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激光点阵光刻机控制系统的硬件设计 被引量:2
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作者 殷庆纵 刘吉 《机床与液压》 北大核心 2013年第2期109-112,共4页
为了制作大尺寸的激光防伪商标,开发了高速激光点阵光刻机。该光刻机以工业控制计算机为上位机,以ARMLPC2138和单片机STC12C5410AD为下位机,采用直线电机直接驱动X-Y工作台,实现了高速高精度定位。动态曝光的工作方式,克服了传统光刻机... 为了制作大尺寸的激光防伪商标,开发了高速激光点阵光刻机。该光刻机以工业控制计算机为上位机,以ARMLPC2138和单片机STC12C5410AD为下位机,采用直线电机直接驱动X-Y工作台,实现了高速高精度定位。动态曝光的工作方式,克服了传统光刻机工作速度慢的静态曝光工作模式,使光刻工作速度提高了10~12倍,解决了大尺寸防伪商标制作困难的问题,有效提高了全息母板制作的效率。 展开更多
关键词 激光直写 直线电动机 光刻 光栅 arm LPC2138 单片机
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