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激光熔覆AlN/TiAl制备Ti-Al-N复合涂层及其摩擦性能研究
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作者 黄飞龙 肖华强 +1 位作者 林波 莫太骞 《激光技术》 北大核心 2025年第2期188-194,共7页
为了制备耐磨钛基涂层,采用激光熔覆技术在TC4表面制备了Ti-Al-N涂层,对不同激光功率下涂层的物相组成、组织演变、硬度进行观察分析,再对复合涂层在空气环境中的摩擦学性能进行分析。结果表明,涂层增强相主要由Ti_(2)AlN,TiN,TiAl及Ti_... 为了制备耐磨钛基涂层,采用激光熔覆技术在TC4表面制备了Ti-Al-N涂层,对不同激光功率下涂层的物相组成、组织演变、硬度进行观察分析,再对复合涂层在空气环境中的摩擦学性能进行分析。结果表明,涂层增强相主要由Ti_(2)AlN,TiN,TiAl及Ti_(x)Al_(y)等组成,各物相衍射峰强度随激光功率的增加而改变,基体相则由(γ-TiAl+α_(2)-Ti_(3)Al)组成;涂层与基体冶金结合,随着激光功率的增加,组织由弥散分布的柱状晶逐渐变成粗大树枝晶,但在2.4 kW功率时,组织又变得细小;复合涂层的显微硬度可以达到基体的2.14倍;在空气摩擦环境中,不同试样均以磨粒磨损为主,其中基体磨损严重;不同激光功率下的涂层均大幅度提高了基体的耐磨性,涂层中有增强相的存在,涂层的最小磨损率为0.786×10^(-4) mm^(3)·N^(-1)·min^(-1),基体为1.34×10^(-4) mm^(3)·N^(-1)·min^(-1);通过控制激光功率可以调节涂层性能。这一研究可以对激光熔覆制备高耐磨钛基复合涂层在航天、海工设备中的应用提供基础支持。 展开更多
关键词 激光技术 钛合金 激光熔覆 ti-al-n复合涂层 干摩擦磨损
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Microstructure and abrasive wear behaviour of anodizing composite films containing Si C nanoparticles on Ti6Al4V alloy 被引量:6
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作者 李松梅 郁秀梅 +3 位作者 刘建华 于美 吴量 杨康 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2014年第12期4415-4423,共9页
Anodized composite films containing Si C nanoparticles were synthesized on Ti6Al4 V alloy by anodic oxidation procedure in C4O6H4Na2 electrolyte. Scanning electron microscopy(SEM), energy dispersive spectroscopy(EDS) ... Anodized composite films containing Si C nanoparticles were synthesized on Ti6Al4 V alloy by anodic oxidation procedure in C4O6H4Na2 electrolyte. Scanning electron microscopy(SEM), energy dispersive spectroscopy(EDS) and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) were employed to characterize the morphology and composition of the films fabricated in the electrolytes with and without addition of Si C nanoparticles. Results show that Si C particles can be successfully incorporated into the oxide film during the anodizing process and preferentially concentrate within internal cavities and micro-cracks. The ball-on-disk sliding