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宽禁带半导体X射线探测器研究进展
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作者 吴璇 高润龙 +3 位作者 刘志宇 钟向丽 刘林月 欧阳晓平 《发光学报》 北大核心 2025年第5期794-812,共19页
高性能半导体X射线探测器应具备低检测限、低暗电流、高灵敏度、快速响应、强抗辐照性能等特点。碳化硅、氮化镓、金刚石、氧化镓和氧化锌等宽禁带半导体因具有宽禁带宽度、高电子迁移率、高击穿场强、高饱和载流子漂移速度、大离位能... 高性能半导体X射线探测器应具备低检测限、低暗电流、高灵敏度、快速响应、强抗辐照性能等特点。碳化硅、氮化镓、金刚石、氧化镓和氧化锌等宽禁带半导体因具有宽禁带宽度、高电子迁移率、高击穿场强、高饱和载流子漂移速度、大离位能等特性,在X射线探测中展现出优异性能,符合高性能半导体X射线探测器的特点要求,成为极具前景的X射线探测器。本文介绍了碳化硅、氮化镓、金刚石、氧化镓和氧化锌等宽禁带半导体材料特性、制备技术和X射线探测器研究的最新进展,为医学成像、工业检测和太空探索等未来研究方向和潜在应用提供了参考。 展开更多
关键词 宽禁带 半导体 X射线探测器 碳化硅 氮化镓 金刚石
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(Bi,Yb)_4Ti_3O_(12)铁电薄膜的制备
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作者 成传品 唐明华 +3 位作者 叶志 钟向丽 郑学军 周益春 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第8期612-613,631,共3页
采用稀有金属镱元素对钛酸铋进行掺杂,以期获得性能较好的(Bi,Yb)4Ti3O12铁电薄膜。采用溶胶-凝胶旋涂法在p型Si(100)基底上成功地沉积出(Bi3.4,Yb0.6)Ti3O12[BYT]铁电薄膜。用X射线衍射法对其结构及其成份进行了表征,用铁电分析仪(RT6... 采用稀有金属镱元素对钛酸铋进行掺杂,以期获得性能较好的(Bi,Yb)4Ti3O12铁电薄膜。采用溶胶-凝胶旋涂法在p型Si(100)基底上成功地沉积出(Bi3.4,Yb0.6)Ti3O12[BYT]铁电薄膜。用X射线衍射法对其结构及其成份进行了表征,用铁电分析仪(RT66A)测试了其铁电性。并就影响BYT薄膜铁电性能的因素进行了分析。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 BYT铁电薄膜 制备 分析
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位移损伤效应对AlGaN/GaN HEMT器件的影响 被引量:2
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作者 陈柏炜 孙常皓 +7 位作者 马腾 宋宏甲 王金斌 彭超 张战刚 雷志锋 梁朝辉 钟向丽 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第12期2274-2280,共7页
对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)分别进行3 MeV质子辐照和14 MeV中子辐照实验。3 MeV质子辐照下累积注量达到1×10^(15) cm^(-2)或14 MeV中子辐照下累积注量达到2×10^(13)cm^(-2)时,AlGaN/GaN HEMTs饱和漏电流下降,阈值... 对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)分别进行3 MeV质子辐照和14 MeV中子辐照实验。3 MeV质子辐照下累积注量达到1×10^(15) cm^(-2)或14 MeV中子辐照下累积注量达到2×10^(13)cm^(-2)时,AlGaN/GaN HEMTs饱和漏电流下降,阈值电压正向漂移,峰值跨导降低。分别对3 MeV质子辐照和14 MeV中子辐照后的AlGaN/GaN HEMTs进行深能级瞬态谱(DLTS)测试。3 MeV质子辐照后缺陷浓度下降降低了反向栅极漏电流,而14 MeV中子辐照会导致缺陷浓度增加,使得反向栅极漏电流增加。根据质子和中子辐照后的缺陷能级均为(0.850±0.020)eV,推断缺陷类型均为氮间隙缺陷,质子辐照和中子辐照后氮间隙缺陷的位移导致的位移损伤效应是AlGaN/GaN HEMT器件电学性能退化的主要原因。 展开更多
关键词 AlGaN/GaN HEMT 质子辐照 中子辐照 位移损伤
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电离辐射效应对铁电薄膜畴结构影响模拟 被引量:1
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作者 谭鹏飞 李波 +3 位作者 王金斌 钟向丽 郭红霞 王芳 《湘潭大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第4期30-39,共10页
运用蒙特卡洛方法计算电离辐射对铁电存储器(MFIS型铁电场效应晶体管)的损伤情况,再结合相场方法,建立了MFIS型铁电场效应晶体管相场模型.考虑电离辐射效应对场效应晶体管中铁电薄膜与电极以及绝缘体存在界面效应对存储器中铁电薄膜畴... 运用蒙特卡洛方法计算电离辐射对铁电存储器(MFIS型铁电场效应晶体管)的损伤情况,再结合相场方法,建立了MFIS型铁电场效应晶体管相场模型.考虑电离辐射效应对场效应晶体管中铁电薄膜与电极以及绝缘体存在界面效应对存储器中铁电薄膜畴结构的影响.探究从畴结构的角度直观分析电离辐射效应对存储器损伤的可能原因.证实了界面厚度对BaTiO3(BTO)铁电薄膜的畴结构会产生一定的影响;界面厚度的增加会使90°畴结构发生移动,主要为畴壁的移动,主要原因是界面处的极化小于内部,以及界面处的电势与内部形成的电势差,这些都会引起畴壁的移动,畴壁的移动以及畴壁数量减少,会减少体系的畴壁能,从而降低总体的能量. 展开更多
