型化设计。利用变焦原理和Zemax光学设计软件给出系统结构参数,并对设计结果进行像质评价,对凸轮曲线求解等。设计与分析结果表明:系统使用6片透镜在3.7μm~4.8μm波段实现了18mm~360mm连续变焦,满足100%冷光阑匹配,在空间频率16lp/mm处MTF值均大于0.5。该系统具有大变倍比、变焦轨迹平滑等特点,可应用于机载光电侦察设备中。
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关键词
光学设计
连续变焦
衍射元件
大变倍比
小型化
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职称材料
一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法
被引量:
1
3
作者
董小春
杜春雷
+3 位作者
陈波
潘丽
王永茹
刘强
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第8期1006-1009,共4页
提出了一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法—预曝光蚀刻法 ( for-exposuremothod) ,并通过对光刻过程中各参量的控制 ,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻 ,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面...
提出了一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法—预曝光蚀刻法 ( for-exposuremothod) ,并通过对光刻过程中各参量的控制 ,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻 ,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面都大大地优于传统的蚀刻方法 .本文通过对比预曝光蚀刻法与常用的几种蚀刻方法 ,详尽的阐述了预曝光蚀刻法的原理及优点 ,为深浮雕光刻工艺的进一步发展奠定了基础 .
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关键词
连续深浮雕微透镜列阵
预曝光蚀刻法
线性深度
线性面形
深浮雕光刻工艺
明胶材料
微光学元件
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职称材料
红外中波连续变焦光学系统的设计
被引量:
11
4
作者
薛慧
李常伟
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期421-424,436,共5页
设计了红外连续变焦光学系统,该系统具有镜片少、透过率高、连续变焦倍率大、波段广、相对孔径大等突出特点.二元面和非球面的引入,使系统在不同变焦结构时14 lp/mm处的MTF均大于0.6,很好地校正了系统的色差和轴外像差.该系统在仅使用4...
设计了红外连续变焦光学系统,该系统具有镜片少、透过率高、连续变焦倍率大、波段广、相对孔径大等突出特点.二元面和非球面的引入,使系统在不同变焦结构时14 lp/mm处的MTF均大于0.6,很好地校正了系统的色差和轴外像差.该系统在仅使用4片镜片的情况下,实现了8倍连续变焦,系统透过率高于80%.结果表明该变焦系统具有良好的成像质量.
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关键词
光学设计
变焦系统
连续变焦
红外
衍射光学元件
无热化
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职称材料
用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究
5
作者
单明广
郭黎利
钟志
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第11期2880-2884,共5页
研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度...
研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度,可降低阵列的制作难度.针对并行激光直写系统阵列F/#小的特点,在建立连续深浮雕衍射透镜阵列非旁轴近似聚焦模型基础上,设计、制作和测试了波长为441.6nm,F/#为7.5的连续深浮雕衍射透镜阵阵列.测试结果表明:该阵列的衍射效率优于70%,远高于波带片阵列的40%.
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关键词
并行激光直写
连续浮雕衍射透镜
深浮雕
衍射效率
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职称材料
基于双曲初始相位的GS改进算法
被引量:
3
6
作者
修龙汪
李文青
+2 位作者
杨鹏
王博伟
张航
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第4期424-434,共11页
针对Gerchberg-Saxton(GS)算法对初始相位敏感、散斑噪声难以消除的问题,提出一种改进的GS算法。引入双曲面初始相位形式,通过迭代寻优算法,获得最佳相位参数,再通过迭代傅里叶变换优化算法进行优化,并用爬山算法进行邻域寻优,最后得到...
针对Gerchberg-Saxton(GS)算法对初始相位敏感、散斑噪声难以消除的问题,提出一种改进的GS算法。引入双曲面初始相位形式,通过迭代寻优算法,获得最佳相位参数,再通过迭代傅里叶变换优化算法进行优化,并用爬山算法进行邻域寻优,最后得到最佳的衍射光学元件相位分布。以方形光斑为例,用改进的GS算法和传统GS算法分别进行了数值仿真和光学实验,结果表明,改进算法整形结果具有0.999的高衍射效率和0.0187的低均方根误差,相比于传统GS算法,具有更好的应用价值。此外,采用改进算法产生相位分布规律,通过相位展开算法可以将其展开成连续曲面型衍射器件,从而降低因量化引入的加工误差。
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关键词
衍射光学元件
光束整形
Gerchberg-Saxton算法
连续曲面
散斑抑制
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职称材料
连续型衍射透镜激光直写技术研究
被引量:
1
7
作者
刘宏开
罗崇泰
+2 位作者
王多书
陈焘
叶自煜
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2006年第z2期53-56,共4页
研究了不同于台阶形式的具有连续浮雕结构的衍射聚光透镜的激光直写工艺。简要描述了光致抗蚀剂的曝光和显影,对激光直写工艺的机理和工艺过程进行阐述.利用 CLWS-300W/C 极坐标激光直写设备制作出了具有良好面形微结构和较高衍射效率...
