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MEMS矢量水听器敏感结构的后CMOS释放工艺研究 被引量:1
1
作者 谭皓宇 刘国昌 +3 位作者 张文栋 张国军 杨玉华 王任鑫 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第4期33-36,共4页
纤毛式微机电系统(MEMS)矢量水听器可探测水下质点振速等矢量信息,与互补金属氧化物半导体(CMOS)集成能够很大程度地提升其性能。针对纤毛式MEMS矢量水听器的CMOS集成提出了一种方案,该方案在MEMS后处理工艺中,利用侧墙保护和各向异性... 纤毛式微机电系统(MEMS)矢量水听器可探测水下质点振速等矢量信息,与互补金属氧化物半导体(CMOS)集成能够很大程度地提升其性能。针对纤毛式MEMS矢量水听器的CMOS集成提出了一种方案,该方案在MEMS后处理工艺中,利用侧墙保护和各向异性湿法腐蚀从正面释放水听器的十字梁敏感结构。整个后处理过程不需要光刻,降低加工难度的同时,保证了加工结构的精确性。设计出了一种验证性的工艺流程,具体分析了4种不同结构的湿法腐蚀过程。最终完成了这4种结构的工艺流片,对实验结果进行了分析。实验验证了该方案的可行性,为纤毛式MEMS矢量水听器的CMOS集成奠定了基础。 展开更多
关键词 矢量水听器 互补金属氧化物半导体集成 各向异性湿法腐蚀 侧墙保护 结构释放
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5G毫米波反向阵极简构架与CMOS芯片实现
2
作者 郭嘉诚 胡三明 +4 位作者 沈一竹 钱昀 胡楚悠 黄永明 尤肖虎 《电子与信息学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期1570-1581,共12页
该文首次报道了一种极简构架的5G毫米波反向阵设计原理及其CMOS芯片实现技术。该毫米波反向阵极简构架,利用次谐波混频器提供相位共轭和阵列反向功能,无需移相电路及波束控制系统,便可实现波束自动回溯移动通信功能。该文采用国产0.18μ... 该文首次报道了一种极简构架的5G毫米波反向阵设计原理及其CMOS芯片实现技术。该毫米波反向阵极简构架,利用次谐波混频器提供相位共轭和阵列反向功能,无需移相电路及波束控制系统,便可实现波束自动回溯移动通信功能。该文采用国产0.18μm CMOS工艺研制了5G毫米波反向阵芯片,包括发射前端、接收前端及跟踪锁相环等核心模块,其中发射及接收前端芯片采用次谐波混频及跨导增强等技术,分别实现了19.5 d B和18.7 d B的实测转换增益。所实现的跟踪锁相环芯片具备双模工作优势,可根据不同参考信号支持幅度调制及相位调制,实测输出信号相噪优于–125 dBc/Hz@100 kHz。该文给出的测试结果验证了所提5G毫米波反向阵通信架构及其CMOS芯片实现的可行性,从而为5G/6G毫米波通信探索了一种架构极简、成本极低、拓展性强的新方案。 展开更多
关键词 毫米波集成电路 cmos 反向阵 射频前端
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CMOS红外光源的设计与实现
3
作者 王林峰 余隽 +3 位作者 李中洲 黄正兴 朱慧超 唐祯安 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第2期120-123,126,共5页
基于红外气体传感器微型化、低成本和低功耗的发展需要,设计了一种用于非色散红外(NDIR)集成气体传感器的互补金属氧化物半导体(CMOS)红外光源。它以非等间隔的蛇形钨(W)薄膜电阻作为加热丝,以二氧化硅(SiO_(2))和氮化硅(Si_(3)N_(4))... 基于红外气体传感器微型化、低成本和低功耗的发展需要,设计了一种用于非色散红外(NDIR)集成气体传感器的互补金属氧化物半导体(CMOS)红外光源。它以非等间隔的蛇形钨(W)薄膜电阻作为加热丝,以二氧化硅(SiO_(2))和氮化硅(Si_(3)N_(4))多层复合介质薄膜为支撑形成悬空膜片式微热板,以氧化铜(CuO)和二氧化锰(MnO_(2))纳米材料复合薄膜作为辐射增强层。基于COMSOL软件进行了热电耦合仿真,证明结构设计合理性。采用标准CMOS工艺、硅(Si)的深刻蚀工艺以及静电流体动力学打印技术流片制造了该CMOS红外光源芯片。性能测试结果表明:该红外光源从室温升温至469℃的热响应时间约为41 ms,电功耗仅为138 mW,辐射区温度分布均匀,引入辐射增强层使表面比辐射率提高约35%,红外光源的辐射功率和红外光谱辐射强度测试结果表明:该涂层有效地增强了红外辐射。 展开更多