关键词 电离辐射 铁电存储器 相场法 90°畴结构
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Experiment and simulation on degradation and burnout mechanisms of SiC MOSFET under heavy ion irradiation 被引量:3
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作者 张鸿 郭红霞 +9 位作者 雷志锋 彭超 张战刚 陈资文 孙常皓 何玉娟 张凤祁 潘霄宇 钟向丽 欧阳晓平 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第2期525-534,共10页
Experiments and simulation studies on 283 MeV I ion induced single event effects of silicon carbide(SiC) metal–oxide–semiconductor field-effect transistors(MOSFETs) were carried out. When the cumulative irradiation ... Experiments and simulation studies on 283 MeV I ion induced single event effects of silicon carbide(SiC) metal–oxide–semiconductor field-effect transistors(MOSFETs) were carried out. When the cumulative irradiation fluence of the SiC MOSFET reached 5×10^(6)ion·cm^(-2), the drain–gate channel current increased under 200 V drain voltage, the drain–gate channel current and the drain–source channel current increased under 350 V drain voltage. The device occurred single event burnout under 800 V drain voltage, resulting in a complete loss of breakdown voltage. Combined with emission microscope, scanning electron microscope and focused ion beam analysis, the device with increased drain–gate channel current and drain–source channel current was found to have drain–gate channel current leakage point and local source metal melt, and the device with single event burnout was found to have local melting of its gate, source, epitaxial layer and substrate. Combining with Monte Carlo simulation and TCAD electrothermal simulation, it was found that the initial area of single event burnout might occur at the source–gate corner or the substrate–epitaxial interface, electric field and current density both affected the lattice temperature peak. The excessive lattice temperature during the irradiation process appeared at the local source contact, which led to the drain–source channel damage. And the excessive electric field appeared in the gate oxide layer, resulting in drain–gate channel damage. 展开更多
关键词 heavy ion silicon carbide metal–oxide–semiconductor field-effect transistors(SiC MOSFET) drain–gate channel drain–source channel single event burnout TCAD simulation
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电子材料超低本底α粒子测试技术及试验研究
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作者 罗俊洋 张战刚 +9 位作者 雷志锋 陈资文 彭超 岳少忠 张鸿 钟向丽 孙常皓 黄奕铭 何玉娟 黄云 《电子产品可靠性与环境试验》 2022年第3期37-41,共5页
