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Si_3N_4/SiC纳米复合陶瓷的微观结构 被引量:4
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作者 孙东立 周朝霞 +2 位作者 杨德庄 平德海 李斗星 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 1998年第3期97-100,共4页
利用JEM2000EXⅡ高分辨电镜和HF2000冷场发射枪透射电镜对Si3N4SiC纳米复合陶瓷材料的微观组织、结构和成分进行了研究。结果表明,SiC颗粒弥散分布在基体相β-Si3N4晶内和晶界。晶内SiC颗粒与基体... 利用JEM2000EXⅡ高分辨电镜和HF2000冷场发射枪透射电镜对Si3N4SiC纳米复合陶瓷材料的微观组织、结构和成分进行了研究。结果表明,SiC颗粒弥散分布在基体相β-Si3N4晶内和晶界。晶内SiC颗粒与基体相的界面结构有三种类型:1)直接结合的界面;2)完全非晶态的界面;3)混合型的界面。晶间SiC颗粒与基体相的界面大部分是直接结合的。 展开更多
关键词 si3n4 sic 纳米级 复合陶瓷 微观结构 透射电镜
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烧结工艺对Si_3N_4-SiC材料性能的影响 被引量:4
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作者 史琳琳 曾令可 +2 位作者 王慧 张明 程小苏 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期416-419,共4页
本文采用氮化硅作为碳化硅材料的结合相的方法制备氮化硅结合碳化硅耐火材料 ,通过对氮化硅结合碳化硅的烧结工艺过程的探讨 ,推导了理论密度、气孔率与生坯密度的关系及影响材料氮化率的关系式 。
关键词 烧结工艺 si3n4 sic 理论密度 气孔率 氮化率 氮化硅 碳化硅
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燃烧合成Si_3N_4和SiC复相材料的相稳定性热力学分析 被引量:2
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作者 陈松林 袁林 +4 位作者 冯中起 刘锡俊 曾鲁举 杨筠 李江涛 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第5期659-665,共7页
为了提高Si3N4产率和降低成本,采用硅粉、氮气作为原料,碳、二氧化硅作为稀释剂,卤化铵作为化学激励剂,通过机械活化和化学激励法燃烧合成制备Si3N4和SiC复相原料。热力学分析表明:特定的工艺条件下氧化硅和碳替代氮化硅作为稀释剂,当... 为了提高Si3N4产率和降低成本,采用硅粉、氮气作为原料,碳、二氧化硅作为稀释剂,卤化铵作为化学激励剂,通过机械活化和化学激励法燃烧合成制备Si3N4和SiC复相原料。热力学分析表明:特定的工艺条件下氧化硅和碳替代氮化硅作为稀释剂,当氧化硅和碳含量约30wt%时,能得到氮化硅和碳化硅复合陶瓷粉体。以碳的活度为1计(ac=1),燃烧合成时两者稳定共存的温度为1647K;同时,增大氮气压力和降低氧分压是硅粉完全氮化的条件,而不宜提高合成温度。当满足特定工艺条件时(原料加入量为9%Si3N4及15%淀粉和SiO2的混合物、氮气压力大于3MPa、5小时磨研),燃烧合成产物的主晶相为Si3N4、SiC和Si2N2O,而无游离硅,此产物是烧结Si3N4和SiC复合陶瓷或制备Si3N4结合SiC耐高温材料的理想原料。 展开更多
关键词 si3n4 sic 燃烧合成 相稳定性 热力学
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Si_3N_4颗粒和纳米SiC晶须强韧化MoSi_2基复合材料 被引量:2
4
作者 柳公器 周宏明 +2 位作者 肖来荣 易丹青 张路怀 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期407-411,共5页
用真空热压法制备了Si3N4颗粒和纳米SiC晶须强韧化MoSi2基复合材料。采用X射线衍射仪、金相显微镜、扫描电镜分析了该材料的物相、微观组织结构和断口形貌,测算了其致密度、晶粒尺寸、抗弯强度和断裂韧性。结果表明:复合材料致密性好;... 用真空热压法制备了Si3N4颗粒和纳米SiC晶须强韧化MoSi2基复合材料。采用X射线衍射仪、金相显微镜、扫描电镜分析了该材料的物相、微观组织结构和断口形貌,测算了其致密度、晶粒尺寸、抗弯强度和断裂韧性。结果表明:复合材料致密性好;添加的Si3N4和SiC与基体有着很好的化学相容性;与纯MoSi2相比,复合材料晶粒明显细化,抗弯强度和断裂韧性明显增加。其中MoSi2+20%Si3N4+10%SiC抗弯强度达400MPa,比纯MoSi2提高了58.7%;断裂韧性达6.1MPa.m1/2,比纯MoSi2提高了108.9%。复合材料的强化机制为细晶强化和弥散强化;韧化机制为细晶韧化、裂纹偏转和裂纹微桥接。 展开更多
