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基于MOCVD的β-Ga_(2)O_(3)同质外延与Al掺异质结外延生长研究进展
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作者 刘洋 何云龙 +4 位作者 陈谷然 陆小力 郑雪峰 马晓华 郝跃 固体电子学研究与进展 2025年第1期1-15,共15页
β-Ga_(2)O_(3)是一种具有超宽带隙、高临界击穿场强和优异的巴利加优值的半导体材料,近年来在电力电子与深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用潜力。金属有机化学气相沉积(Metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)技术凭借其... β-Ga_(2)O_(3)是一种具有超宽带隙、高临界击穿场强和优异的巴利加优值的半导体材料,近年来在电力电子与深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用潜力。金属有机化学气相沉积(Metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)技术凭借其高生长速率、精确的膜厚控制、优异的薄膜质量和大尺寸生长等优势,成为未来β-Ga_(2)O_(3)走向产业化的潜在方法,并已被广泛应用于β-Ga_(2)O_(3)的外延生长研究。本文对几种常见晶向的β-Ga_(2)O_(3) MOCVD同质外延生长的研究成果进行了概述,并在此基础上介绍了极具潜力的β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)的MOCVD外延生长研究现状。最后,总结了基于MOCVD技术的β-Ga_(2)O_(3)同质外延生长以及β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)生长过程中面临的主要问题,并对未来的发展进行了展望。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3) 金属有机化学气相沉积 同质外延 β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)
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高压硅基p-GaN栅结构GaN HEMT器件阈值电压稳定性研究
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作者 潘传奇 王登贵 +4 位作者 周建军 王金 章军云 李忠辉 陈堂胜 固体电子学研究与进展 2025年第3期11-15,共5页
基于硅基p-GaN/Al GaN/Ga N异质结材料,研制了一款横向结构的高压增强型Ga N高电子迁移率晶体管(GaN high electron mobility transistor,GaN HEMT)器件。采用自对准栅刻蚀与双层介质钝化实现了良好的阈值电压稳定性,并结合多场板峰值... 基于硅基p-GaN/Al GaN/Ga N异质结材料,研制了一款横向结构的高压增强型Ga N高电子迁移率晶体管(GaN high electron mobility transistor,GaN HEMT)器件。采用自对准栅刻蚀与双层介质钝化实现了良好的阈值电压稳定性,并结合多场板峰值抑制技术提升了器件的击穿特性。该器件的阈值电压为1.35 V(VGS=VDS,I_(DS)=1μA/mm),比导通电阻为2.95 mΩ·cm^(2)(VGS=6 V),击穿电压超过1800 V(VGS=0 V,I_(DS)=1μA/mm)。研究了栅极和漏极偏压应力对阈值电压稳定性的影响,在8 V栅极偏压下,阈值电压负移约10%;在1200 V漏极偏压下,阈值电压正移小于20%。上述结果表明,基于硅衬底的p-GaN栅结构Al GaN/GaN HEMT在1200V电压等级应用中展现出巨大的潜力。 展开更多
关键词 高压 ALGAN/GAN p-GaN栅 阈值电压 稳定性
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阳极退火对Co阳极准垂直结构GaN基肖特基二极管性能影响