首先,介绍了3种关键的电子材料超低本底α粒子发射测试技术,包括α粒子来源甄别、宇宙射线信号识别和氡气本底来源判别技术;然后,通过进一步地开展试验研究,发现锡铅合金焊料的表面α粒子发射率远高于锡银铜合金焊料,发射能谱分析表明... 首先,介绍了3种关键的电子材料超低本底α粒子发射测试技术,包括α粒子来源甄别、宇宙射线信号识别和氡气本底来源判别技术;然后,通过进一步地开展试验研究,发现锡铅合金焊料的表面α粒子发射率远高于锡银铜合金焊料,发射能谱分析表明二者发射的α粒子均来自材料自身的^(210)Po核素,而经提纯处理后的合金焊料的表面α粒子发射率显著地下降。研究结果对高可靠性、大规模电子系统α粒子软错误测试和评价,以及提升产品可靠性具有重要的意义。 展开更多
关键词 电子材料 Α粒子 发射率 能谱
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Proton induced radiation effect of SiC MOSFET under different bias 被引量:1
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作者 张鸿 郭红霞 +11 位作者 雷志锋 彭超 马武英 王迪 孙常皓 张凤祁 张战刚 杨业 吕伟 王忠明 钟向丽 欧阳晓平 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第10期708-715,共8页
Radiation effects of silicon carbide metal–oxide–semiconductor field-effect transistors(SiC MOSFETs)induced by 20 MeV proton under drain bias(V_(D)=800 V,V_(G)=0 V),gate bias(V_(D)=0 V,V_(G)=10 V),turn-on bias(V_(D)... Radiation effects of silicon carbide metal–oxide–semiconductor field-effect transistors(SiC MOSFETs)induced by 20 MeV proton under drain bias(V_(D)=800 V,V_(G)=0 V),gate bias(V_(D)=0 V,V_(G)=10 V),turn-on bias(V_(D)=0.5 V,V_(G)=4 V)and static bias(V_(D)=0 V,V_(G)=0 V)are investigated.The drain current of SiC MOSFET under turn-on bias increases linearly with the increase of proton fluence during the proton irradiation.When the cumulative proton fluence reaches 2×10^(11)p·cm^(-2),the threshold voltage of SiC MOSFETs with four bias conditions shifts to the left,and the degradation of electrical characteristics of SiC MOSFETs with gate bias is the most serious.In the deep level transient spectrum test,it is found that the defect energy level of SiC MOSFET is mainly the ON2(E_(c)-1.1 eV)defect center,and the defect concentration and defect capture cross section of SiC MOSFET with proton radiation under gate bias increase most.By comparing the degradation of SiC MOSFET under proton cumulative irradiation,equivalent 1 MeV neutron irradiation and gamma irradiation,and combining with the defect change of SiC MOSFET under gamma irradiation and the non-ionizing energy loss induced by equivalent 1 MeV neutron in SiC MOSFET,the degradation of SiC MOSFET induced by proton is mainly caused by ionizing radiation damage.The results of TCAD analysis show that the ionizing radiation damage of SiC MOSFET is affected by the intensity and direction of the electric field in the oxide layer and epitaxial layer. 展开更多
关键词 PROTON silicon carbide metal–oxide–semiconductor field-effect transistor(SiC MOSFET) degradation defect ionization radiation damage
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铁电储存器中子单粒子效应的蒙特卡罗模拟