tests indicate that Si C-containing oxide films register much lower wear rate than the oxide films without Si C under dry sliding condition. Si C particles are likely to melt and then are oxidized by frictional heat during sliding tests. Potentiodynamic polarization behavior reveals that the anodized alloy with Si C nanoparticles results in a reduction in passive current density to about 1.54×10-8 A/cm2, which is more than two times lower than that of the Ti O2 film(3.73×10-8 A/cm2). The synthesized composite film has good anti-wear and anti-corrosion properties and the growth mechanism of nanocomposite film is also discussed. 展开更多
关键词 ti6al4V alloy anodic oxidation Si C nanoparticle composite film
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(Ti,Al)N涂层的微观组织和性能 被引量:19
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作者 陈利 吴恩熙 +2 位作者 尹飞 王社权 汪秀全 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期279-283,共5页
采用EPMA、XRD、SEM、TEM、HR-TEM、EDX、纳米压痕、氧化实验和切削实验研究了磁控溅射在硬质合金基体上沉积TiN涂层和(Ti,Al)N涂层的微观组织结构和性能。结果表明:TiN涂层晶粒为喇叭口柱状晶,(Ti,Al)N涂层为面心立方平直柱状晶,由于... 采用EPMA、XRD、SEM、TEM、HR-TEM、EDX、纳米压痕、氧化实验和切削实验研究了磁控溅射在硬质合金基体上沉积TiN涂层和(Ti,Al)N涂层的微观组织结构和性能。结果表明:TiN涂层晶粒为喇叭口柱状晶,(Ti,Al)N涂层为面心立方平直柱状晶,由于固溶了Al元素,(Ti,A l)N涂层呈(200)面择优生长;(Ti,Al)N涂层在硬质合金基体上无外延生长;(Ti,Al)N涂层在800℃氧化后形成Al2O3/TiO2/(Ti,Al)N的分层结构;(Ti,Al)N涂层具有更高的硬度和更好的切削性能。 展开更多
关键词 (ti al)n涂层 硬质合金 外延生长 氧化性能 切削性能
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Al含量对(Ti,Al)N涂层结构性能的影响 被引量:20
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作者 李佳 夏长清 +1 位作者 刘昌斌 戴晓元 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第12期29-31,35,共4页
(Ti,Al)N是20世纪80年代未期在TiN基础上发展起来的一种新型多元涂层材料。由于加入Al元素,(Ti,Al)N不但硬度、耐磨性优于TiN,而且大大改善了涂层的抗高温氧化性能。综述了Al元素在(Ti,Al)N涂层中的作用机理,以及Al含量对(Ti,Al)N涂层... (Ti,Al)N是20世纪80年代未期在TiN基础上发展起来的一种新型多元涂层材料。由于加入Al元素,(Ti,Al)N不但硬度、耐磨性优于TiN,而且大大改善了涂层的抗高温氧化性能。综述了Al元素在(Ti,Al)N涂层中的作用机理,以及Al含量对(Ti,Al)N涂层的晶体结构、抗高温氧化、硬度和耐磨性的影响。指出当Ti和Al的比例近似为1:1时,(Ti,Al)N涂层将获得优越的综合使用性能。 展开更多
关键词 多元涂层材料 (ti al)n 硬度 耐磨性
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射频磁控溅射(Ti,Al)N薄膜性能的研究 被引量:14
5