关键词 二硅化钼 si3n4颗粒 纳米sic晶须 力学性能 真空热压
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Si_3N_4-TiN-SiC复相陶瓷的燃烧合成 被引量:1
5
作者 陈贵清 韩杰才 +1 位作者 杜善义 赫晓东 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期46-50,共5页
利用高压气—固燃烧合成法,以TiSi2和SiC为原料制备了Si3N4-TiN-SiC复相陶瓷。实验中发现反应过程中出现的液相降低了产物的转化率;分析了稀释剂对产物的转化率与燃烧温度的影响及氮气压力在燃烧中的作用;解决... 利用高压气—固燃烧合成法,以TiSi2和SiC为原料制备了Si3N4-TiN-SiC复相陶瓷。实验中发现反应过程中出现的液相降低了产物的转化率;分析了稀释剂对产物的转化率与燃烧温度的影响及氮气压力在燃烧中的作用;解决了液相、稀释剂和燃烧温度之间的矛盾,即通过提高氮气压力来完成。研究发现产物孔隙率降低的原因为:TiSi2分解后的体积膨胀,Si氮化成Si3N4后发生的体积膨胀和高温时产物受到的等静压作用。分析了TiSi2的氮化机制,即TiSi2与氮气反应首先生成TiN和Si,然后Si再与氮气合成Si3N4。 展开更多
关键词 SHS 复相 陶瓷复合材料 氮化硅
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陶瓷材料的韧化及其增韧机理(二)——SiC、Si_3N_4陶瓷和陶瓷复合材料的韧化 被引量:2
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作者 金志浩 王笑天 《兵器材料科学与工程》 CAS 1988年第2期49-56,共8页
本文主要综述了晶粒形状、晶粒大小、晶界特性、气孔率和超显微结构对SiC、Si_3^-N_4陶瓷韧化的影响规律及作用机制;另外还分析了陶瓷复合材料和晶须的强韧化机理,主要介绍了裂纹转向机理、晶须(或纤维)拉脱机理及复合增韧机理。
关键词 陶瓷材料 断裂韧性值 si3n4 增韧机理 sic 韧化 陶瓷复合材料 陶瓷基复合材料
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烧结助剂对热压SiCw/Si_3N_4复合材料性能的影响 被引量:1
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作者 周新贵 张长瑞 +1 位作者 陈朝辉 周安郴 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 1998年第2期105-108,共4页
本文通过热压的方法分别制得以Y2O3-Al2O3和Y2O3-La2O3为烧结助剂的SiCw/Si3N4陶瓷基复合材料,对比了采用不同种类及含量的烧结助剂的SiCw/Si3N4复合材料的性能结果,发现烧结助剂的种类及含... 本文通过热压的方法分别制得以Y2O3-Al2O3和Y2O3-La2O3为烧结助剂的SiCw/Si3N4陶瓷基复合材料,对比了采用不同种类及含量的烧结助剂的SiCw/Si3N4复合材料的性能结果,发现烧结助剂的种类及含量对SiCw/Si3N4复合材料的弯曲强度和断裂韧性有明显的影响,对高温弯曲强度的影响尤为显著。 展开更多
关键词 烧结 助剂 热压 陶瓷复合材料 氧化硅 碳化硅
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Si_3N_4/SiC纳米复合材料的制备力学性能及强韧化机理 被引量:4
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作者 罗学涛 《南昌航空工业学院学报》 CAS 2000年第3期1-5,9,共6页
SiC纳米粒子进入Si3N4基体使其力学性能大幅度提高 ,引起了研究者们的极大关注。本文评述了Si3N4/SiC纳米复合材料的制备工艺及其力学性能 ,分析了力学性能提高的主要原因 。
关键词 si3n4/sic纳米复合 制备工艺 强韧化 陶瓷
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三维打印结合化学气相渗透制备Si_3N_4-SiC复相陶瓷 被引量:6
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作者 封立运 殷小玮 李向明 《航空制造技术》 北大核心 2012年第4期62-65,共4页