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作者 张鸿 谭鹏飞 +2 位作者 李波 钟向丽 郭红霞 《湘潭大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第4期84-91,共8页
大气辐射环境中高通量中子对铁电存储器的单粒子效应不容忽视.该文利用蒙特卡罗方法研究了铁电存储器的中子单粒子效应.中子入射在铁电存储器灵敏区域造成的总能量沉积随中子能量的增大而增加,且在灵敏区域内部的总能量沉积值略大于在... 大气辐射环境中高通量中子对铁电存储器的单粒子效应不容忽视.该文利用蒙特卡罗方法研究了铁电存储器的中子单粒子效应.中子入射在铁电存储器灵敏区域造成的总能量沉积随中子能量的增大而增加,且在灵敏区域内部的总能量沉积值略大于在边界处的.中子能量为1~5MeV时,铁电存储器中没有发现单粒子翻转.中子能量为6~16MeV时,铁电存储器会发生单粒子翻转.当中子能量从6MeV增大到8MeV时,单粒子翻转截面从6×10^-16cm^2增大到6×10^-15cm^2,增大约1个数量级;当中子能量从8MeV增大到16MeV时,单粒子翻转截面从6×10^-15cm^2增大至1.8×10^-14cm^2,只增大到3倍左右.中子还会导致铁电存储器出现单粒子功能中断,其单粒子功能中断错误数随功能中断线性能量传递(linearenergytransfer,LET)阈值的增大呈指数形式减小.同时,铁电存储器的功能中断LET阈值越大,其单粒子功能中断错误截面受中子能量的影响越不明显. 展开更多
关键词 中子单粒子 铁电存储器 GEANT4 单粒子翻转 单粒子功能中断
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60Co-γ射线辐照对PbZr0.1Ti0.9O3(111)铁电薄膜性能的影响 被引量:1
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作者 倪凯凯 钟向丽 +4 位作者 宋宏甲 侯鹏飞 李波 王金斌 谭丛兵 《湘潭大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第3期90-96,共7页
采用脉冲激光沉积方法在SrTiO3衬底上制备了SrRuO3底电极和(111)择优取向的PbZr0.1Ti0.9O3外延铁电薄膜,通过顶电极Pt的构建形成了Pt/PbZr0.1Ti0.9O3(111)/SrRuO3铁电电容器结构,然后对PbZr0.1Ti0.9O3(111)铁电薄膜开展了60Co-γ射线总... 采用脉冲激光沉积方法在SrTiO3衬底上制备了SrRuO3底电极和(111)择优取向的PbZr0.1Ti0.9O3外延铁电薄膜,通过顶电极Pt的构建形成了Pt/PbZr0.1Ti0.9O3(111)/SrRuO3铁电电容器结构,然后对PbZr0.1Ti0.9O3(111)铁电薄膜开展了60Co-γ射线总剂量辐照效应实验.结果表明:随着γ射线辐照剂量的增加,PbZr0.1Ti0.9O3(111)铁电薄膜中的带状畴数目逐渐减少,剩余极化强度、矫顽场和电容值轻微减小,当辐照剂量为5Mrad(Si)时,剩余极化值、矫顽场和电容值的衰减幅度仅12.4%、10.36%和13.78%;漏电流仅在高剂量辐照后产生轻微增大.可见,PbZr0.1Ti0.9O3(111)铁电薄膜具有较好的抗辐射能力,在航空航天领域有一定的应用前景. 展开更多
关键词 总剂量效应 60Co-γ射线 PbZr0.1Ti0.9O3(111)铁电薄膜 畴结构
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失配应变对钛酸铅薄膜正负弹卡效应的影响 被引量:1
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作者 杨淼 王金斌 +1 位作者 钟向丽 李波 《湘潭大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第4期47-56,共10页
基于朗道-德文希尔理论,通过热力学分析,描述了钛酸铅薄膜的正负弹卡效应与应力场的关系,以及失配应变对钛酸铅薄膜正负弹卡效应的影响.结果表明,对钛酸铅薄膜施加不同应力场可以得到正负弹卡效应.失配应变对钛酸铅薄膜弹卡效应有较大... 基于朗道-德文希尔理论,通过热力学分析,描述了钛酸铅薄膜的正负弹卡效应与应力场的关系,以及失配应变对钛酸铅薄膜正负弹卡效应的影响.结果表明,对钛酸铅薄膜施加不同应力场可以得到正负弹卡效应.失配应变对钛酸铅薄膜弹卡效应有较大的影响,拉伸失配应变增强钛酸铅薄膜负弹卡效应,拉伸失配应变为0.0004时使钛酸铅薄膜负弹卡效应温度变化峰值增大约2.3K,室温附近的温度变化增大约1.2K,同时温度变化的峰值向室温方向偏移约55℃;压缩失配应变对钛酸铅薄膜正弹卡效应有促进作用,压缩失配应变为-0.002时使钛酸铅薄膜正弹卡效应室温温度变化增大约1K.在失配应变调控下,同时利用钛酸铅薄膜正负弹卡效应,钛酸铅薄膜可以在室温附近获得约14K的温度改变,对于钛酸铅薄膜弹卡效应在固体制冷上的应用有重要意义. 展开更多
关键词 钛酸铅薄膜 朗道-德文希尔理论 失配应变 正/负弹卡效应
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二维铁电材料的研究进展 被引量:1
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作者 张小娅 王金斌 +3 位作者 钟向丽 刘琼 文豪 吕扬 《湘潭大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第4期92-106,共15页
铁电材料是一类具有优异的铁电、压电及热释电等性能的功能材料,有着很高的研究价值.随着科学技术的发展,对器件尺寸、功耗提出了更高的要求,微型化、集成化成为目前铁电材料的一大发展趋势.传统铁电材料由于尺寸效应、表面效应等因素... 铁电材料是一类具有优异的铁电、压电及热释电等性能的功能材料,有着很高的研究价值.随着科学技术的发展,对器件尺寸、功耗提出了更高的要求,微型化、集成化成为目前铁电材料的一大发展趋势.传统铁电材料由于尺寸效应、表面效应等因素制约了其在纳米尺度下的应用,如何解决这一问题成为当下的研究热点之一,其中寻找具有铁电性的二维材料是可能的解决方案.该文综述了近年来研究者们关于二维铁电材料的探索,介绍了二维铁电材料的独特优势,解释了二维材料铁电性的来源以及调控,最后对该领域今后的发展提出了展望. 展开更多