研究了不同于台阶形式的具有连续浮雕结构的衍射聚光透镜的激光直写工艺。简要描述了光致抗蚀剂的曝光和显影,对激光直写工艺的机理和工艺过程进行阐述.利用 CLWS-300W/C 极坐标激光直写设备制作出了具有良好面形微结构和较高衍射效率的连续型衍射透镜。研究表明,激光直写技术直写精度高,加工工艺灵活,利用计算机的控制,能够根据光学设计产生的浮雕分布数据制作复杂的、任意形状和外形的微型浮雕结构,非常适合于高精度微光学元件的加工制作.
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关键词
连续型衍射透镜
光致抗蚀剂
激光直写
连续型浮雕结构
微光学元件
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职称材料
题名
深浮雕连续微光学元件制作方法(英文)
被引量:
6
1
作者
曾红军
陈波
郭履容
杜春雷
邱传凯
王永茹
潘丽
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
四川大学信息光学中心
出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
2000年第4期1-6,共6页
基金
中国科学院应用研究与发展重点项目
文摘
提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考察和讨论 ,并以微棱镜为例进行了实验验证 ,为进一步制作大数值孔径连续表面微光学元件打下了技术基础。
关键词
微光学元件
蚀刻
连续深浮雕
Keywords
Micro-
optical
elements
Etching
Deep
continuous
relief
分类号
TH703 [机械工程—精密仪器及机械]
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职称材料
题名
大变倍比中波红外变焦系统的小型化设计
被引量:
4
2
作者
李岩
张葆
洪永丰
机构
中国科学院航空光学成像与测量重点实验室
中国科学院研究生院
出处
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第2期215-219,共5页
基金
国家973重点基础研究发展规划项目(2009CB72400603B)
中国科学院航空光学成像与测量重点实验室基金(Y2HC1SR126)
文摘
基于中波红外320×240制冷型探测器,采用机械正组补偿方式,引入衍射光学元件(DOE),并采用折叠光路,实现大变倍比中波红外变焦光学系统的小型化设计。利用变焦原理和Zemax光学设计软件给出系统结构参数,并对设计结果进行像质评价,对凸轮曲线求解等。设计与分析结果表明:系统使用6片透镜在3.7μm~4.8μm波段实现了18mm~360mm连续变焦,满足100%冷光阑匹配,在空间频率16lp/mm处MTF值均大于0.5。该系统具有大变倍比、变焦轨迹平滑等特点,可应用于机载光电侦察设备中。
关键词
光学设计
连续变焦
衍射元件
大变倍比
小型化
Keywords
optical
design
continuous
zoom
diffractive
optical
element (DOE)
large zoom ra-tio
miniaturization
分类号
TN202 [电子电信—物理电子学]
O216 [理学—概率论与数理统计]
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职称材料
题名
一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法
被引量:
1
3
作者
董小春
杜春雷
陈波
潘丽
王永茹
刘强
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第8期1006-1009,共4页
文摘
提出了一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法—预曝光蚀刻法 ( for-exposuremothod) ,并通过对光刻过程中各参量的控制 ,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻 ,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面都大大地优于传统的蚀刻方法 .本文通过对比预曝光蚀刻法与常用的几种蚀刻方法 ,详尽的阐述了预曝光蚀刻法的原理及优点 ,为深浮雕光刻工艺的进一步发展奠定了基础 .
关键词
连续深浮雕微透镜列阵
预曝光蚀刻法
线性深度
线性面形
深浮雕光刻工艺
明胶材料
微光学元件
Keywords
Deeps
continuous
relief
micro-optic element
Forexposure method
relief
depth
Profile
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
红外中波连续变焦光学系统的设计
被引量:
11
4
作者
薛慧
李常伟
机构
南京电子技术研究所
南京天文光学技术研究所
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期421-424,436,共5页
基金
南京电子技术研究所控课题预研基金~~
文摘
设计了红外连续变焦光学系统,该系统具有镜片少、透过率高、连续变焦倍率大、波段广、相对孔径大等突出特点.二元面和非球面的引入,使系统在不同变焦结构时14 lp/mm处的MTF均大于0.6,很好地校正了系统的色差和轴外像差.该系统在仅使用4片镜片的情况下,实现了8倍连续变焦,系统透过率高于80%.结果表明该变焦系统具有良好的成像质量.