采用三维打印(3DP)技术成型Si3N4多孔陶瓷并结合化学气相渗透(CVI)SiC制备了Si3N4-SiC复相陶瓷。研究了烧结工艺对3DPSi3N4陶瓷线收缩率和孔隙率的影响。结果表明,3DPSi3N4坯体经热解除碳后再烧结,可以获得较小的线收缩率(<6%)及较... 采用三维打印(3DP)技术成型Si3N4多孔陶瓷并结合化学气相渗透(CVI)SiC制备了Si3N4-SiC复相陶瓷。研究了烧结工艺对3DPSi3N4陶瓷线收缩率和孔隙率的影响。结果表明,3DPSi3N4坯体经热解除碳后再烧结,可以获得较小的线收缩率(<6%)及较大的气孔率(77.5%)。对其进行CVISiC近尺寸强化,研究了Si3N4-SiC复相陶瓷的抗弯强度随SiC体积分数的变化规律。 展开更多
关键词 三维打印 CVI si3n4 sic
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Si_3N_4—SiC复相陶瓷及其碳纤维复合材料研究进展 被引量:2
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作者 王建芳 郑文伟 +1 位作者 肖加余 陈朝辉 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期7-10,共4页
介绍了不同工艺制备的Si3N4 、SiC的性能 ,研究了Si3N4 —SiC复相陶瓷及其碳纤维复合材料研究发展现状 ,认为Si3N4 —SiC复相陶瓷能够克服单一Si3N4 、SiC陶瓷断裂韧性低、烧结过程中晶粒长大造成强度下降等缺点 ,同时也弥补了SiC陶瓷... 介绍了不同工艺制备的Si3N4 、SiC的性能 ,研究了Si3N4 —SiC复相陶瓷及其碳纤维复合材料研究发展现状 ,认为Si3N4 —SiC复相陶瓷能够克服单一Si3N4 、SiC陶瓷断裂韧性低、烧结过程中晶粒长大造成强度下降等缺点 ,同时也弥补了SiC陶瓷强度较低的遗憾 ;而碳纤维的加入可以大大改善材料的韧性。认为结合Si3N4 —SiC复相陶瓷的高强度和碳纤维复合材料的高韧性 ,可以制备出性能优良的Cf/SiC—Si3N4 陶瓷基复合材料 。 展开更多
关键词 si3n4-sic 复相陶瓷 碳纤维复合材料 陶瓷基 结构陶瓷
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Si_3N_4-SiC纤维先驱体──低分子量聚硅氮烷的合成与分析 被引量:2
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作者 江会平 陆逸 +1 位作者 谭自烈 杨一明 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 1995年第3期42-47,共6页
以Me_2SiCl_2、MeSiHCl_2(式中Me代表CH_3)或其混合物与NH_3反应制得低分子量聚硅氮烷,该产物是制备Si_3N_4-SiC纤维先驱体的基本原料。研究了不同配比的Me_2SiCl_2/MeSiHCl_2混... 以Me_2SiCl_2、MeSiHCl_2(式中Me代表CH_3)或其混合物与NH_3反应制得低分子量聚硅氮烷,该产物是制备Si_3N_4-SiC纤维先驱体的基本原料。研究了不同配比的Me_2SiCl_2/MeSiHCl_2混合物氨解反应所需的时间,氨解产物的物理性能、分子量及其分布,着重分析了氨解产物的结构。 展开更多
关键词 si3n4- 聚硅氮烷 化学合成 陶瓷纤维
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用聚合物裂解制造Si_3N_4或Si_3N_4-SiC陶瓷材料 被引量:1
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作者 江会平 陆逸 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期10-13,共4页
本文对国外用聚硅氮烷或其它聚合物裂解制造Si2N4或Si3N4-SiC陶瓷材料的研究进行了扼要的综述,着重介绍了聚硅氮烷的制造方法,并展望了其应用前景。
关键词 si3n4 si3n4-sic 聚硅氮烷 陶瓷
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(SiC)C_f/Si_3N_4复合陶瓷的制备及性能
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作者 肖伟玲 肖鹏 +2 位作者 周伟 罗衡 李杨 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期34-38,共5页