关键词 互补金属氧化物半导体红外光源 非色散红外集成气体传感器 辐射增强层 钨丝微热板
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Development of 0.50μm CMOS Integrated Circuits Technology
4
作者 Yu Shan, Zhang Dingkang and Huang Chang 《Journal of Systems Engineering and Electronics》 SCIE EI CSCD 1992年第4期7-10,2,共5页
Submicron CMOS IC technology, including triple layer resist lithography technology, RIE, LDD, Titanium Salicide, shallow junction, thin gate oxide, no bird's beak isolation and channel's multiple implantation ... Submicron CMOS IC technology, including triple layer resist lithography technology, RIE, LDD, Titanium Salicide, shallow junction, thin gate oxide, no bird's beak isolation and channel's multiple implantation doping technology have been developed. 0.50μm. CMOS integrated circuits have been fabricated using this submicron CMOS process. 展开更多
关键词 In m cmos integrated Circuits Technology Development of 0.50 cmos
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Development of Physical Library for Short Channel CMOS / SOI Integrated Circuits
5
作者 Zhang Xing, Lu Quan, Shi Yongguan, Yang Yinghua, Huang Chang 《Journal of Systems Engineering and Electronics》 SCIE EI CSCD 1992年第4期16-18,2-6,共5页
An 'Integrated Device and Circuit simulator' for thin film (0.05-0.2μm) submicron (0.5μm) and deep submicron (0.15, 0.25,0.35μm) CMOS/ SOI integrated circuit has been developed. This simulator has been used... An 'Integrated Device and Circuit simulator' for thin film (0.05-0.2μm) submicron (0.5μm) and deep submicron (0.15, 0.25,0.35μm) CMOS/ SOI integrated circuit has been developed. This simulator has been used for design and fabrication and physical library development of thin film submicron and deep submicron CMOS/ SOI integrated circuit. 展开更多
关键词 Development of Physical Library for Short Channel cmos In SOI integrated Circuits
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采用卷帘数字域TDI技术的CMOS成像系统设计 被引量:12
6
作者 陶淑苹 金光 +1 位作者 曲宏松 张贵祥 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第9期2380-2385,共6页
