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含放射性同位素材料ThF4保护膜镀制与防护技术实验
1
作者
隋振东
《四川激光》
1981年第A02期122-122,共1页
本工作介绍了关于含放射性同位素材料ThF4镀制金膜反射镜的保护膜，消除了金膜的严重缺欠，提高了机械强度，表面能承受有机溶剂和水擦拭，便于清除污染．不影响光学性能，镀保护膜后，反射率降低小于0．2％，抗激光强度提高到3．5×...
本工作介绍了关于含放射性同位素材料ThF4镀制金膜反射镜的保护膜，消除了金膜的严重缺欠，提高了机械强度，表面能承受有机溶剂和水擦拭，便于清除污染．不影响光学性能，镀保护膜后，反射率降低小于0．2％，抗激光强度提高到3．5×10^6瓦／厘米^2。还叙述了把放射防护技术用于真空镀膜技术，开创了镀制放射材料的新技术。
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关键词
放射性同位素
防护技术
保护膜
镀制
材料
实验
真空镀膜技术
抗激光强度
机械强度
有机溶剂
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职称材料
题名
含放射性同位素材料ThF4保护膜镀制与防护技术实验
1
作者
隋振东
机构
黑龙江省技术物理所
出处
《四川激光》
1981年第A02期122-122,共1页
文摘
本工作介绍了关于含放射性同位素材料ThF4镀制金膜反射镜的保护膜，消除了金膜的严重缺欠，提高了机械强度，表面能承受有机溶剂和水擦拭，便于清除污染．不影响光学性能，镀保护膜后，反射率降低小于0．2％，抗激光强度提高到3．5×10^6瓦／厘米^2。还叙述了把放射防护技术用于真空镀膜技术，开创了镀制放射材料的新技术。
关键词
放射性同位素
防护技术
保护膜
镀制
材料
实验
真空镀膜技术
抗激光强度
机械强度
有机溶剂
分类号
TQ436.3 [化学工程]
X591 [环境科学与工程—环境工程]
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作者
出处
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1
含放射性同位素材料ThF4保护膜镀制与防护技术实验
隋振东
《四川激光》
1981
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