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基于光场相机的大豆冠层叶面积无损测量方法研究 被引量:2
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作者 顾正敏 李臻峰 +2 位作者 宋飞虎 张君生 庄为 《浙江农业学报》 CSCD 北大核心 2018年第12期2144-2152,共9页
大豆上、中、下冠层叶面积分布是大豆植株株型状况评价、产量预测的重要依据,而传统上、中、下冠层叶面积测量方法采用大田切片法,该方法过程繁琐,且会对叶片造成伤害。针对这一问题,引入光场相机重聚焦技术分别得到聚焦在上、中、下叶... 大豆上、中、下冠层叶面积分布是大豆植株株型状况评价、产量预测的重要依据,而传统上、中、下冠层叶面积测量方法采用大田切片法,该方法过程繁琐,且会对叶片造成伤害。针对这一问题,引入光场相机重聚焦技术分别得到聚焦在上、中、下叶片的重聚焦图像,通过图像处理技术提取聚焦平面的叶片,去掉离焦平面的叶片,分别得到上、中、下层的投影面积。选用开花期103盆宏秋品种大豆植株作为校正集,根据光场相机的标定计算各冠层叶片的校正系数,获得修正后的各冠层叶片投影面积。建立大豆植株各冠层投影面积和真实叶面积的回归模型,并选20盆作为预测集来验证各回归模型。研究发现:上层叶面积模型的决定系数为0. 945,预测集的最大误差为4. 48%,均方根误差为4. 376;中层叶面积模型的决定系数为0. 796,预测集的最大误差为13. 62%,均方根误差为7. 273;下层叶面积模型的决定系数为0. 914,预测集的最大误差为8. 63%,均方根误差为1. 529。上层和下层叶面积测量模型相关性高,由于上层叶片的遮挡,中层叶面积模型相关性略低。 展开更多
关键词 冠层叶面积 光场重聚焦 大豆植株 图像处理 回归模型
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大豆开花期叶片面积双视角无损测量系统的构建
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作者 顾正敏 李臻峰 +3 位作者 宋飞虎 张君生 庄为 朱冠宇 《贵州农业科学》 CAS 2018年第6期140-143,共4页
为作物叶面积的无损测量提供理论依据,以开花期103盆大豆品种宏秋的植株作为校正集,通过图像处理建立大豆植株顶视投影面积(TA)、侧视投影面积(SA)和真实叶面积(y)的回归模型,并在大豆开花期选20盆作为预测集验证回归模型,为消除叶片倾... 为作物叶面积的无损测量提供理论依据,以开花期103盆大豆品种宏秋的植株作为校正集,通过图像处理建立大豆植株顶视投影面积(TA)、侧视投影面积(SA)和真实叶面积(y)的回归模型,并在大豆开花期选20盆作为预测集验证回归模型,为消除叶片倾角对测量结果的影响,将顶视和侧视投影面积作为预测模型自变量优化模型。结果表明:顶视投影面积和真实叶面积的回归模型中,幂函数模型y=2.04×10^(-4)×TA^(1.049)为最优模型,决定系数(R^2)=0.949,最大误差为8.71%,均方根误差为12.56;优化的多元幂函数模型为y=2.37×10^(-4)×TA^(0.908)×SA^(0.144),R^2=0.960,最大相对误差的绝对值为4.29%,均方根误差为8.77。计算机视觉系统无损测量单株大豆开花期叶片面积可行,且测量精度高,适用于不同地区和不同品种大豆的叶面积测量。 展开更多
关键词 图像处理 无损测量系统 大豆植株 叶片面积 回归模型
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