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题名掺氮氟非晶碳膜场发射电流重复性及F-N曲线研究
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作者
刘雄飞
徐根
李伯勋
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机构
中南大学物理科学与技术学院
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出处
《郑州大学学报（工学版）》
CAS
北大核心
2010年第1期52-55,共4页
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文摘
采用射频等离子体化学增强型气相沉积(rF-PECVD)法沉积了掺氮氟化非晶碳膜.研究了不同射频功率下薄膜样品表面形貌及I-U特性,比较了试样I-U曲线的对称性及零点漂移;分析了直接沉积及硅陈列沉积下膜场发射电流的重复稳定性的差异;研究了不同掺氮流量比下沉积薄膜的Fower-Nord-heim曲线.研究结果表明,氮氟化非晶碳膜是良好的冷阴极发射材料.射频功率的提升,有利于薄膜质量和性能改善;硅陈列沉积FN-DLC膜场测试的场发射电流的重复性能较直接沉积的更加稳定优良;F-N曲线基本为直线,掺氮氟化非晶碳膜的场发射为冷阴极发射,逸出功随着含氮量的升高而增大.
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关键词
掺氮氟化非晶碳膜
表面结构
f-n曲线
重复性
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Keywords
nitrogen doped fluorinated carbon film
surface structure
f-n curve
repeatability
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分类号
TN304.055
[电子电信—物理电子学]
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题名金刚石的场致发射
被引量：6
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作者
廖梅勇
张智
廖克俊
王万录
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机构
兰州大学物理系
重庆大学应用物理系
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第1期55-57,64,共4页
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文摘
报道了金刚石膜的低电场、大电流阴极发射电流现象。总结了几种不同类型样品结构的发射机理。提出了增强发射电流、提高发射稳定性的方法。综述了各种影响发射电流的因素，提出了较为统一的发射电流表达式，使得金刚石膜的发射电流符合Ｆ－Ｎ理论。
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关键词
金刚石膜
场致发射
f-n曲线
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Keywords
Diamond films field emission f n curve
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分类号
TN304.18
[电子电信—物理电子学]
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题名氮掺杂氟化非晶碳薄膜的拉曼光谱结构研究
被引量：3
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作者
张云芳
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机构
江苏科技大学数理学院
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出处
《绝缘材料》
CAS
2006年第4期48-50,55,共4页
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文摘
以CF4、CH4和N2的混合气体为源气体,采用PECVD技术,在不同源气体流量比下制备了α-C:F:N薄膜。对制备的薄膜进行了真空退火处理,并对退火前后的薄膜进行了拉曼结构分析。拉曼分析表明:α-C:F:N薄膜是由sp2和sp3混合结构组成的非晶碳薄膜;随源气体流量比的增大,α-C:F:N薄膜中sp2键的含量增加,交联结构加强,薄膜的热稳定性得到提高;对低流量比下沉积的薄膜,退火处理可以提高其热稳定性。
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关键词
等离子体增强化学气相沉积
氮掺杂氟化非晶碳薄膜
拉曼光谱
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Keywords
PECVD
α-c ： f ： n films
Raman spectrum
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分类号
TM212
[一般工业技术—材料科学与工程]
TQ127.12
[化学工程—无机化工]
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