利用FPGA实现面阵CMOS传感器数字域TDI功能,可避免模拟域TDI的复杂电路设计、完善CMOS传感器成像方式、并可改进TDI CCD缺陷,具有重大的研究和应用价值。首先分析了同步快门方式和卷帘快门方式实现TDI的差异,然后根据TDI工作原理,提出... 利用FPGA实现面阵CMOS传感器数字域TDI功能,可避免模拟域TDI的复杂电路设计、完善CMOS传感器成像方式、并可改进TDI CCD缺陷,具有重大的研究和应用价值。首先分析了同步快门方式和卷帘快门方式实现TDI的差异,然后根据TDI工作原理,提出了更利于微光成像和推扫成像的卷帘数字域TDI算法,并利用设计的CMOS成像系统进行了成像实验。实验结果表明:卷帘数字域TDI算法正确,不仅可以实现等效于积分时间增加或入射照度增强M倍功能的M级积分,而且可明显改善成像质量,将信噪比为18.37 dB的未积分图像通过10级积分提高至32.65 dB。所提出的卷帘数字域TDI技术使得CMOS相机具备了时间延迟积分功能,改善了成像质量,并改进了TDICCD难以调焦和级数不可连续调整的缺陷。 展开更多
关键词 cmos 卷帘 时间延迟积分 信噪比 推扫
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基于数字域TDI算法改进面阵CMOS图像传感器功能 被引量:31
7
作者 曲宏松 张叶 金光 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1896-1903,共8页
为使面阵CMOS图像传感器具有TDI成像功能,研究了TDICCD的工作原理,提出了一种基于数字域的TDI算法,并讨论了如何利用FPGA实现该算法。该算法可在不改变CMOS器件构造的前提下,使其具有时间延迟积分功能。通过举例法推导出面阵CMOS图像传... 为使面阵CMOS图像传感器具有TDI成像功能,研究了TDICCD的工作原理,提出了一种基于数字域的TDI算法,并讨论了如何利用FPGA实现该算法。该算法可在不改变CMOS器件构造的前提下,使其具有时间延迟积分功能。通过举例法推导出面阵CMOS图像传感器数字域TDI计算公式,并在此基础上优化了算法结构,优化后可以节省(m-1)(m-2)/2行内存空间。最后以航天相机为背景,讨论了地面像元分辨力、行转移时间与CMOS帧频的关系,通过一个算例计算出不同分辨力和积分级数条件下对CMOS帧频的要求。计算结果表明,帧频大于648frame/s的1280×1024CMOS,可以满足600km轨道高度下地面像元分辨力为1m的96级积分成像要求。 展开更多
关键词 时间延迟积分 cmos图像传感器 数字域 帧频
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CMOS毫米波亚毫米波集成电路研究进展 被引量:8
8
作者 洪伟 陈继新 +8 位作者 严蘋蘋 汤红军 章丽 候德彬 蒯振起 周健义 朱晓维 周后型 吴柯 《微波学报》 CSCD 北大核心 2010年第4期1-6,共6页
近年来,随着工艺的不断进步,硅基集成电路已突破了仅适用于数字电路和低频模拟电路的传统观念,迅速拓展到毫米波甚至亚毫米波频段。在未来10年内,硅基工艺将具备覆盖毫米波频段的能力,并在部分器件与系统上实现到亚毫米波频段或太赫兹... 近年来,随着工艺的不断进步,硅基集成电路已突破了仅适用于数字电路和低频模拟电路的传统观念,迅速拓展到毫米波甚至亚毫米波频段。在未来10年内,硅基工艺将具备覆盖毫米波频段的能力,并在部分器件与系统上实现到亚毫米波频段或太赫兹的跨越。我国在该领域起步稍晚,但在国家重点基础研究发展计划("973"计划)、国家高技术研究发展计划("863"计划)和自然科学基金等的支持下,已快速开展研究并取得进展。文中概要介绍了国际上在硅基毫米波亚毫米波集成电路与系统方面的研究背景和我国特别是东南大学毫米波国家重点实验室在CMOS毫米波亚毫米波集成电路方面的最新研究进展。 展开更多
关键词 cmos器件 集成电路 毫米波 亚毫米波 太赫兹
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2.9GHz0.35μm CMOS低噪声放大器 被引量:13
9
作者 陶蕤 王志功 +1 位作者 谢婷婷 陈海涛 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第11期1530-1532,共3页
