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直流电弧等离子喷射CVD中控制生长(111)晶面占优的金刚石膜
被引量：
3
1
作者
周祖源
陈广超
+7 位作者
戴风伟
兰昊
宋建华
李彬
佟玉梅
李成明
黑立富
唐伟忠
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第3期478-480,共3页
运用光发射谱(OES)技术对大功率直流电弧等离子喷射CVD金刚石膜的气相沉积环境进行了原位诊断,研究了气相环境中主要含碳基团的浓度及分布与沉积参数的关系,发现了C2基元比其他基元对沉积参数更加敏感。利用光发射谱对C2基元发射强度的...
运用光发射谱(OES)技术对大功率直流电弧等离子喷射CVD金刚石膜的气相沉积环境进行了原位诊断,研究了气相环境中主要含碳基团的浓度及分布与沉积参数的关系,发现了C2基元比其他基元对沉积参数更加敏感。利用光发射谱对C2基元发射强度的监测,实时调控沉积各参数,在大功率直流电弧等离子喷射CVD中实现了(111)晶面占优的金刚石膜的可控生长,I(111)/I(220)XRD衍射峰强度的比值达48。
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关键词
光发射谱
金刚石膜
直流电弧等离子喷射CVD
(
111
)
占优
晶面
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职称材料
题名
直流电弧等离子喷射CVD中控制生长(111)晶面占优的金刚石膜
被引量：
3
1
作者
周祖源
陈广超
戴风伟
兰昊
宋建华
李彬
佟玉梅
李成明
黑立富
唐伟忠
机构
北京科技大学材料科学与工程学院
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第3期478-480,共3页
基金
国家863计划(No.2002AA305508)
国家自然基金(No.50472095)
+1 种基金
教育部留学回国基金(No.2003-14)
北京市科技新星(No.2003A13)资助
文摘
运用光发射谱(OES)技术对大功率直流电弧等离子喷射CVD金刚石膜的气相沉积环境进行了原位诊断,研究了气相环境中主要含碳基团的浓度及分布与沉积参数的关系,发现了C2基元比其他基元对沉积参数更加敏感。利用光发射谱对C2基元发射强度的监测,实时调控沉积各参数,在大功率直流电弧等离子喷射CVD中实现了(111)晶面占优的金刚石膜的可控生长,I(111)/I(220)XRD衍射峰强度的比值达48。
关键词
光发射谱
金刚石膜
直流电弧等离子喷射CVD
(
111
)
占优
晶面
Keywords
OES
diamond film
DC arc plasma jet CVD
（
111
） dominating crystal surface
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
直流电弧等离子喷射CVD中控制生长(111)晶面占优的金刚石膜
周祖源
陈广超
戴风伟
兰昊
宋建华
李彬
佟玉梅
李成明
黑立富
唐伟忠
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
3
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