检索结果-维普期刊中文期刊服务平台

磁控溅射CN_x薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系被引量：8: 1; 作者李俊杰王欣 +4 位作者卞海蛟郑伟涛吕宪义金曾孙孙龙《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期305-308,共4页; 对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,衬底温度(Ts)保持在350℃,衬底偏压(Vb)在0～-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CN... 展开更多; 关键词磁控溅射 CNX薄膜附着力粗糙度衬底偏压碳氮薄膜薄膜测量; 在线阅读下载PDF 职称材料

工艺参数对a-CN_x膜沉积的影响被引量：1: 2; 作者肖兴成江伟辉 +2 位作者宋力昕田静芬胡行方《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期183-187,共5页; 研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳（ａ－ＣＮｘ）薄膜沉积的影响．实验结果表明：Ｎ２流量的增加提高了膜的沉积速率，同时提高了膜中氮含量．溅射功率的提高增加了沉积速率．偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数，它不... 展开更多; 关键词 a-CNx膜工艺参数沉积薄膜磁控溅射氮化碳; 在线阅读下载PDF 职称材料

在不同退火温度下射频磁控溅射CN_x膜的电子场发射性质被引量：1: 3; 作者李哲奎李俊杰 +5 位作者金曾孙吕宪义白晓明郑冰田宏伟于狭升《吉林大学学报（理学版）》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期182-184,共3页; 对磁控溅射沉积得到的CNx膜在不同温度下进行真空退火,退火前后CNx膜的化学键合采用X射线光电子能谱表征.结果发现,沉积的CNx膜中氮原子与sp,sp2,sp3杂化碳原子相键合,并对经过退火的CNx膜的键合结构和电子场发射特性的影响进行了研究.; 关键词射频磁控溅射 CNx膜退火温度电子场发射; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	磁控溅射CN_x薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系	李俊杰王欣卞海蛟郑伟涛吕宪义金曾孙孙龙	《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2003	8	在线阅读下载PDF 职称材料
2	工艺参数对a-CN_x膜沉积的影响	肖兴成江伟辉宋力昕田静芬胡行方	《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心	2000	1	在线阅读下载PDF 职称材料
3	在不同退火温度下射频磁控溅射CN_x膜的电子场发射性质	李哲奎李俊杰金曾孙吕宪义白晓明郑冰田宏伟于狭升	《吉林大学学报（理学版）》 CAS CSCD 北大核心	2005	1	在线阅读下载PDF 职称材料