随着特征尺寸的不断减小 ,深亚微米CMOS工艺其MOSFET的特征频率已经达到 5 0GHz以上 ,使得利用CMOS工艺实现GHz频段的高频模拟集成电路成为可能 .越来越多的射频工程师开始利用先进的CMOS工艺设计射频集成电路 ,本文给出了一个利用 0 3... 随着特征尺寸的不断减小 ,深亚微米CMOS工艺其MOSFET的特征频率已经达到 5 0GHz以上 ,使得利用CMOS工艺实现GHz频段的高频模拟集成电路成为可能 .越来越多的射频工程师开始利用先进的CMOS工艺设计射频集成电路 ,本文给出了一个利用 0 3 5 μmCMOS工艺实现的 2 9GHz单片低噪声放大器 .放大器采用片内集成的螺旋电感实现低噪声和单片集成 .在 3伏电源下 ,工作电流为 8mA ,功率增益大于 10dB ,输入反射小于 - 12dB . 展开更多
关键词 cmos工艺 低噪声放大器 螺旋电感
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0.18μm CMOS 10Gb/s光接收机限幅放大器 被引量:10
10
作者 金杰 冯军 +1 位作者 盛志伟 王志功 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第8期1393-1395,共3页
利用TSMC 0 18μmCMOS工艺设计了应用于SDH系统STM 6 4 (10Gb/s)速率级光接收机中的限幅放大器 .该放大器采用了改进的Cherry Hooper结构以获得高的增益带宽积 ,从而保证限幅放大器在 10Gb/s以及更高的速率上工作 .测试结果表明 ,此限... 利用TSMC 0 18μmCMOS工艺设计了应用于SDH系统STM 6 4 (10Gb/s)速率级光接收机中的限幅放大器 .该放大器采用了改进的Cherry Hooper结构以获得高的增益带宽积 ,从而保证限幅放大器在 10Gb/s以及更高的速率上工作 .测试结果表明 ,此限幅放大器在 10Gb/s速率上 ,输入动态范围为 4 2dB(3 2mV~ 5 0 0mV) ,5 0Ω负载上的输出限幅在 2 5 0mV ,小信号输入时的最高工作速率为 12Gb/s.限幅放大器采用 1 8V电源供电 ,功耗 110mW .芯片的面积为0 7mm× 0 9mm . 展开更多
关键词 STM-64 光接收机 限幅放大器 Cherry-Hooper结构 0.18μm cmos工艺
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CMOS集成二维风速和风向传感器的研制 被引量:5
11
作者 张昭勇 秦明 +1 位作者 张中平 黄庆安 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期340-342,347,共4页
提出了一种新型结构的二维风向和风速传感器 ,其芯片上集成有运算放大电路。它主要由位于绝缘薄膜上的热敏感元件和加热电阻所组成 ,其中热敏感元件由两组互相垂直且分别对称放置的铝 /多晶硅型热电堆所构成 ,加热电阻位于热敏感元件的... 提出了一种新型结构的二维风向和风速传感器 ,其芯片上集成有运算放大电路。它主要由位于绝缘薄膜上的热敏感元件和加热电阻所组成 ,其中热敏感元件由两组互相垂直且分别对称放置的铝 /多晶硅型热电堆所构成 ,加热电阻位于热敏感元件的中间。具体阐述了此传感器的工作原理、结构尺寸和制备工艺 。 展开更多
关键词 cmos集成传感器 风速 风向 研制 运算放大电路 热敏感元件 加热电阻 EDP
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高帧频大动态范围CMOS图像传感器时序控制电路的设计与实现 被引量:11
12
作者 陈敏思 姚素英 +4 位作者 赵毅强 张生才 李树荣 徐江涛 王天盛 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期1922-1925,共4页
本文主要论述了CMOS图像传感器时序控制电路的系统设计和实现方法 .针对双采样结构的图像传感器 ,分析了常用的并行式曝光方式和滚筒式曝光方式两种时序控制方法及其具体实现过程 ,并根据时序控制电路的功能仿真和在FPGA上的验证结果 ,... 本文主要论述了CMOS图像传感器时序控制电路的系统设计和实现方法 .针对双采样结构的图像传感器 ,分析了常用的并行式曝光方式和滚筒式曝光方式两种时序控制方法及其具体实现过程 ,并根据时序控制电路的功能仿真和在FPGA上的验证结果 ,对二者进行了比较 。 展开更多
关键词 cmos图像传感器 时序控制 高帧频 大动态范围
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硅基光电探测器前置放大电路的输入级CMOS实现 被引量:2
13