采用CVD法制备了SiC涂层包覆短碳纤维,并通过凝胶注模成型工艺制备了(SiC)C_f/Si_3N_4复合陶瓷,探讨了烧结温度对复合陶瓷中(SiC)C_f形貌的影响。同时研究了(SiC)C_f的含量对复合陶瓷力学以及介电性能的影响,当(SiC)C_f含量达到10wt%时... 采用CVD法制备了SiC涂层包覆短碳纤维,并通过凝胶注模成型工艺制备了(SiC)C_f/Si_3N_4复合陶瓷,探讨了烧结温度对复合陶瓷中(SiC)C_f形貌的影响。同时研究了(SiC)C_f的含量对复合陶瓷力学以及介电性能的影响,当(SiC)C_f含量达到10wt%时,样品的抗弯强度比纯Si_3N_4陶瓷降低了112 MPa,但断裂韧性显著提高,增加了11.5 MPa·m^(1/2),介电常数实部和虚部达到最大,介电实部约为15~18,虚部约为6~8;反射衰减随(SiC)C_f的含量和厚度的增加而向低频移动。 展开更多
关键词 sic CF si3n4 力学性能 介电性能
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SiC/C3N4复合材料的光催化降解亚甲基蓝性能研究 被引量:3
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作者 杨静静 蒋方露 +4 位作者 赖江涛 彭媛 何勇平 孟华 杨兵 《化学研究与应用》 CAS CSCD 北大核心 2019年第7期1373-1380,共8页
采用冷却结晶法制备不同配比的SiC与三聚氰胺前驱体,煅烧后得到SiC/C 3N 4复合材料,研究了在白炽灯照射下复合材料对亚甲基蓝的光催化降解性能。结果表明,SiCN100型SiC/C 3N 4复合材料的光催化降解能力最强,光照150 min时亚甲基蓝的降... 采用冷却结晶法制备不同配比的SiC与三聚氰胺前驱体,煅烧后得到SiC/C 3N 4复合材料,研究了在白炽灯照射下复合材料对亚甲基蓝的光催化降解性能。结果表明,SiCN100型SiC/C 3N 4复合材料的光催化降解能力最强,光照150 min时亚甲基蓝的降解率达到76%,光降解反应速率常数为0.00757 min^-1,是纯SiC的6倍,且该催化剂在循环测试中性能稳定。采用X-射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、紫外可见-漫反射光谱(UV-Vis DRS)和光致发光光谱(PL)表征了SiC/C 3N 4复合材料,并通过活性基团捕获实验,深入分析了亚甲基蓝的光催化降解机理,发现电子在降解过程中起最关键的作用,活性基团对降解率的影响程度依次为e->h^+>·O2^-。 展开更多
关键词 sic/C 3n 4复合材料 光催化降解 亚甲基蓝 降解动力学
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Predicting Physical Properties of Tetragonal,Monoclinic and Orthorhombic M_3N_4(M=C,Si,Sn) Polymorphs via First-Principles Calculations 被引量:1
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作者 仓玉萍 连帅彬 +1 位作者 杨慧明 陈东 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第6期90-94,共5页
The recently discovered tetragonal, monoclinie and orthorhombic polymorphs of M3N4 (M=C, Si, Sn) are in- vestigated by using first-principles calculations. A set of anisotropic elastic quantities, i.e., the bulk and... The recently discovered tetragonal, monoclinie and orthorhombic polymorphs of M3N4 (M=C, Si, Sn) are in- vestigated by using first-principles calculations. A set of anisotropic elastic quantities, i.e., the bulk and shear moduli, Young's modulus, Poisson ratio, H/G ratio and rickets hardness of M3N4 (M=C, Si, Sn) are predicted. The quasi-harmonic Debye model, assuming that the solids are isotopic, may lead to large errors for the non-cubic crystals. The thermal effects