关键词
光学设计
变焦系统
连续变焦
红外
衍射光学元件
无热化
Keywords
optical
design
zoom lenses
continuous
-zoom
infrared
diffractive
optical
element
athermalization
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究
5
作者
单明广
郭黎利
钟志
机构
哈尔滨工程大学信息与通信工程学院
哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第11期2880-2884,共5页
基金
国家自然科学基金(60908026
60878028)
+1 种基金
黑龙江省博士后资助经费(LBH-Z08214)
哈尔滨市科技创新人才研究专项资金(2008RFQXG024)资助
文摘
研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度,可降低阵列的制作难度.针对并行激光直写系统阵列F/#小的特点,在建立连续深浮雕衍射透镜阵列非旁轴近似聚焦模型基础上,设计、制作和测试了波长为441.6nm,F/#为7.5的连续深浮雕衍射透镜阵阵列.测试结果表明:该阵列的衍射效率优于70%,远高于波带片阵列的40%.
关键词
并行激光直写
连续浮雕衍射透镜
深浮雕
衍射效率
Keywords
Maskless lithography
diffractive optical elements with continuous relief
Deep
relief
Diffraction efficiency
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
基于双曲初始相位的GS改进算法
被引量:
3
6
作者
修龙汪
李文青
杨鹏
王博伟
张航
机构
浙江工业大学理学院光电子智能化技术研究所
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第4期424-434,共11页
基金
国家自然科学基金(No.62075197)。
文摘
针对Gerchberg-Saxton(GS)算法对初始相位敏感、散斑噪声难以消除的问题,提出一种改进的GS算法。引入双曲面初始相位形式,通过迭代寻优算法,获得最佳相位参数,再通过迭代傅里叶变换优化算法进行优化,并用爬山算法进行邻域寻优,最后得到最佳的衍射光学元件相位分布。以方形光斑为例,用改进的GS算法和传统GS算法分别进行了数值仿真和光学实验,结果表明,改进算法整形结果具有0.999的高衍射效率和0.0187的低均方根误差,相比于传统GS算法,具有更好的应用价值。此外,采用改进算法产生相位分布规律,通过相位展开算法可以将其展开成连续曲面型衍射器件,从而降低因量化引入的加工误差。
关键词
衍射光学元件
光束整形
Gerchberg-Saxton算法
连续曲面
散斑抑制
Keywords
diffractive
optical
element
Beam shaping
Gerchberg-Saxton algorithm
continuous
surface
Speckle suppression
分类号
O439 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
连续型衍射透镜激光直写技术研究
被引量:
1
7
作者
刘宏开
罗崇泰
王多书
陈焘
叶自煜
机构
兰州物理研究所表面工程国家级重点实验室
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2006年第z2期53-56,共4页
文摘
研究了不同于台阶形式的具有连续浮雕结构的衍射聚光透镜的激光直写工艺。简要描述了光致抗蚀剂的曝光和显影,对激光直写工艺的机理和工艺过程进行阐述.利用 CLWS-300W/C 极坐标激光直写设备制作出了具有良好面形微结构和较高衍射效率的连续型衍射透镜。研究表明,激光直写技术直写精度高,加工工艺灵活,利用计算机的控制,能够根据光学设计产生的浮雕分布数据制作复杂的、任意形状和外形的微型浮雕结构,非常适合于高精度微光学元件的加工制作.
关键词
连续型衍射透镜
光致抗蚀剂
激光直写
连续型浮雕结构
微光学元件
Keywords
Continual
diffractive
lens
Photoresist
Laser direct writing
Continual
relief
Micro-
optical
elements
分类号
TN249 [电子电信—物理电子学]
O436.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
深浮雕连续微光学元件制作方法(英文)
曾红军
陈波
郭履容
杜春雷
邱传凯
王永茹
潘丽
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
2000
6
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职称材料
2
大变倍比中波红外变焦系统的小型化设计
李岩
张葆
洪永丰
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2013
4
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职称材料
3
一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法
董小春
杜春雷
陈波
潘丽
王永茹
刘强
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
1
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职称材料
4
红外中波连续变焦光学系统的设计
薛慧
李常伟
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
11
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职称材料
5
用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究
单明广
郭黎利
钟志
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
0
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职称材料
6
基于双曲初始相位的GS改进算法
修龙汪
李文青
杨鹏
王博伟
张航
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
3
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职称材料
7
连续型衍射透镜激光直写技术研究
刘宏开
罗崇泰
王多书
陈焘
叶自煜
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2006
1
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