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相位调控双向剪切散斑干涉表面变形测量
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作者 齐司源 方未东 +3 位作者 刘奕隆 常青 高帅 汪盛佳 《光学精密工程》 2025年第15期2390-2401,共12页
针对单向剪切散斑干涉的方向敏感性问题,提出一种基于相位调控的双向剪切散斑干涉技术。该技术将剪切干涉中的成像、剪切和相移操作视为系统对物光的相位变换作用。利用两个共面耦合的菲涅尔衍射透镜在像面产生具有横向错位的两幅图像,... 针对单向剪切散斑干涉的方向敏感性问题,提出一种基于相位调控的双向剪切散斑干涉技术。该技术将剪切干涉中的成像、剪切和相移操作视为系统对物光的相位变换作用。利用两个共面耦合的菲涅尔衍射透镜在像面产生具有横向错位的两幅图像,形成剪切干涉。通过在液晶空间光调制器(LC-SLM)上动态加载具有不同相位基线的双透镜相位掩模,产生相移剪切干涉图,并采用时间相移法进行相位求解。实验结果表明:相位调控双向剪切散斑干涉系统可以自由调整剪切的方向和大小,并引入可控的时间相移;利用单向剪切相位重构变形相位时,非剪切方向上的误差水平为剪切方向上的3.5~4.6倍,而利用双向剪切相位重构的变形相位,在各剪切方向上都具有较低的误差水平,且一致性较高,两个方向上的误差偏差为8%。相位调控双向剪切散斑干涉技术具有结构简单、集成度高等特点,为高精度变形测量提供了一种单波长、单偏振、单相机、单孔径的光学干涉法解决方案。 展开更多
关键词 干涉测量 剪切干涉 相位调控 时间相移 表面变形测量
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