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专利名称：多离子束共溅射淀积纳米膜装置
1
作者
雷卫武
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2005年第4期57-57,共1页
本发明提供一种具有单离子束和双离子束以及多离子束溅射淀积，能产生单质、二组元、三组元、四组元成分，原位反应共溅射淀积纳米膜（含微米膜）的、
关键词
多离子束
纳米膜
共溅射
淀积
专利名称
装置
离子束溅射
三组元
双离子束
在线阅读
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职称材料
题名
专利名称：多离子束共溅射淀积纳米膜装置
1
作者
雷卫武
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2005年第4期57-57,共1页
文摘
本发明提供一种具有单离子束和双离子束以及多离子束溅射淀积，能产生单质、二组元、三组元、四组元成分，原位反应共溅射淀积纳米膜（含微米膜）的、
关键词
多离子束
纳米膜
共溅射
淀积
专利名称
装置
离子束溅射
三组元
双离子束
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
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作者
出处
发文年
被引量
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1
专利名称：多离子束共溅射淀积纳米膜装置
雷卫武
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2005
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