are obtained by the traditional quasi-harmonic approach. The dependences of heat capacity, thermal expansion coefficient and Debye temperature on temperature and pressure are systematically discussed in the pressure range of 0 IOGPa and in the temperature range of 0-1100 K. More importantly, o- C3N4 is a negative thermal expansion material. Our results may have important consequences in shaping the understanding of the fundamental properties of these binary nitrides. 展开更多
关键词 si M=C si Sn on of Predicting Physical Properties of Tetragonal Monoclinic and Orthorhombic M3n4 M Polymorphs via First-Principles Calculations that in is
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Si-C-N_(np)/Si_3N_4复合材料的室温和高温显微结构与力学性能 被引量:9
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作者 唐耿平 张长瑞 +1 位作者 冯坚 周新贵 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期30-32,共3页
以 Si- C- N纳米微粉为增强相 ,Si3N4 为基相 ,采用热压的方法制备了 Si Cp/ Si3N4 纳米复相陶瓷。应用扫描电镜 (SEM)、高分辨透射电镜 (HRTEM)对其结构进行了观察 ,并讨论了结构与性能之间的关系。结果表明 ,所得的 Si Cp/ Si3N4 复... 以 Si- C- N纳米微粉为增强相 ,Si3N4 为基相 ,采用热压的方法制备了 Si Cp/ Si3N4 纳米复相陶瓷。应用扫描电镜 (SEM)、高分辨透射电镜 (HRTEM)对其结构进行了观察 ,并讨论了结构与性能之间的关系。结果表明 ,所得的 Si Cp/ Si3N4 复相陶瓷的室温力学性能比氮化硅单相陶瓷有较大的提高 ,而 135 0℃断裂韧性达 14 .6 6 MPa· m1 / 2 。Si C微晶在晶粒内和在晶界玻璃相内的钉扎作用是材料高温性能提高的主要因素。 展开更多
关键词 si-C-nnp/si3n4复合材料 力学性能 si-C-n纳米微粉 显微结构 氮化硅 碳化硅 纳米复相陶瓷
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无压浸渗制备Si_3N_4/Al复合材料的界面反应研究 被引量:11
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作者 王扬卫 王富耻 +1 位作者 于晓东 李俊涛 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 2006年第1期55-58,共4页
研究S i3N4多孔预制体的表面氧化程度对无压浸渗制备S i3N4/A l复合材料界面反应以及复合材料性能的影响是复合材料优化设计的基础。不同氧化程度的S i3N4多孔预制体在相同的浸渗工艺下无压浸渗制得S i3N4/A l复合材料,利用EDS,XRD和洛... 研究S i3N4多孔预制体的表面氧化程度对无压浸渗制备S i3N4/A l复合材料界面反应以及复合材料性能的影响是复合材料优化设计的基础。不同氧化程度的S i3N4多孔预制体在相同的浸渗工艺下无压浸渗制得S i3N4/A l复合材料,利用EDS,XRD和洛氏硬度计分别测定陶瓷多孔预制体的成份,复合材料的相组成和硬度。结果表明:S i3N4/A l复合材料组成相包括A l,S i3N4,A lN以及少量的S i,Mg2S i,MgO,MgA l2O4;随着氧化程度增加,复合材料内A lN相减少,MgO含量增加,并逐渐出现MgA l2O4相;复合材料的硬度随预制体的氧化程度增加而线性下降;预制体的氧化造成S i3N4和A l之间的反应减弱是硬度下降的重要原因。 展开更多
关键词 无压浸渗 复合材料 si3n4/Al 氧化 界面反应
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Fe_2(MoO_4)_3/Si_3N_4复合粉末还原及热压微观组织结构分析 被引量:5