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作者 吴志勇 马群 +4 位作者 王良臣 李晋闽 王军喜 刘志强 伊晓燕 固体电子学研究与进展 2025年第2期86-91,共6页
在蓝宝石衬底上制备了不同阳极叉指宽度的钴(Co)阳极准垂直结构氮化镓肖特基势垒二极管(GaN Schottky barrier diode, GaN SBD),在此基础上分别进行300、350、400℃阳极退火。实验结果显示较小的阳极叉指宽度有利于实现较低的比导通电阻... 在蓝宝石衬底上制备了不同阳极叉指宽度的钴(Co)阳极准垂直结构氮化镓肖特基势垒二极管(GaN Schottky barrier diode, GaN SBD),在此基础上分别进行300、350、400℃阳极退火。实验结果显示较小的阳极叉指宽度有利于实现较低的比导通电阻,在300℃退火后,阳极界面态密度降低,金属半接触均匀性增加,器件的开启电压和比导通电阻分别降低12.1%和13.2%,阳极界面态密度降低,反向3 V下的漏电流密度降低近一个数量级,击穿电压从89 V提高到97 V;随着退火温度的上升,器件肖特基特性逐渐减弱。综合结果表明300℃阳极退火能够有效改善Co阳极GaN SBD的性能。 展开更多
关键词 肖特基二极管 阳极退火 氮化镓 准垂直
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一种毫米波双面晶圆的自动化三维测试系统
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作者 杨进 张君直 +4 位作者 朱健 黄旼 郁元卫 闫樊钰慧 王留宝 固体电子学研究与进展 2025年第1期94-101,共8页
近年来,随着摩尔定律逐渐放缓,晶上系统(System on wafer, SoW)技术作为最热门的“超越摩尔”技术路线之一,已经成为先进封装领域的研究热点。基于晶上系统技术,将传统的毫米波收发前端阵列组件进行三维重构集成,可实现全新的轻薄化毫... 近年来,随着摩尔定律逐渐放缓,晶上系统(System on wafer, SoW)技术作为最热门的“超越摩尔”技术路线之一,已经成为先进封装领域的研究热点。基于晶上系统技术,将传统的毫米波收发前端阵列组件进行三维重构集成,可实现全新的轻薄化毫米波晶上阵列,具有“三免”(免连接器、免电缆、免管壳封装)的颠覆性结构。本文针对毫米波晶上阵列的自动化测试需求,创新性提出一种毫米波双面晶圆测试方法,突破了多尺寸双面晶圆可靠固定、双面探针精确对准和自动切换以及扎针强度精确控制和实时调节等关键技术,在此基础上研制出毫米波双面晶圆自动测试平台,解决了毫米波收发前端晶上阵列三维测试的难点,对毫米波晶上系统的测试具有重大参考价值。 展开更多
关键词 毫米波 双面晶圆 自动化测试 三维测试 测试系统
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基于功率合成技术的0.17 THz瓦级固态放大器设计
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作者 赵博 成海峰 +3 位作者 胡尊月 朱翔 杜佳谕 龚冰 固体电子学研究与进展 2025年第2期29-33,共5页
针对当前太赫兹频段对于大功率固态放大器的工程应用需求,在0.17 THz开展了基于功率合成技术的瓦级固态功率放大器的研究。基于3 dB波导桥结构和太赫兹GaN功放芯片,设计并制作了一种工作在0.17 THz的两芯片封装功率模块,实现了410 mW的... 针对当前太赫兹频段对于大功率固态放大器的工程应用需求,在0.17 THz开展了基于功率合成技术的瓦级固态功率放大器的研究。基于3 dB波导桥结构和太赫兹GaN功放芯片,设计并制作了一种工作在0.17 THz的两芯片封装功率模块,实现了410 mW的典型功率输出。以E面T型结为基础,实现了G波段4路波导功率合成器,工作频率覆盖165~175 GHz,无源合成效率为76%。通过将4个封装功率模块进行合成,最终在165~175 GHz的频率范围内获得了0.82 W以上的输出功率,典型输出功率在175 GHz处达到了1.3 W,有源合成效率为72%。 展开更多
关键词 G波段 功率合成技术 E面T型结 固态功率放大器 太赫兹
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氧化镓射频器件研究进展