作者 何欣 杨会生 +4 位作者 王燕斌 熊小涛 乔利杰 瞿春燕 杨建军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期142-146,共5页
采用射频磁控溅射,用Al靶和Ti靶同时溅射沉积(Ti,Al)N薄膜。研究表明:不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构(B1型),当Al靶功率大于250 W薄膜中面心立方结构(B1型)和六方结构(B4型)共存。随Al成分的增加,B1型结构晶格常数减小,... 采用射频磁控溅射,用Al靶和Ti靶同时溅射沉积(Ti,Al)N薄膜。研究表明:不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构(B1型),当Al靶功率大于250 W薄膜中面心立方结构(B1型)和六方结构(B4型)共存。随Al成分的增加,B1型结构晶格常数减小,薄膜择优取向由B1型(111)向B4型(002)转变。薄膜表面随Al靶功率增加分别呈岛状、纤维状和柱状增长。(Ti,Al)N薄膜的硬度随Al靶功率的增加呈上升趋势。等离子体发射光谱分析显示,在相同工艺条件下Al靶比Ti靶先进入非金属态溅射模式,导致在相同功率下Al溅射速率低于Ti溅射速率。 展开更多
关键词 磁控溅射 (ti al)n薄膜 硬度 等离子体发射光谱
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磁控双靶反应共溅射(Ti,Al)N薄膜的研究 被引量:11
6
作者 闫梁臣 熊小涛 +2 位作者 杨会生 高克玮 王燕斌 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期233-237,共5页
采用磁控双靶反应共溅射技术制备出了(Ti0.5Al0.5)N耐磨硬质薄膜,其显微硬度高于35GPa,摩擦系数小于0.18。实验结果表明当N2流量较低时,(Ti,Al)N薄膜结构和性能随N2流量变化明显;当N2流量较高时,薄膜结构和性能变化缓慢。等离子体发射... 采用磁控双靶反应共溅射技术制备出了(Ti0.5Al0.5)N耐磨硬质薄膜,其显微硬度高于35GPa,摩擦系数小于0.18。实验结果表明当N2流量较低时,(Ti,Al)N薄膜结构和性能随N2流量变化明显;当N2流量较高时,薄膜结构和性能变化缓慢。等离子体发射光谱仪(PEM)对磁控反应溅射过程监测结果表明,钛铝原子与氮原子反应存在一个临界点,低于临界点,磁控反应溅射为金属态溅射模式,高于临界点,磁控溅射向非金属态溅射模式转变,溅射速率降低。 展开更多
关键词 (ti al)n 磁控共溅射 等离子体发射光谱 金属态溅射 非金属态溅射
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添加Y对炮钢表面电弧离子镀(Ti,Al)N薄膜氧化性能的影响 被引量:5
7
作者 张健 韩继龙 +3 位作者 郭策安 卢旭东 金浩 郭秋萍 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第13期13144-13147,共4页
利用电弧离子镀技术,在炮钢表面沉积TiAlN和TiAlYN两种薄膜,研究添加1%(原子分数)Y对(Ti,Al)N薄膜氧化性能的影响。两种沉积薄膜的样品在空气中850℃下氧化10h,用SEM、EDAX和XRD分别分析两种薄膜的形貌、成分及相组成。结果表明,在空气... 利用电弧离子镀技术,在炮钢表面沉积TiAlN和TiAlYN两种薄膜,研究添加1%(原子分数)Y对(Ti,Al)N薄膜氧化性能的影响。两种沉积薄膜的样品在空气中850℃下氧化10h,用SEM、EDAX和XRD分别分析两种薄膜的形貌、成分及相组成。结果表明,在空气中850℃下氧化10h后,两种薄膜的氧化产物均为Al2O3和TiO2的混合氧化物;TiAlN薄膜的动力学曲线呈近似直线规律,而TiAlYN薄膜动力学曲线符合抛物线规律;前者表面氧化物晶粒粗大,而后者表面氧化物晶粒细小,且氧化膜厚度不足前者的一半;添加Y可以减少膜层表面液滴的数量,提高膜层的抗氧化性能。 展开更多
关键词 炮钢 Y (ti al)n 电弧离子镀 氧化
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PVD法制备(Ti,Al)N涂层中残余应力对其质量的影响 被引量:14
8
作者 吴化 陈涛 宋力 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期60-64,92,共6页
