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(Pb_(1-x)Sr_x)TiO_3系红外敏感铁电陶瓷的研究 被引量:1
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作者 王茂祥 孙彤 孙平 《应用科学学报》 CAS CSCD 2000年第4期365-367,共3页
通过改变材料组分并掺杂一定浓度的MnO2,制备了系列(Pb1-xSrx)TiO3(PST)红外敏感铁电陶瓷材料.对其电热性能如介电系数的温谱特性、频谱特性和热释电性能等进行了研究.结果表明,材料的居里温度随组分化学计... 通过改变材料组分并掺杂一定浓度的MnO2,制备了系列(Pb1-xSrx)TiO3(PST)红外敏感铁电陶瓷材料.对其电热性能如介电系数的温谱特性、频谱特性和热释电性能等进行了研究.结果表明,材料的居里温度随组分化学计量比的变化大致成线性关系,每增加 mol比1%的 Pb,将使居里温度提高约 5℃.而随着测试频率的增加,居里温度与温度系数基本不变,但介电常数却略有下降.通过对PST系样品热释电性能的测量,可知材料的热释电系数约在 10-3C/(m2· K)量级. 展开更多
关键词 (Ph1-xsrx)tio3陶瓷 温谱特性 频谱特性 热释电性能 红外敏感
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(Pb_(1-x)Sr_x)TiO_3系铁电陶瓷介电特性的测试分析
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作者 王茂祥 孙平 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期32-34,38,共4页
采用常规陶瓷工艺掺杂不同含量的分析纯SiO2和La2O3,在不同烧结温度下,制备了系列(Pb1-xSrx)TiO3(简称PST)铁电陶瓷。对所制备的PST铁电陶瓷的介电特性进行了测试分析。1250℃烧结温度较1200℃烧结温度下样品在居里点处的温度系数α有... 采用常规陶瓷工艺掺杂不同含量的分析纯SiO2和La2O3,在不同烧结温度下,制备了系列(Pb1-xSrx)TiO3(简称PST)铁电陶瓷。对所制备的PST铁电陶瓷的介电特性进行了测试分析。1250℃烧结温度较1200℃烧结温度下样品在居里点处的温度系数α有所提高,介电常数ε略高(均在103量级),介电损耗D略有降低。随着工作频率的增加,样品介电常数有较明显的下降,介电损耗D略有增加。 展开更多
关键词 (pb1-xsrx)tio3铁电陶瓷 介电特性 测试分析
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Pb_xSr_(1-x)TiO_3陶瓷及薄膜的制备和性能研究
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作者 裴亚芳 杨传仁 +2 位作者 陈宏伟 张继华 冷文健 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2007年第6期710-712,716,共4页
研究了Pb的摩尔分数对PbxSr1-xTiO3(x=0.2~0.8)陶瓷微结构和介电性能的影响,当x〈0.45时晶体为立方相,x≥0.45时为四方相;随着Pb的摩尔分数增大,陶瓷气孔率下降,致密度增加,晶粒尺寸逐渐增大,居里峰近似线性地向高温方向... 研究了Pb的摩尔分数对PbxSr1-xTiO3(x=0.2~0.8)陶瓷微结构和介电性能的影响,当x〈0.45时晶体为立方相,x≥0.45时为四方相;随着Pb的摩尔分数增大,陶瓷气孔率下降,致密度增加,晶粒尺寸逐渐增大,居里峰近似线性地向高温方向移动,并具有一致的居里外斯常数。采用射频磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)上制备了Pb0.3Sr0.7TiO3(PST30)薄膜,经550℃退火后为(111)择优取向的多晶薄膜,1kHz下的可调率为21.8%。 展开更多
关键词 pbxSr1-xtio3陶瓷 射频磁控溅射 pb0.3Sr0.7tio3(PST30)薄膜 微结构 介电性能
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Pb的过量值对溶胶-水热法合成钙钛矿型PZT反铁电陶瓷粉体的影响
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作者 胡艳华 余占军 +2 位作者 王丽霞 宋艳 雷达 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第10期1930-1934,共5页