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作者 郁鑫鑫 沈睿 +4 位作者 谯兵 李忠辉 叶建东 孔月婵 陈堂胜 固体电子学研究与进展 2025年第2期1-11,共11页
氧化镓(Ga_(2)O_(3))是性能优异的超宽禁带半导体材料,不仅临界击穿场强大、饱和速度高,而且具有极高的巴利加优值和约翰逊优值,在功率和射频器件领域具有重要的应用前景。本文聚焦于Ga_(2)O_(3)射频器件,首先介绍了Ga_(2)O_(3)在射频... 氧化镓(Ga_(2)O_(3))是性能优异的超宽禁带半导体材料,不仅临界击穿场强大、饱和速度高,而且具有极高的巴利加优值和约翰逊优值,在功率和射频器件领域具有重要的应用前景。本文聚焦于Ga_(2)O_(3)射频器件,首先介绍了Ga_(2)O_(3)在射频器件领域的优势和面临的挑战,然后综述了近年来Ga_(2)O_(3)射频器件在体掺杂沟道、AlGaO/Ga_(2)O_(3)调制掺杂异质结以及与高导热衬底异质集成方面取得的进展,并对研究结果进行了讨论,最后展望了未来Ga_(2)O_(3)射频器件的发展前景。 展开更多
关键词 氧化镓 超宽禁带 射频器件
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X波段金刚石衬底GaN功率放大器MMIC
7
作者 胡官昊 余旭明 +3 位作者 吴立枢 王金 陈堂胜 陶洪琪 固体电子学研究与进展 2025年第3期F0003-F0003,共1页
南京电子器件研究所基于101.6 mm(4英寸)0.25 um金刚石GaN HEMT MMIC工艺平台,解决了GaN外延层剥离与表面活化键合、金刚石GaN背孔金属化以及宽带高压低损耗匹配等关键技术,研制出X波段功率放大器MMIC,如图1所示。该金刚石衬底GaN功率... 南京电子器件研究所基于101.6 mm(4英寸)0.25 um金刚石GaN HEMT MMIC工艺平台,解决了GaN外延层剥离与表面活化键合、金刚石GaN背孔金属化以及宽带高压低损耗匹配等关键技术,研制出X波段功率放大器MMIC,如图1所示。该金刚石衬底GaN功率放大器芯片窄脉冲条件下在8-12 GHz频段内输出功率(Po)≥52.5 dBm,功率附加效率(PAE)≥38%(如图2所示)。 展开更多
关键词 功率放大器 MMIC 金刚石衬底
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碳纳米管射频晶体管及放大器电路研究
8
作者 赵亮 杨扬 +7 位作者 霍帅 张勇 陆辉 汪珍胜 钟世昌 唐世军 孔月婵 陈堂胜 固体电子学研究与进展 2025年第1期22-27,共6页
基于射频电子器件级碳纳米管阵列材料,研制出具备高增益、高线性特性的射频场效应晶体管,并对其进行了S参数提取、等效电路建模及匹配电路设计,实现了单级碳纳米管射频放大器电路。该电路在9 GHz点频增益达10.9 dB,增益1 dB压缩点处三... 基于射频电子器件级碳纳米管阵列材料,研制出具备高增益、高线性特性的射频场效应晶体管,并对其进行了S参数提取、等效电路建模及匹配电路设计,实现了单级碳纳米管射频放大器电路。该电路在9 GHz点频增益达10.9 dB,增益1 dB压缩点处三阶交调优于-35 dBc。本文首次报道了X波段碳纳米管射频放大器电路,可为碳纳米管射频电子技术的发展提供技术参考。 展开更多
关键词 碳纳米管 射频 放大器
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DC~170GHz InP DHBT超宽带双模混频器
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作者 项萍 杨昆明 +4 位作者 王维波 程伟 陈膺昊 苗鹤瑜 陈莹梅 固体电子学研究与进展 2025年第2期F0003-F0003,共1页
南京电子器件研究所基于自主101.6 mm(4英寸)250 nm InP DHBT工艺平台,设计制备了DC-170GHZ超宽带双模混频器芯片(如图1所示,单只芯片尺寸835μm*650μm)研究了亚微米难熔发射极制备,高质量基极欧姆接触等核心工艺,突破了微带耦合反馈、... 南京电子器件研究所基于自主101.6 mm(4英寸)250 nm InP DHBT工艺平台,设计制备了DC-170GHZ超宽带双模混频器芯片(如图1所示,单只芯片尺寸835μm*650μm)研究了亚微米难熔发射极制备,高质量基极欧姆接触等核心工艺,突破了微带耦合反馈、T型感容补偿网络等带觉扩展技术。该超宽带混频器芯片集成了本振(LO)和射频(RF)巴伦、混频器单元,LO和中频(IF)放大器,可以同时用于基波和三次谐波混频,其中在DC-67 GH2的基波模式时,变频损耗为9dB,输入功率1dB压缩点为5dBm;在67-170GHz的三次谐波模式时,变频损耗为22dB,输入功率1dB压缩点为0dBm(如图2,3所示)此外,混频器的LO-RF隔离度大于47 dB,LO-IF隔离度大于35dB(如图4所示)该芯片具有超宽带、高集成度、高隔离的特点,可应用于仪器仪表等领域。 展开更多