在国产离子镀和空心阴极离子镀复合镀膜机上,通过改变脉冲偏压值制备了(Ti,Al)N涂层。用X射线衍射仪对涂层的相组成进行了检测分析,并通过测得的衍射谱线计算了(Ti,Al)N涂层中的残余应力值;扫描电镜观察涂层表面微观形貌显示涂层表面存... 在国产离子镀和空心阴极离子镀复合镀膜机上,通过改变脉冲偏压值制备了(Ti,Al)N涂层。用X射线衍射仪对涂层的相组成进行了检测分析,并通过测得的衍射谱线计算了(Ti,Al)N涂层中的残余应力值;扫描电镜观察涂层表面微观形貌显示涂层表面存在"大颗粒"现象;用材料表面微纳米力学测试系统检测了涂层与基体间的结合力和涂层的硬度值。对涂层中残余应力与质量和性能之间关系的研究分析表明:(Ti,Al)N涂层中存在着残余压应力,且随脉冲偏压值的增加其值有先减小后增大的趋势;涂层中"大颗粒"现象随脉冲偏压值的提高能够显著得到减轻,涂层与基体间结合力得到提高,涂层的硬度值增大,涂层质量和力学性能均得到改善。 展开更多
关键词 (ti al)n涂层 残余应力 X射线衍射法 大颗粒
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SiC晶须和Ti(C,N)颗粒协同增韧Al_2O_3陶瓷刀具的研究 被引量:13
9
作者 兰俊思 丁培道 黄楠 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期59-64,共6页
采用热压工艺烧结制备了SiCW Ti(C ,N) Al2 O3(Y2 O3)陶瓷刀具复合材料。研究了不同烧结温度(16 0 0~ 175 0℃ )下 ,材料的致密度和力学性能 (断裂韧性KIC ,维氏硬度HV和抗弯强度σf)随晶须含量 (10 %~4 0 % )的变化关系 ;探讨了SiC... 采用热压工艺烧结制备了SiCW Ti(C ,N) Al2 O3(Y2 O3)陶瓷刀具复合材料。研究了不同烧结温度(16 0 0~ 175 0℃ )下 ,材料的致密度和力学性能 (断裂韧性KIC ,维氏硬度HV和抗弯强度σf)随晶须含量 (10 %~4 0 % )的变化关系 ;探讨了SiC晶须和Ti(C ,N)颗粒对Al2 O3基体的协同增韧机理。同时与SiCW Al2 O3陶瓷及Ti(C ,N) Al2 O3陶瓷作对比研究。结果表明 :SiCW Ti(C ,N) Al2 O3(Y2 O3)陶瓷材料在 175 0℃ ,晶须含量为 2 0 %时获得最佳的综合力学性能 :KIC =7 11MPa m1 2 ,HV =2 1 16GPa ,σf=82 0MPa ;明显高于SiCW 含量为 2 0 %的SiCW Al2 O3陶瓷和不加晶须的Ti(C ,N) Al2 O3陶瓷。第三相Ti(C ,N)颗粒的加入与晶须一起产生明显的迭加增韧效果 ,而且对SiCW 的各种增韧机制起到了促进作用。 展开更多
关键词 SIC晶须 ti(C n) al2O3 陶瓷刀具 热压工艺 力学性能 致密度 复合材料
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反应磁控溅射法制备(Ti,Al)N薄膜的力学性能 被引量:5
10
作者 周滔 聂璞林 +2 位作者 李铸国 黄坚 蔡珣 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期34-38,共5页
采用镶嵌靶反应磁控溅射技术,通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的(Ti,Al)N硬质薄膜,并用XRD,EDS及纳米压入法、划痕法等方法研究了(Ti,Al)N薄膜的成分、相结构与力学性能的关系。结果表明,氮分压和基体偏压... 采用镶嵌靶反应磁控溅射技术,通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的(Ti,Al)N硬质薄膜,并用XRD,EDS及纳米压入法、划痕法等方法研究了(Ti,Al)N薄膜的成分、相结构与力学性能的关系。结果表明,氮分压和基体偏压对(Ti,Al)N薄膜取向及Ti、Al、N原子含量有明显影响,从而导致薄膜硬度及膜基结合性能发生变化。研究中,在氮分压为33.3×10-3Pa、基体偏压为-100V时制备的(Ti,Al)N薄膜力学性能最优,其纳米硬度为43.4GPa,达到40GPa超硬薄膜的要求。 展开更多
关键词 (ti al)n薄膜 磁控溅射 氮分压 基体偏压 力学性能
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脉冲偏压对(Ti,Al)N/TiN/(Ti,Al)N多层复合涂层成分和硬度的影响 被引量:11
11
作者 毛延发 唐为国 +2 位作者 兰新哲 周廉 韩培刚 《稀有金属快报》 CSCD 2008年第6期12-16,共5页
