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溶胶凝胶法制备以Al_2O_3为界面修饰层的铪铟锌氧薄膜晶体管 被引量:3
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作者 高娅娜 许云龙 +1 位作者 张建华 李喜峰 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第1期50-55,共6页
利用溶液法制备了以HfSiOx为绝缘层、HfInZnO为有源层、Al_2O_3为界面修饰层的TFT器件。HfSiOx薄膜经Al_2O_3薄膜修饰后,薄膜表面粗糙度从0.24nm降低至0.16nm。Al2O3薄膜与HfSiOx薄膜之间的界面接触良好,以Al_2O_3为界面修饰层的TFT器... 利用溶液法制备了以HfSiOx为绝缘层、HfInZnO为有源层、Al_2O_3为界面修饰层的TFT器件。HfSiOx薄膜经Al_2O_3薄膜修饰后,薄膜表面粗糙度从0.24nm降低至0.16nm。Al2O3薄膜与HfSiOx薄膜之间的界面接触良好,以Al_2O_3为界面修饰层的TFT器件整体性能得到提升,具体表现为:栅极电压正向和反向扫描过程中产生的阈值电压漂移显著减小,器件的阈值电压和亚阈值摆幅降低,迁移率与开关比增大。研究证明,溶液法制备Al_2O_3薄膜适合作为改善器件性能的界面修饰层。 展开更多
关键词 溶液法 薄膜晶体管 界面修饰层Al2O3
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粗糙阴极气体火花开关性能的理论研究 被引量:1
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作者 吕志忠 吕治辉 +2 位作者 高娅娜 钟功祥 蒋发光 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1359-1363,共5页
提出了粗糙阴极的气体火花开关击穿模型,通过粗糙层厚度和场强增强系数对阴极粗糙度进行了描述,利用概率论研究开关的击穿情况,分析了气体压强对粗糙阴极气体火花开关稳定性、击穿场强随气压的变化曲线以及开关绝缘恢复速度的影响,研究... 提出了粗糙阴极的气体火花开关击穿模型,通过粗糙层厚度和场强增强系数对阴极粗糙度进行了描述,利用概率论研究开关的击穿情况,分析了气体压强对粗糙阴极气体火花开关稳定性、击穿场强随气压的变化曲线以及开关绝缘恢复速度的影响,研究发现当阴极相对于电子平均自由程足够粗糙时,开关具有最佳的稳定性,当阴极粗糙结构尺度与电子平均自由程相当时,开关具有最佳的绝缘恢复特性。 展开更多
关键词 气体火花开关 粗糙度 击穿概率 稳定性 重复频率特性
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