关键词 亚微米 难熔发射极 工艺平台 基极欧姆接触
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增强型Si基GaN HEMT的p-GaN栅特性改善研究
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作者 鲍诚 王登贵 +3 位作者 任春江 周建军 倪志远 章军云 固体电子学研究与进展 2025年第1期16-21,共6页
阈值电压和栅极漏电是评价增强型Si基p-GaN栅结构GaN HEMT器件性能的重要参数。热应力和电应力变化会加剧器件栅极附近的电子隧穿效应,促使热电子与器件缺陷相互作用形成界面态,进而导致栅极漏电增大和阈值电压漂移,长时间工作会引起栅... 阈值电压和栅极漏电是评价增强型Si基p-GaN栅结构GaN HEMT器件性能的重要参数。热应力和电应力变化会加剧器件栅极附近的电子隧穿效应,促使热电子与器件缺陷相互作用形成界面态,进而导致栅极漏电增大和阈值电压漂移,长时间工作会引起栅极特性退化,阻碍了GaN电力电子器件的大规模工程化应用。本文基于101.6 mm(4英寸)GaN器件工艺平台研制了一款增强型Si基p-GaN栅结构GaN HEMT器件,引入了双层源场板和源接地孔结构设计,并研究了该结构对器件栅极漏电与阈值电压的影响。引入上述结构的器件低温(-50℃)下阈值电压相比高温(155℃)时变化了0.4 V,200 V漏极电应力测试后器件阈值电压相比测试前变化了0.24 V,漏极电压变化时阈值电压变化量为0.2 V,变化量均低于未引入该结构的器件。此外,栅极电压为5 V时,研制的400μm器件栅极漏电为1.4μA,在热应力与电应力测试后的变化量约0.1μA。测试结果表明研制的增强型p-GaN栅结构GaN HEMT能够在复杂环境下安全工作。 展开更多
关键词 GaN HEMT P-GAN 阈值电压 栅极漏电 热应力 电应力
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GaN/SiC/金刚石复合结构的应力调控与界面特性研究
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作者 成楚飞 谈飞飞 +4 位作者 郁鑫鑫 赵继文 卢荻 李忠辉 代兵 固体电子学研究与进展 2025年第3期7-10,共4页
针对GaN/SiC/金刚石复合结构的应力与界面问题,采用微波等离子体化学气相沉积(Microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术在50μm厚SiC基Ga N衬底的SiC面上生长金刚石薄膜。通过优化纳米金刚石形核液实现高密度种晶,实验... 针对GaN/SiC/金刚石复合结构的应力与界面问题,采用微波等离子体化学气相沉积(Microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术在50μm厚SiC基Ga N衬底的SiC面上生长金刚石薄膜。通过优化纳米金刚石形核液实现高密度种晶,实验表明梯度降温策略(第一阶段10℃/min的速率降温至500℃,第二阶段5℃/min的速率降温至室温)能够有效释放热应力,避免衬底碎裂。随着金刚石膜厚由50μm增至250μm,晶粒尺寸增大且热导率提升,拉曼光谱显示内应力由9.8 MPa升至225.4 MPa。3ω法测试表明界面热阻为33.66 m^(2)K/GW,优于常规键合方法。该研究为高性能散热器件提供了界面调控方案。 展开更多
关键词 散热 GaN/SiC/金刚石复合结构 微波等离子体化学气相沉积
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基于PDMS锥形微结构的柔性石墨烯压力传感器