采用溶胶-水热法合成了具有单一钙钛矿结构的PZT反铁电陶瓷粉体。根据课题组前期的实验结果,选取的水热反应温度为180℃,水热反应时间为24 h,矿化剂KOH的浓度为3 mol/L,探讨了Pb的过量值对合成PZT陶瓷粉体的影响。实验发现,Pb的过量值过... 采用溶胶-水热法合成了具有单一钙钛矿结构的PZT反铁电陶瓷粉体。根据课题组前期的实验结果,选取的水热反应温度为180℃,水热反应时间为24 h,矿化剂KOH的浓度为3 mol/L,探讨了Pb的过量值对合成PZT陶瓷粉体的影响。实验发现,Pb的过量值过低,不足以补偿反应过程中Pb的损失量,A位的Pb缺失易导致PZT粉体结晶度的下降,颗粒结晶不完整。随着Pb过量值的增加,颗粒结晶增强,结晶也越完整。当Pb过量增加到10%时,实验获得了结晶良好的PZT粉体。因此,本实验Pb的最佳过量值为10%。 展开更多
关键词 pbZr1-xTixO3 铁电陶瓷 溶胶-水热法 pb的过量值 钙钛矿结构
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磁控溅射制备PST薄膜的介电与铁电性能
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作者 王茂祥 孙平 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期522-525,共4页
(Pb1-xSrx)TiO3系铁电材料是一种互溶性较好的钙钛矿材料,本文采用磁控溅射法,在Si基底上成功地制备了结构致密、性能优良的PST铁电薄膜,其制备工艺可与Si微电子技术兼容。性能测试表明,其介电常数可达900,接近10^3量级,介电损... (Pb1-xSrx)TiO3系铁电材料是一种互溶性较好的钙钛矿材料,本文采用磁控溅射法,在Si基底上成功地制备了结构致密、性能优良的PST铁电薄膜,其制备工艺可与Si微电子技术兼容。性能测试表明,其介电常数可达900,接近10^3量级,介电损耗较低,约在0.12-0.21之间(-10℃至60℃)。铁电性能也较好,其饱和极化强度可接近10μC/cm^2,矫顽场强约21kV/cm。 展开更多
关键词 (pb1-xsrx)tio3薄膜 磁控溅射 介电性能 铁电性能
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影响磁控溅射制备PST/Si薄膜介电特性的几个因素
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作者 王茂祥 孙平 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期151-154,共4页
采用磁控溅射制备了Si基(Pb1-xSrx)TiO3(简称PST/Si)薄膜。测试表明,热处理工艺对PST/Si薄膜介电特性有着一定的影响,适当温度、适当时间的热处理可得到均匀致密的膜层及生长良好的晶粒,从而确保PST薄膜良好的介电特性。样品上电极材料... 采用磁控溅射制备了Si基(Pb1-xSrx)TiO3(简称PST/Si)薄膜。测试表明,热处理工艺对PST/Si薄膜介电特性有着一定的影响,适当温度、适当时间的热处理可得到均匀致密的膜层及生长良好的晶粒,从而确保PST薄膜良好的介电特性。样品上电极材料对介电特性也有重要影响。Al较Au电极易氧化,从而易在其与PST薄膜的界面形成一氧化层,增加了串联电阻,导致介电损耗总体上要低。工作频率对材料的介电弛豫特性及漏电导等也会产生影响。 展开更多
关键词 (pb1-xsrx)tio3铁电薄膜 磁控溅射 介电特性 影响因素
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溅射气氛对所制备PST/Si薄膜性能的影响
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作者 王茂祥 孙平 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期417-420,共4页
采用高频磁控溅射法制备了Si基(Pb1-xSrx)TiO3系铁电薄膜(以下简称PST/Si)。实验表明,合适的Ar、O2分压比,能保证溅射时挥发出的Pb及时与补充的O离子得以充分化合,确保制备所需成份的PST薄膜。O2分压过高,Au电极中将有大量的O... 采用高频磁控溅射法制备了Si基(Pb1-xSrx)TiO3系铁电薄膜(以下简称PST/Si)。实验表明,合适的Ar、O2分压比,能保证溅射时挥发出的Pb及时与补充的O离子得以充分化合,确保制备所需成份的PST薄膜。O2分压过高,Au电极中将有大量的O离子严重渗透,从而使PST薄膜介电损耗增加并降低其极化能力。实验中Ar、O2比为5:1的PST/Si样品性能较好,其介电损耗约在0.12~0.21之间,热释电系数约为2.35×10^-2μC/cm^2K。 展开更多
关键词 (pb1-xsrx)tio3铁电薄膜 磁控溅射 Ar与O2分压比
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