采用脉冲偏压多弧离子镀技术在Hss-Al高速钢上涂镀(Ti,Al)N/TiN(/Ti,Al)N多层复合涂层。所用设备为复合八阵弧离子镀膜生长系统。简要介绍了多层复合膜的镀层工艺过程。鉴于复合涂层中的Al含量对涂层的性能特别是抗磨损性能有极重要的影... 采用脉冲偏压多弧离子镀技术在Hss-Al高速钢上涂镀(Ti,Al)N/TiN(/Ti,Al)N多层复合涂层。所用设备为复合八阵弧离子镀膜生长系统。简要介绍了多层复合膜的镀层工艺过程。鉴于复合涂层中的Al含量对涂层的性能特别是抗磨损性能有极重要的影响,实验中重点考察了脉冲偏压幅对Al含量的影响。同时测试了复合涂层的Vickers硬度与偏压幅值的关系。研究结果得出,随着脉冲偏压幅值的增加,涂层中Al含量先增加,然后减少,偏压幅值为-150V时,Al含量高达36.41at%;偏压幅与涂层显微硬度的关系有相似的规律,在偏压幅值为-150V时,7层复合膜的Vickers硬度达2750MPa左右,10层复合膜的硬度约2880MPa。 展开更多
关键词 多弧离子膜 (ti al)n/tin/(ti al)n 多声能复合涂层 维氏硬度
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A1含量对(Ti,Al)N膜结构性能影响的研究进展 被引量:4
12
作者 李国芳 王顺花 +1 位作者 石宗利 胡元杰 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 2007年第2期48-52,共5页
综述了Al元素在(Ti,Al)N膜中的作用机理和Al含量对(Ti,Al)N膜结构、抗高温氧化、硬度、耐磨性、结合强度等的影响,指出了(Ti,Al)N膜的发展方向。
关键词 (ti al)n 晶体结构 性能影响 研究进展
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氮气流量、基体温度对反应溅射(Ti,Al)N成膜影响 被引量:3
13
作者 刘昕 余志明 +2 位作者 尹登峰 苏伟涛 杨莉 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期80-82,85,共4页
采用反应直流磁控溅射的方法 ,通过控制基体温度和N2 /Ar流量比 ,在WC 6%Co基体表面上成功地制备了 (Ti,Al)N薄膜。用AFM、XRD、显微硬度测试仪对薄膜的显微形貌、成分、显微硬度进行了测试。结果表明 ,在N2 /Ar流量比较低时薄膜存在明... 采用反应直流磁控溅射的方法 ,通过控制基体温度和N2 /Ar流量比 ,在WC 6%Co基体表面上成功地制备了 (Ti,Al)N薄膜。用AFM、XRD、显微硬度测试仪对薄膜的显微形貌、成分、显微硬度进行了测试。结果表明 ,在N2 /Ar流量比较低时薄膜存在明显的(Ti ,Al)N的 ( 111)织构 ,随着N2 /Ar流量比的增大 ,这种 ( 111)织构逐渐变弱 ,薄膜显微形貌发生较明显的变化 ,显微硬度也随之变化 ;N2 /Ar流量比超过某一门槛值时不能生成 (Ti,Al)N ;在一定范围内 ( 2 5 0~ 40 0℃ ) ,温度对薄膜质量的影响不是很明显。 展开更多
关键词 (ti al)n 直流磁控溅射 显微形貌 织构
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反应溅射(Al,Ti)(O,N)涂层的微结构与力学性能 被引量:5
14
作者 刘艳 董云杉 +2 位作者 许辉 祝新发 李戈扬 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1307-1309,共3页
采用Al—Ti镶嵌复合靶在Ar、N2和O2混合气体中反应溅射制备了一系列(Al,Ti)(O,N)涂层。并采用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的化学成分、微结构和力学性能。结果表明,随氧分压的提高,涂层中氧含量逐步增加,氮含量相应... 采用Al—Ti镶嵌复合靶在Ar、N2和O2混合气体中反应溅射制备了一系列(Al,Ti)(O,N)涂层。并采用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的化学成分、微结构和力学性能。结果表明,随氧分压的提高,涂层中氧含量逐步增加,氮含量相应减少,(Al+Ti):(O+N)的化学计量比仍约为1:1,涂层保持与(Al,Ti)N涂层相同的NaCl结构。低氧含量时薄膜在(111)方向上择优生长,随着氧含量的提高,涂层生长的择优取向发生改变,高氧含量薄膜样品呈现强烈(200)织构的柱状晶。与此同时,(Al,Ti)(O,N)涂层的硬度和弹性模量也仍保持在与(Al,Ti)N涂层相当的35GPa和370~420GPa的高值。由于涂层中形成了相当含量的氧化物,这类涂层的抗氧化能力有望得到提高。 展开更多