作者 梁恩主 冯军 +2 位作者 郑婉华 王志功 陈良惠 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第9期1-2,16,共3页
介绍前置电路对光电探测器性能的影响和给出一种适用于硅基光电探测器前置放大电路的输入级CMOS实现。
关键词 光电集成电路 cmos 光电探测器 前置放大电路 硅基
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基于IBIS模型的CMOS电路同步开关噪声的计算和优化 被引量:2
14
作者 陈建华 毛军发 +1 位作者 蔡兴建 王德东 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期848-851,共4页
基于高速数字 I/O缓冲器瞬态行为模型计算并优化了 CMOS集成电路的同步开关噪声(SSN) .简述了用 IBIS(I/O Buffer Information Specification)数据文件构造高速数字 I/O缓冲器的瞬态行为模型的推导过程 ,利用序列二次规划法 (SQP)对 CMO... 基于高速数字 I/O缓冲器瞬态行为模型计算并优化了 CMOS集成电路的同步开关噪声(SSN) .简述了用 IBIS(I/O Buffer Information Specification)数据文件构造高速数字 I/O缓冲器的瞬态行为模型的推导过程 ,利用序列二次规划法 (SQP)对 CMOS电路的寄生参数和传输线的主要物理参数进行了优化分析 ,减小了 CMOS电路的 SSN. 展开更多
关键词 cmos电路 IBIS模型 同步开关噪声 序列二次规划法 高速集成电路 寄生参数
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基于高速CMOS图像传感器的空间瞬态光探测 被引量:5
15
作者 杨文才 汶德胜 +1 位作者 陈淑丹 王宏 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期764-768,共5页
(以CMOS图像传感器LUPA-1300-2为对象,研究了多斜率积分功能)在空间瞬态光探测系统中的应用.以ACTEL公司APA600 Flash型FPGA为硬件载体,分析设计了其驱动控制,验证了LUPA-1300-2的易操作性,结果表明,该功能可以降低系统的复杂程度和提... (以CMOS图像传感器LUPA-1300-2为对象,研究了多斜率积分功能)在空间瞬态光探测系统中的应用.以ACTEL公司APA600 Flash型FPGA为硬件载体,分析设计了其驱动控制,验证了LUPA-1300-2的易操作性,结果表明,该功能可以降低系统的复杂程度和提高系统观测的动态范围,有利于观测瞬态光点周围的瞬间变化,从而提高系统的可靠性和信息收集能力. 展开更多
关键词 cmos图像传感器 多斜率积分 空间瞬态光 FPGA
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基于横向多晶硅二极管的CMOS兼容热风速计 被引量:3
16
作者 秦明 黄庆安 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期569-571,共3页
提出并试制了一种采用多晶硅横向二极管作为测温元件的CMOS兼容热风速计 .该风速计的加热元件和测温元件均采用多晶硅技术制造 ,工艺与CMOS兼容 .对横向多晶硅二极管的温度敏感特性调查发现 ,其正向电流随温度增加几乎呈线性增加 ,显示... 提出并试制了一种采用多晶硅横向二极管作为测温元件的CMOS兼容热风速计 .该风速计的加热元件和测温元件均采用多晶硅技术制造 ,工艺与CMOS兼容 .对横向多晶硅二极管的温度敏感特性调查发现 ,其正向电流随温度增加几乎呈线性增加 ,显示该多晶硅二极管具有负的电压温度系数 .其值约为 - 1 .8mV/K ,非常接近单晶硅上PN结的电压温度系数 - 2mV/K .采用CMOS工艺试制了由 8个横向多晶硅二极管组成的风速计结构 。 展开更多
关键词 cmos兼容热风速计 横向多晶硅二极管 风速 风向 结构 制备
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CMOS图像传感器IBIS5-A-1300多斜率光积分的研究 被引量:2
17
作者 伦向敏 张伯珩 +2 位作者 边川平 闵剑 邢汝佳 《弹箭与制导学报》 CSCD 北大核心 2007年第1期372-374,共3页
介绍CMOS图像传感器IBIS5-A-1300在同步快门下采用多斜率积分提高动态范围的方法,及采用有限状态机设计多斜率积分程序的方法、流程,给出实验结果,并对该方法可行性进行分析。