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作者 张珈铭 李雷 +2 位作者 宋阳 徐荣青 赵江 固体电子学研究与进展 2025年第1期87-93,共7页
为解决压力传感器中的高灵敏度和宽传感范围的平衡问题,受日常应用中光敏印章技术的启发,采用光敏印章辅助掩模技术制作基于聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane,PDMS)锥形微结构的石墨烯压力传感器,并且研究了不同圆锥尺寸对压力传感... 为解决压力传感器中的高灵敏度和宽传感范围的平衡问题,受日常应用中光敏印章技术的启发,采用光敏印章辅助掩模技术制作基于聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane,PDMS)锥形微结构的石墨烯压力传感器,并且研究了不同圆锥尺寸对压力传感器灵敏度的影响。结果表明,PDMS锥形结构的圆锥半径为1.5 mm时可有效提高灵敏度,双层PDMS锥形微结构的石墨烯压力传感器在0~0.5 kPa的工作范围时,灵敏度可达0.082 7 kPa^(-1);工作范围为0.5~3.0 kPa时,灵敏度为0.293 6 kPa^(-1),是目前相同种类、相同结构材料灵敏度的2.4倍。该双层PDMS锥形压力传感器具有62.5 ms的响应时间,125 ms的恢复时间,并呈现优异的重现性,适用于医疗保健、可穿戴电子、智能包装等领域。 展开更多
关键词 激光诱导石墨烯 光敏垫 激光雕刻 微锥结构 电容式压力传感器
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毫米波/太赫兹MEMS开关研究及技术进展
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作者 张博 李依桐 +4 位作者 张乃柏 宋瑞良 邓琨 杨光耀 刘军 固体电子学研究与进展 2025年第1期41-46,共6页
毫米波/太赫兹MEMS开关是一种采用半导体技术制造的微小型可移动器件,具有体积小、功耗低、集成度高等优点。本文首先介绍了毫米波/太赫兹MEMS开关的结构及工作原理,回顾了近年来基于固定梁式和悬臂梁式的毫米波/太赫兹MEMS开关的研究进... 毫米波/太赫兹MEMS开关是一种采用半导体技术制造的微小型可移动器件,具有体积小、功耗低、集成度高等优点。本文首先介绍了毫米波/太赫兹MEMS开关的结构及工作原理,回顾了近年来基于固定梁式和悬臂梁式的毫米波/太赫兹MEMS开关的研究进展,指出对于低功耗的应用来说,悬臂梁式的开关要优于其他的开关设计。然后,分析了几种典型的毫米波/太赫兹MEMS开关的重要性能指标优化方案。最后,阐述了毫米波/太赫兹MEMS开关在6G移动通信的应用,并对其未来研究趋势和面临的挑战进行了总结和展望。 展开更多
关键词 微机电开关 电容比 微加工 半导体技术 6G移动通信
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基于区域划分的多功能一体集成物理基模型
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作者 王棱 毛书漫 +2 位作者 黄磊 张波 徐跃杭 固体电子学研究与进展 2025年第1期75-81,共7页
射频前端芯片的多功能一体化设计对晶体管模型的功能及其复用能力提出了更高的要求。然而,传统模型无法实现多功能复用,导致模型参数提取步骤多、建模效率低。对此,本文提出了一种基于准物理区划分(Quasi-physical zone division, QPZD... 射频前端芯片的多功能一体化设计对晶体管模型的功能及其复用能力提出了更高的要求。然而,传统模型无法实现多功能复用,导致模型参数提取步骤多、建模效率低。对此,本文提出了一种基于准物理区划分(Quasi-physical zone division, QPZD)理论的多功能的器件物理基建模方法,模型具备非线性、噪声和开关特性的表征能力。首先,本文阐述了QPZD的建模原理,分别介绍了基于QPZD的非线性、微波噪声和开关三类单功能模型理论,并基于统一的核心模型方程提出了上述模型的一体化融合方法及其多功能模型架构。其次,介绍了包括自热效应、环境温度效应和陷阱效应在内的色散效应的建模方法。最后,从晶体管在片测试验证和射频前端多功能芯片设计验证两个角度对建立的模型进行了验证。仿真实测对比结果表明,模型的非线性、噪声和开关特性的综合仿真精度大于80.33%。本文的建模方法对多功能射频前端关键芯片的全面和精准设计具有重要的指导意义。 展开更多