关键词 二维铁电材料 制备方法 性能
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Sensitivity study of the SiGe heterojunction bipolar transistor single event effect based on pulsed laser and technology computer-aided design simulation
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作者 冯亚辉 郭红霞 +6 位作者 潘霄宇 张晋新 钟向丽 张鸿 琚安安 刘晔 欧阳晓平 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第6期420-428,共9页
The single event effect of a silicon–germanium heterojunction bipolar transistor(SiGe HBT) was thoroughly investigated. By considering the worst bias condition, the sensitive area of the proposed device was scanned w... The single event effect of a silicon–germanium heterojunction bipolar transistor(SiGe HBT) was thoroughly investigated. By considering the worst bias condition, the sensitive area of the proposed device was scanned with a pulsed laser.With variation of the collector bias and pulsed laser incident energy, the single event transient of the SiGe HBT was studied.Moreover, the single event transient produced by laser irradiation at a wavelength of 532 nm was more pronounced than at a wavelength of 1064 nm. Finally, the impact of the equivalent linear energy transfer of the 1064 nm pulsed laser on the single event transient was qualitatively examined by performing technology computer-aided design simulations, and a good consistency between the experimental data and the simulated outcomes was attained. 展开更多
关键词 SILICON-GERMANIUM heterojunction bipolar transistor pulsed laser single event effect equivalent linear energy transfer(LET)value
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AlCrSiN/Cr周期复合薄膜的制备及红外辐射特性和摩擦磨损性能
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作者 傅雄 罗新宇 +5 位作者 李加林 宋宏甲 周昱 蔺玉冰 钟向丽 王金斌 《材料导报》 CSCD 北大核心 2023年第S02期69-73,共5页
红外隐身技术是现代隐身技术的重要一环,它能有效降低目标被红外侦察技术发现的风险。然而,传统的红外隐身材料虽然具有较低的红外发射率,但在耐磨损、抗高温氧化、抗腐蚀等方面表现不佳。尤其是在沙漠、火山等恶劣环境下,这些材料很难... 红外隐身技术是现代隐身技术的重要一环,它能有效降低目标被红外侦察技术发现的风险。然而,传统的红外隐身材料虽然具有较低的红外发射率,但在耐磨损、抗高温氧化、抗腐蚀等方面表现不佳。尤其是在沙漠、火山等恶劣环境下,这些材料很难同时满足红外隐身性能和功能性的需求。为此,本工作采用电弧离子镀技术制备了AlCrSiN/Cr周期复合薄膜,并研究了不同循环周期对薄膜红外辐射特性、力学性能和摩擦磨损性能的影响。研究结果表明:AlCrSiN/Cr周期复合薄膜中的相结构主要由AlCrN固溶相和Cr金属相两种构成,其平均红外发射率较低(0.27),硬度较高(1962HV),薄膜与基底之间的结合力超过100 N。随着周期数的增加,薄膜的摩擦磨损行为趋于稳定,在三周期时,磨损率达到2.78×10^(-6) mm^(3)/(N·m)的较低值。 展开更多
关键词 电弧离子镀 AlCrSiN/Cr 周期复合薄膜 红外发射率 摩擦磨损
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Electronic structure and magnetic properties of (Mn, N)-codoped ZnO