关键词 cmos图像传感器 多斜率积分 同步快门
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0.6μm CMOS集成传感器电路兼容的RS232串行通信发送接口芯片研究 被引量:4
18
作者 孙颖 吴献 朱大中 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期114-117,共4页
采用5 V 0.6μm标准CMOS工艺设计制造了具有RS232串行通信发送接口的传感器接口芯片.该芯片包含电荷泵和发送电路两个功能模块.其中电荷泵对5 V电源进行正/负倍压得到+7.6 V和-6.1 V的正负电平,并作为发送电路的电源,实现CMOS/TTL电平到... 采用5 V 0.6μm标准CMOS工艺设计制造了具有RS232串行通信发送接口的传感器接口芯片.该芯片包含电荷泵和发送电路两个功能模块.其中电荷泵对5 V电源进行正/负倍压得到+7.6 V和-6.1 V的正负电平,并作为发送电路的电源,实现CMOS/TTL电平到EIA/TIA RS-232C电平的转换.3 KΩ和1 000 pF负载情况下,在230.4 kbit/s数据速率范围内,实现了TTL/CMOS电平到RS232电平转换的发送功能.将传感器的输出模拟信号经A/D变换后,即可经所设计的发送接口芯片实现传感信号的串行发送.为进一步实现基于标准CMOS工艺的传感器与信号处理电路和串行通信接口功能的兼容集成打下了基础. 展开更多
关键词 RS232串行接口 10.6μm cmosI集成传感器 电荷泵
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基于CMOS图像传感器的多斜率积分模式 被引量:3
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作者 杨东来 胡晓东 李俊娜 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第6期1499-1502,共4页
CMOS图像传感器由于器件本身的特点,相比CCD传感器,其动态范围较小。以CYPRESS公司生产的高性能CMOS图像传感器IBIS5-A-1300为研究对象,对其多斜率积分原理进行研究,提出了采用同步快门多斜率积分的方法来扩展CMOS图像传感器的动态范围... CMOS图像传感器由于器件本身的特点,相比CCD传感器,其动态范围较小。以CYPRESS公司生产的高性能CMOS图像传感器IBIS5-A-1300为研究对象,对其多斜率积分原理进行研究,提出了采用同步快门多斜率积分的方法来扩展CMOS图像传感器的动态范围。以FPGA+DSP为系统的硬件处理平台,给出了多斜率积分驱动时序的具体设计思路和方法,并在QuartusⅡ7.0环境下对所设计的驱动时序进行功能仿真。采用所设计的多斜率积分时序驱动,将CMOS图像传感器的动态范围由原来单斜率积分模式下的64 dB扩展到了90 dB。实验结果表明,采用多斜率积分模式可以实现动态范围扩展的要求。 展开更多
关键词 cmos图像传感器 多斜率积分 动态范围 FPGA
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高温CMOS集成电路闩锁效应分析 被引量:2
20
作者 柯导明 陈军宁 +4 位作者 代月花 高珊 孟坚 赵海峰 周国祥 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第12期1894-1896,共3页
本文详细地分析了LDD结构高温CMOS集成电路闩锁效应.文中提出了亚微米和深亚微米CMOS集成电路闩锁效应的模型.在该模型中,针对器件的尺寸和在芯片上分布情况,我们认为CMOS IC闩锁效应的维持电流有两种模式:大尺寸MOST的寄生双极晶体管... 本文详细地分析了LDD结构高温CMOS集成电路闩锁效应.文中提出了亚微米和深亚微米CMOS集成电路闩锁效应的模型.在该模型中,针对器件的尺寸和在芯片上分布情况,我们认为CMOS IC闩锁效应的维持电流有两种模式:大尺寸MOST的寄生双极晶体管是长基区,基区输运因子起主要作用;VLSI和ULSI中MOST的寄生双极晶体管是短基区,发射效率起主要作用.但是他们的维持电流都与温度是负指数幂关系.文章给出了这两种模式下的维持电流与温度关系,公式在25℃至300℃之间能与实验结果符合. 展开更多
关键词 高温 cmos 集成电路 闩锁效应 解析表达式
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