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作者 银锐明 范景莲 +2 位作者 钟定铭 刘勋 张曙光 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期909-914,共6页
以α-Si3N4,Fe(NO3)3.9H2O和NH4Mo7O24.4H2O为原料,采用非均相沉淀法制备Fe2(MoO4)3/Si3N4复合粉末,采用氢气还原与热压法获得Fe-Mo/Si3N4复合粉末与烧结体,采用X线衍射仪(XRD)、电子能谱(EDS)、电镜扫描(SEM)和电镜透射(TE... 以α-Si3N4,Fe(NO3)3.9H2O和NH4Mo7O24.4H2O为原料,采用非均相沉淀法制备Fe2(MoO4)3/Si3N4复合粉末,采用氢气还原与热压法获得Fe-Mo/Si3N4复合粉末与烧结体,采用X线衍射仪(XRD)、电子能谱(EDS)、电镜扫描(SEM)和电镜透射(TEM)等方法对Fe-Mo/Si3N4复合粉末与烧结体物相、成分及微结构进行观察与分析。分析结果表明:Fe-Mo/Si3N4复合粉末主要成分为α-Si3N4,Mo,Si和Fe-Mo氮化物(Fe6Mo7N2和Fe3Mo3N),其中Mo颗粒长大;粒径为4~7μm的Mo5Si3大颗粒均匀镶嵌在Si3N4,Fe-Mo氮化物(Fe6Mo7N2和Fe3Mo3N)及SiO2的混合物组成的粒径为1μm左右的小颗粒之中。 展开更多
关键词 原位反应 si3n4 MO5si3 非均相沉淀-热还原
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磨粒粒径对Si_3N_4结构陶瓷冲蚀磨损性能的影响 被引量:7
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作者 鲍崇高 潘伟 +1 位作者 苗赫濯 齐龙浩 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期1219-1222,1263,共5页
以冲蚀磨损工况下的典型应用材料Cr15Mo3高铬铸铁为对比材料,采用转盘式液-固双相流试验机研究了不同SiC磨粒粒径对Si3N4结构陶瓷抗冲蚀磨损性能的影响,分析了试验材料冲蚀磨损的微观失效机制.研究结果表明:在各种粒径磨粒的冲蚀磨损条... 以冲蚀磨损工况下的典型应用材料Cr15Mo3高铬铸铁为对比材料,采用转盘式液-固双相流试验机研究了不同SiC磨粒粒径对Si3N4结构陶瓷抗冲蚀磨损性能的影响,分析了试验材料冲蚀磨损的微观失效机制.研究结果表明:在各种粒径磨粒的冲蚀磨损条件下,Cr15Mo3铸铁的冲蚀磨损率都比Si3N4结构陶瓷的高,Si3N4结构陶瓷的抗冲蚀磨损能力是Cr15Mo3铸铁的20倍左右;粗颗粒磨料冲蚀条件下试验材料的体积损失比细颗粒磨料冲蚀条件下的大,即磨粒越粗冲蚀磨损越严重;在微观上,Cr15Mo3的腐蚀坑、冲蚀坑多,基体材料冲刷磨损严重,W型失效形貌明显,而Si3N4结构陶瓷的冲蚀磨损面比较光滑,材料失效主要是晶界粘结相失去多所致;结构致密、晶粒细小并有细小柱状晶的存在等是Si3N4结构陶瓷抗冲蚀磨损性能优异的主要原因. 展开更多
关键词 冲蚀磨损 磨粒粒径 Cr15Mo3 高铬铸铁 si3n4 结构陶瓷
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基于纹理分析的Si_3N_4陶瓷表面粗糙度研究 被引量:7
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作者 田欣利 王健全 +2 位作者 张保国 唐修检 李富强 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期7-13,18,共8页
通过数字显微镜获取Si3N4磨削表面图像,运用灰度共生矩阵(GLCM)分析表面纹理特征与粗糙度的内在关系。根据实验确定GLCM采样点间距、总灰度级,按4个方向建立GLCM并计算纹理特征参数均值。利用变量相关分析,确定对比度等6个参数为Si3N4... 通过数字显微镜获取Si3N4磨削表面图像,运用灰度共生矩阵(GLCM)分析表面纹理特征与粗糙度的内在关系。根据实验确定GLCM采样点间距、总灰度级,按4个方向建立GLCM并计算纹理特征参数均值。利用变量相关分析,确定对比度等6个参数为Si3N4磨削表面主要纹理特征,并探讨各纹理参数与Ra,Ry,S,Tp的变化规律,从而定性评估Si3N4磨削表面粗糙度。采用多元非线性回归方法研究纹理特征参数与粗糙度评定指标的联系,构建4个回归预测模型。结果表明:模型计算值与实测值偏差小于0.25,具有较好的预测效果。 展开更多
关键词 si3n4陶瓷 纹理分析 表面粗糙度 灰度共生矩阵 多元非线性回归
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