关键词 反应溅射 (al ti)(O n)复合涂层 微结构 力学性能
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(Ti,Al)N镀层的结构及氧化行为 被引量:8
15
作者 丁晖 刘颂 陈可炜 《沈阳工业大学学报》 EI CAS 2001年第1期4-6,共3页
介绍了一种新型防护镀层—— (Ti,Al)N镀层 .镀层中铝含量对薄膜的化学成分、微观结构 (相组成, 结构取向, 致密性等 )、力学性能及抗氧化性能的影响明显 .综合 (Ti1- xAlx)N薄膜的力学性能和抗氧化性能得出, 铝含量大于 25%时, ... 介绍了一种新型防护镀层—— (Ti,Al)N镀层 .镀层中铝含量对薄膜的化学成分、微观结构 (相组成, 结构取向, 致密性等 )、力学性能及抗氧化性能的影响明显 .综合 (Ti1- xAlx)N薄膜的力学性能和抗氧化性能得出, 铝含量大于 25%时, 可得到性能较优的薄膜 . 展开更多
关键词 结构 氧化行为 氮化钛 氮化铝 镀层 力学性能
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多弧离子镀(Ti,Al,Zr)N多元超硬梯度膜的制备及力学性能研究 被引量:11
16
作者 崔贯英 张钧 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期329-333,共5页
采用多弧离子镀技术并使用合金靶Ti-Al-Zr制备(Ti,Al,Zr)N多元超硬梯度膜。利用扫描电镜、X衍射仪对(Ti,Al,Zr)N膜层表面、断面形貌、成分、结构进行观察测定;系统考察了沉积工艺对(Ti,Al,Zr)N膜层质量、膜/基附着力和硬度的影响;并对... 采用多弧离子镀技术并使用合金靶Ti-Al-Zr制备(Ti,Al,Zr)N多元超硬梯度膜。利用扫描电镜、X衍射仪对(Ti,Al,Zr)N膜层表面、断面形貌、成分、结构进行观察测定;系统考察了沉积工艺对(Ti,Al,Zr)N膜层质量、膜/基附着力和硬度的影响;并对膜层抗热震性进行了研究。通过与TiN,(Ti,Al)N,(Ti,Zr)N等硬质膜进行比较,发现采用Ti-Al-Zr合金靶制备的(Ti,Al,Zr)N多元梯度膜有更高的硬度和膜/基附着力,硬度可达4000 HV,实现了从硬质膜到超硬膜的转变;膜/基附着力大于200 N,同时对沉积工艺有较强的适应性。 展开更多
关键词 (ti al Zr)n梯度膜 多弧离子镀 显微硬度 热震 合金靶
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VN/(Ti,Al)N纳米多层膜的共格生长与超硬效应 被引量:2
17
作者 孔明 董云杉 +2 位作者 戴嘉维 张慧娟 李戈扬 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1758-1762,共5页
采用反应磁控溅射技术制备了一系列具有不同调制周期的VN/(Ti,Al)N纳米多层膜.利用高分辨透射电子显微镜、X-射线衍射仪和微力学探针表征了纳米多层膜的微结构和力学性能,从而研究其微结构与力学性能之间的关系.结果表明,小调制周期时,V... 采用反应磁控溅射技术制备了一系列具有不同调制周期的VN/(Ti,Al)N纳米多层膜.利用高分辨透射电子显微镜、X-射线衍射仪和微力学探针表征了纳米多层膜的微结构和力学性能,从而研究其微结构与力学性能之间的关系.结果表明,小调制周期时,VN/(Ti,Al)N纳米多层膜沿薄膜生长方向呈现出具有面心立方(111)晶面择优取向的共格外延生长结构.由于存在晶格错配,在共格界面作用下,VN和(Ti,Al)N调制层分别受到拉、压应力,在多层膜中产生以调制周期为周期的交变应力场.这种应力场大大阻碍了薄膜中位错穿过界面的运动,从而导致薄膜产生硬度和弹性模量异常升高的超硬效应,并在调制周期为5.6 nm时,达到硬度和弹性模量的最高值38.4GPa和421 GPa.进一步增加调制周期,两调制层之间产生非共格界面,破坏了薄膜中的交变应力场,薄膜的硬度和弹性模量也随之降低. 展开更多
关键词 Vn/(ti al)n纳米多层膜 晶体生长 共格界面 力学性能
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PCrNi3MoVA钢表面电弧离子镀Ti_(0.7)Al_(0.3)N涂层的性能研究 被引量:10
18
作者 张健 郭策安 +1 位作者 张罡 郝士明 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期697-702,共6页