关键词 准物理区划分理论 色散效应 噪声模型 开关模型 多功能一体集成模型
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基于4H-SiC的高温驱动电路设计与制造
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作者 田源 黄润华 +4 位作者 倪朝辉 刘涛 张国斌 杨勇 柏松 固体电子学研究与进展 2025年第2期23-28,共6页
为解决SiC MOSFET在高温条件下性能受硅基驱动电路限制的问题,设计制造了一款基于4H-SiC材料的驱动电路,用于改善电路整体的耐高温能力,并且分别在常温(25℃)和高温(300℃)条件下对驱动电路的性能进行了测试。常温下驱动电路在无负载条... 为解决SiC MOSFET在高温条件下性能受硅基驱动电路限制的问题,设计制造了一款基于4H-SiC材料的驱动电路,用于改善电路整体的耐高温能力,并且分别在常温(25℃)和高温(300℃)条件下对驱动电路的性能进行了测试。常温下驱动电路在无负载条件下的上升沿延迟和下降沿延迟分别为2.496μs和1.32μs,高温下两者分别为1.61μs和0.816μs。在输出功率为100 W、输出电压为56 V、母线电压为320 V的条件下对驱动电路进行带负载测试,常温下驱动电流的充电电流峰值为129 mA,放电电流峰值为120 mA;高温下驱动电流的充电电流峰值为264 mA,放电电流峰值为221 mA。测试结果表明,该驱动电路可在环境温度为300℃时正常工作,且随着环境温度在25~300℃范围内逐渐上升,该驱动电路的驱动能力以及响应速度逐渐提升。 展开更多
关键词 碳化硅 驱动电路 金属氧化物半导体晶体管
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65GHz薄膜铌酸锂电光强度调制器
16
作者 顾晓文 钱广 +4 位作者 王琛全 戴姜平 唐杰 孔月婵 陈堂胜 固体电子学研究与进展 2025年第1期F0003-F0003,共1页
南京电子器件研究所基于自主101.6mm(4英寸)硅基绝缘体上薄膜铌酸锂(Lithium niobate-on-insulator,LNOI)工艺平台设计并成功研制了LNOI电光强度调制器芯片(如图1所示,单只芯片尺寸12.5mm×2.2mm),研究了低损耗LNOI光波导、低应力... 南京电子器件研究所基于自主101.6mm(4英寸)硅基绝缘体上薄膜铌酸锂(Lithium niobate-on-insulator,LNOI)工艺平台设计并成功研制了LNOI电光强度调制器芯片(如图1所示,单只芯片尺寸12.5mm×2.2mm),研究了低损耗LNOI光波导、低应力低损耗氧化硅生长等核心工艺,突破了宽带、低插入损耗LNOI调制器技术。调制器芯片典型插入损耗≤5dB(如图2所示),3dB调制带宽>65GHz(如图3所示),射频半波电压V_(π)=3.3 V@50 kHz(如图4所示),射频回波损耗>10dB,消光比>20dB。该芯片具有小尺寸、低插损、低半波电压、高带宽的特点,可应用于微波光子、数字光传输等领域。 展开更多
关键词 低插入损耗 铌酸锂 芯片尺寸 微波光子 调制带宽 回波损耗 光波导 光传输
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硅基太赫兹压控振荡器研究进展
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作者 陈尚轩 鲁成健 +2 位作者 陈卓恒 成彬彬 程序 固体电子学研究与进展 2025年第2期34-46,共13页
太赫兹技术近年来的快速发展推动着太赫兹振荡器以及压控振荡器的设计与实现。随着半导体工艺(如CMOS,SiGe,GaAs等)的进步,使得高集成度、低功耗、低相位噪声的高频振荡器以及压控振荡器的实现成为可能。本综述将讲述太赫兹振荡器关键... 太赫兹技术近年来的快速发展推动着太赫兹振荡器以及压控振荡器的设计与实现。随着半导体工艺(如CMOS,SiGe,GaAs等)的进步,使得高集成度、低功耗、低相位噪声的高频振荡器以及压控振荡器的实现成为可能。本综述将讲述太赫兹振荡器关键技术及其最新研究进展,重点探讨不同类型的太赫兹振荡器设计方法,特别对提高输出功率和调谐范围等方面进行研究。通过对现有文献的综合分析,旨在为研究人员提供关于硅基太赫兹振荡器领域的全景式理解,为未来研究提供参考和指导。 展开更多