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作者 王前进 王金斌 +2 位作者 钟向丽 谭秋红 刘应开 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第12期128-132,共5页
The electronic structures and magnetic properties of(Mn, N)-codoped Zn O are investigated by using the firstprinciples calculations. In the ferromagnetic state, as N substitutes for the intermediate O atom of the ne... The electronic structures and magnetic properties of(Mn, N)-codoped Zn O are investigated by using the firstprinciples calculations. In the ferromagnetic state, as N substitutes for the intermediate O atom of the nearest neighboring Mn ions, about 0.5 electron per Mn^2+ion transfers to the N^2-ion, which leads to the high-state Mn ions(close to +2.5)and trivalent N3-ions. In an antiferromagnetic state, one electron transfers to the N2-ion from the downspin Mn2+ion,while no electron transfer occurs for the upspin Mn^2+ion. The(Mn, N)-codoped Zn O system shows ferromagnetism,which is attributed to the hybridization between Mn 3d and N 2p orbitals. 展开更多
关键词 first-principles calculations FERROMAGNETISM HYBRIDIZATION
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非晶态Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜的低波动阻变特性研究
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作者 宋宏甲 薛旦 +1 位作者 钟向丽 王金斌 《湘潭大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第3期55-63,共9页
基于化学溶液法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了非晶态Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜,研究了其表面形貌、介电特性和阻变特性.结果表明:非晶态Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜无明显晶界存在,其P-E和C-V曲线无滞后特征,其I-V曲线展示了双极性阻变行为.高... 基于化学溶液法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了非晶态Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜,研究了其表面形貌、介电特性和阻变特性.结果表明:非晶态Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜无明显晶界存在,其P-E和C-V曲线无滞后特征,其I-V曲线展示了双极性阻变行为.高低阻态的导电机制研究表明该双极性阻变行为由氧缺陷导电细丝断开/连接主导.通过与氧缺陷导电细丝主导的晶态Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜基阻变行为对比,发现非晶态Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜阻变的波动性较小,这与其无晶界密切相关.该研究可为开发低波动的阻变器件提供一定指导. 展开更多
关键词 Bi3.15Nd0.85Ti3O12薄膜 非晶态 阻变特性 波动性
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2T2C铁电存储单元读写电路的单粒子翻转效应研究
16
作者 高占占 钟向丽 +3 位作者 侯鹏飞 宋宏甲 李波 王金斌 《湘潭大学学报(自然科学版)》 CAS 2019年第4期76-83,共8页
针对2T2C铁电存储单元读写电路进行了单粒子翻转效应的仿真模拟,研究了单粒子入射读写电路的不同敏感节点对存储数据的影响,并分析了数据读写出错的内在机制.结果表明:单粒子入射存储阵列中的字线晶体管时,存储数据未发生翻转,这主要是... 针对2T2C铁电存储单元读写电路进行了单粒子翻转效应的仿真模拟,研究了单粒子入射读写电路的不同敏感节点对存储数据的影响,并分析了数据读写出错的内在机制.结果表明:单粒子入射存储阵列中的字线晶体管时,存储数据未发生翻转,这主要是因为铁电电容极化信息波动后又恢复至原状态;单粒子入射外围电路中的板线激发器和灵敏放大器时,存储数据发生了翻转,这主要是因为外围电路产生的单粒子瞬态脉冲造成数据读出出错,进而导致了回写数据翻转. 展开更多
关键词 铁电存储单元 单粒子翻转 单粒子瞬态脉冲
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