用电弧离子镀方法在PCrNi3MoVA钢表面制备Ti0.7Al0.3N涂层,研究了涂层的机械性能、高温抗氧化性及耐腐蚀性。结果表明:涂层的硬度较基材提高了近6.5倍,基材的磨损机制主要为严重的磨料磨损和塑性流动,Ti0.7Al0.3N涂层磨损机制主要是粘... 用电弧离子镀方法在PCrNi3MoVA钢表面制备Ti0.7Al0.3N涂层,研究了涂层的机械性能、高温抗氧化性及耐腐蚀性。结果表明:涂层的硬度较基材提高了近6.5倍,基材的磨损机制主要为严重的磨料磨损和塑性流动,Ti0.7Al0.3N涂层磨损机制主要是粘着磨损,同时还伴有轻微的磨料磨损,Ti0.7Al0.3N涂层的摩擦系数(0.52~0.57)明显小于基材的摩擦系数(0.73~0.78).基材在750℃空气中氧化3 h后表面氧化严重,而涂层在850℃空气中氧化3 h后仍具有优良的抗氧化性,其原因是Ti0.7Al0.3N涂层表面生成致密的Al2O3和TiO2的混合氧化物膜。Ti0.7Al0.3N涂层在3.5mass%NaCl溶液中较基材自腐蚀电位提高了近200 mV,能够显著提高基材的抗腐蚀能力。 展开更多
关键词 材料失效与保护 PCrni3MoVA钢 ti0.7al0.3n涂层 电弧离子镀 机械性能 氧化 腐蚀
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射频反应溅射(Al,Ti)N涂层的微结构与力学性能 被引量:2
19
作者 赵文济 梅芳华 +1 位作者 董云杉 李戈扬 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期48-52,共5页
采用Al-Ti镶嵌复合靶在不同氮分压下制备了一系列(Al,Ti)N涂层,并采用EDS,AFM,XRD,TEM和微力学探针表征了涂层的沉积速率、化学成分、微结构和力学性能,研究了氮分压对涂层的影响。结果表明,氮分压对(Al,Ti)N涂层影响显著:合适的氮分压... 采用Al-Ti镶嵌复合靶在不同氮分压下制备了一系列(Al,Ti)N涂层,并采用EDS,AFM,XRD,TEM和微力学探针表征了涂层的沉积速率、化学成分、微结构和力学性能,研究了氮分压对涂层的影响。结果表明,氮分压对(Al,Ti)N涂层影响显著:合适的氮分压可以得到化学计量比的(Al,Ti)N涂层,涂层为单相组织,并呈现(111)择优取向,最高硬度和弹性模量分别达到36.9GPa和476GPa。过低的氮分压不但会造成涂层贫氮,而且涂层中的Al含量偏低,硬度不高。氮分压过高,由于存在“靶中毒”现象,尽管涂层的成分无明显变化,但会大大降低其沉积速率,并使涂层形成纳米晶或非晶态结构,涂层的硬度也较低。 展开更多
关键词 (al ti)n涂层 反应溅射 微结构 力学性能
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铝和镁合金上电弧离子镀(Ti,Al)N梯度涂层的比较 被引量:2
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作者 宋贵宏 李锋 +1 位作者 陈立佳 杜昊 《表面技术》 EI CAS CSCD 2008年第1期14-16,共3页
为了探索和研究在铝合金和镁合金衬底上电弧离子镀沉积梯度的(Ti,Al)N涂层的沉积工艺并确定沉积涂层的基本性能,从而为该涂层的应用奠定理论基础。采用试验和比较的方法。结果表明:在铝合金衬底上可以成功地沉积厚度可达60μm的梯度(Ti,... 为了探索和研究在铝合金和镁合金衬底上电弧离子镀沉积梯度的(Ti,Al)N涂层的沉积工艺并确定沉积涂层的基本性能,从而为该涂层的应用奠定理论基础。采用试验和比较的方法。结果表明:在铝合金衬底上可以成功地沉积厚度可达60μm的梯度(Ti,Al)N涂层,涂层与衬底的界面没有缺陷、空洞,与衬底的结合强度很好;而在AZ31镁合金衬底上,由于衬底上含有镁的氧化物,沉积涂层极易脱落。常规的研磨、抛光等方法无法克服由于镁活性大、氧化速率快所形成的氧化膜造成沉积涂层极易脱落现象。X射线衍射谱表明,沉积涂层为TiN结构,Al以替位的形式占据TiN中Ti的位置,形成(Ti,Al)N涂层,没有AlN结构出现;涂层中,Ti和Al原子比近似为1∶1,与靶材的成分相同。得出结论:通过改变沉积过程中N2气的分压,可以在铝合金衬底上沉积出硬度和成分梯度变化的厚涂层,但在镁合金上涂层极易脱落;铝合金上的梯度厚涂层可以解决衬底材料硬度低而涂层硬度高所存在的不协调的问题。 展开更多
关键词 (ti al)n涂层 电弧离子镀 铝合金 镁合金 梯度涂层
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