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新型TFT-LCD黑矩阵的细线化研究 被引量:3
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作者 靳福江 卢兵 +5 位作者 朱凤稚 罗峰 柳星 代伟男 刘华 范峻 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期521-526,共6页
介绍了新型TFT LCD黑矩阵细线化研究.在原有工艺设备的基础上,突破设备局限和工艺瓶颈,通过引入相掩膜技术和背面曝光设备,达到进一步减小黑矩阵线宽的效果.实验测试结果显示:在普通掩膜板设计上应用相位移掩膜板技术,降低透光区边缘... 介绍了新型TFT LCD黑矩阵细线化研究.在原有工艺设备的基础上,突破设备局限和工艺瓶颈,通过引入相掩膜技术和背面曝光设备,达到进一步减小黑矩阵线宽的效果.实验测试结果显示:在普通掩膜板设计上应用相位移掩膜板技术,降低透光区边缘衍射和散射现象,使曝光后黑矩阵线宽降低1.0~1.5 μm.在原有工艺基础上添加背面曝光工艺,使黑矩阵材料在显影后进行背面曝光预固化,改善黑矩阵图形形貌,进一步减小黑矩阵线宽达到0.3~0.5 μm.通过新工艺和新设备的引入和应用,黑矩阵线宽整体降低1.5~2.0 pm,达到5.0~5.5 μm,可以满足目前高PPI(单位面积像素个数)产品对透过率和对比度要求. 展开更多
关键词 黑矩阵 线宽 相位移掩膜板 背面曝光
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含有柱状隔垫物彩膜基板的剥离技术
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作者 靳福江 王在清 +2 位作者 范峻 刘阳升 曾望明 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期220-223,共4页
介绍了一种含有柱状隔垫物彩膜基板的剥离技术。采用层数顺序方法,两步剥离工艺。第一步,采用剥离液,进行260s,迅速剥离柱状隔垫物层;第二步,刻蚀液进行650s和剥离液进行650s共同作用,先后剥离玻璃基板上透明导电氧化铟锡层、颜色层,挡... 介绍了一种含有柱状隔垫物彩膜基板的剥离技术。采用层数顺序方法,两步剥离工艺。第一步,采用剥离液,进行260s,迅速剥离柱状隔垫物层;第二步,刻蚀液进行650s和剥离液进行650s共同作用,先后剥离玻璃基板上透明导电氧化铟锡层、颜色层,挡光层。使之剥离后成为可以再次利用的干净白玻璃。 展开更多
关键词 剥离技术 柱状隔垫物层 金属氧化铟锡 刻蚀液 剥离液
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