关键词 毫米波通信 毫米波 太赫兹频率 推推振荡器 振荡器阵列 耦合振荡器
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耗尽型GaN非易失性存储器的研究
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作者 邵国键 陈韬 +1 位作者 周书同 李信 固体电子学研究与进展 2025年第2期12-15,共4页
研究了基于SiO_(2)/SiN/AlGaN/GaN结构的耗尽型GaN非易失性存储器,该存储器中SiN介质层作为电荷存储层,SiO_(2)层作为隔离层。通过在栅极施加正压实现存储器的写入模式,将电子引入SiN电荷存储层。而栅极施加负压则能实现存储器的擦除模... 研究了基于SiO_(2)/SiN/AlGaN/GaN结构的耗尽型GaN非易失性存储器,该存储器中SiN介质层作为电荷存储层,SiO_(2)层作为隔离层。通过在栅极施加正压实现存储器的写入模式,将电子引入SiN电荷存储层。而栅极施加负压则能实现存储器的擦除模式,清除SiN电荷存储层中的电子,存储器恢复至初始状态。在经历10~4次循环擦写、10~4 s数据保持等可靠性验证后,GaN存储器依然保持了足够的窗口。 展开更多
关键词 氮化镓高电子迁移率晶体管 耗尽型GaN非易失性存储器 擦除模式 写入模式 循环特性 保持特性
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系统封装高速链路中跨层信号通路与配电网络协同分析
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作者 李涛 缪旻 固体电子学研究与进展 2025年第1期59-66,共8页
针对高速链路信号通路中典型的垂直过孔互连结构和配电网络电源/地平面对的信号完整性(Signal integrity, SI)与电源完整性(Power integrity, PI)问题进行了研究,分析了其电磁耦合机理,提出了一种流程相对简单、资源开销小、建模效率高... 针对高速链路信号通路中典型的垂直过孔互连结构和配电网络电源/地平面对的信号完整性(Signal integrity, SI)与电源完整性(Power integrity, PI)问题进行了研究,分析了其电磁耦合机理,提出了一种流程相对简单、资源开销小、建模效率高的协同分析方法。以在研的某型复合陶瓷SiP样品中信号通路和配电网络结构的设计为例,对所提出的协同分析方法的有效性进行了验证。 展开更多
关键词 协同分析 信号完整性 电源完整性 高速链路 系统封装
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4H-SiC同质外延片上三角形缺陷尺寸的控制方法研究
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作者 王翼 熊瑞 +4 位作者 赵志飞 曹越 孔龙 姜海涛 李赟 固体电子学研究与进展 2025年第3期16-21,共6页
系统地研究了4H-SiC同质外延材料表面三角形缺陷尺寸随外延工艺参数的变化规律。研究结果表明三角形缺陷尺寸与进气端C/Si比、生长温度及生长速率存在明显的正相关性:当进气端C/Si比从0.774增加至0.842时,三角形缺陷相对长度([1-100]方... 系统地研究了4H-SiC同质外延材料表面三角形缺陷尺寸随外延工艺参数的变化规律。研究结果表明三角形缺陷尺寸与进气端C/Si比、生长温度及生长速率存在明显的正相关性:当进气端C/Si比从0.774增加至0.842时,三角形缺陷相对长度([1-100]方向的长度和外延厚度的比值)从266.7增加至351.5,增幅约32%;当生长温度从1590℃增加至1640℃时,三角形缺陷相对长度从87.8增加至266.7,增幅约204%;当生长速率从30μm/h增加至60μm/h时,三角形缺陷相对长度从70.9增加至323.7,增幅约357%。生长界面处的碳覆盖率及生长温度是影响三角形缺陷沿[1-100]方向扩展的核心因素。适当降低进气端C/Si比、生长速率及生长温度可以在不增加缺陷密度的同时有效控制三角形缺陷尺寸。 展开更多
关键词 4H-SIC 三角形缺陷 C/Si比 生长速率 生长温度
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