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金刚石厚膜的制备及应用研究 被引量:4
1
作者 金曾孙 吕宪义 +5 位作者 顾长志 王春蕾 白亦真 皇甫萍 秦东 邹广田 《高技术通讯》 CAS CSCD 1994年第8期1-4,共4页
用电子增强热灯丝CVD(化学汽相沉积)方法制备出膜厚为0.1-2mm的金刚石厚膜,研究了金刚石厚膜的耐磨性和热导特性,用它制作了金刚石膜焊接刀具和半导体激光器用金刚石膜热沉。
关键词 CVD 金刚石薄膜 半导体薄膜 制备
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C-BN衬底上金刚石的异质外延生长研究 被引量:3
2
作者 金曾孙 吕宪义 邹广田 《高技术通讯》 CAS CSCD 1994年第6期15-17,共3页
用热灯丝CVD方法在C-BN单晶衬底上制备出金刚石膜,并且在C-BN(100)面上观察到金刚石的异质外延。
关键词 衬底 金刚石 外延生长 薄膜
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低成本高质量金刚石膜生长技术及热学方面的应用 被引量:1
3
作者 金曾孙 《材料导报》 EI CAS CSCD 2001年第2期24-24,共1页
随着大功率电子、光电子、微波器件以及超大规模IC技术的飞速发展,急需新的热沉材料,用高导热高绝缘金刚石膜代替目前常用的热沉材料,具有广阔的应用前景和市场容量。现在的问题是建立和发展低成本大尺寸高导热金刚石膜的制备技术,解决... 随着大功率电子、光电子、微波器件以及超大规模IC技术的飞速发展,急需新的热沉材料,用高导热高绝缘金刚石膜代替目前常用的热沉材料,具有广阔的应用前景和市场容量。现在的问题是建立和发展低成本大尺寸高导热金刚石膜的制备技术,解决与热沉应用相关的关键技术。 几年来,在国家“八六三”计划的支持下,建立和发展了直流热阴极PCVD,EA-CVD和微波PCVD等高质量金刚石膜的制备技术。用直流热阴极PCVD和EA-CVD方法制备出大尺寸高导热金刚石厚膜,沉积尺寸为φ80mm,膜厚最高达到4.2mm。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 生长技术 直流热阴极 PCVD法
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掺硼多晶金刚石膜的电化学性能研究 被引量:10
4
作者 李春燕 潘凯 +5 位作者 吕宪义 李明吉 刘兆阅 白玉白 李博 金曾孙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期2136-2139,共4页
采用EACVD(E lectron Assisted Chem ical Vapor Deposition)方法制备了掺硼金刚石膜,并用扫描电镜、拉曼光谱及霍尔效应等测试方法对其表面形貌、生长特性、载流子浓度以及导电性能进行了分析.测试结果表明,掺硼金刚石膜是由微米级晶... 采用EACVD(E lectron Assisted Chem ical Vapor Deposition)方法制备了掺硼金刚石膜,并用扫描电镜、拉曼光谱及霍尔效应等测试方法对其表面形貌、生长特性、载流子浓度以及导电性能进行了分析.测试结果表明,掺硼金刚石膜是由微米级晶粒组成的多晶膜,其载流子浓度为4.88×1020cm-3,电阻率为0.03Ω.cm,是高品质金刚石膜.用该金刚石膜制作电化学电极,利用循环伏安法分别测量了金刚石膜电极在氯化钾空白底液、亚铁氰化钾溶液和左旋半胱氨酸溶液中的循环伏安曲线,发现该金刚石膜电极在水溶液中具有宽的电化学窗口(约为3.7 V)和接近零的背景电流,在生物制剂的检测中具有很高的灵敏度和良好的稳定性,是一种理想的电化学电极材料. 展开更多
关键词 掺硼金刚石膜 电化学电极 循环伏安法 生物制剂检测
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高功率准分子激光沉积类金刚石膜的结构及性能 被引量:6
5
作者 彭鸿雁 金曾孙 +3 位作者 李俊杰 申辉 赵立新 申家镜 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期2048-2050,共3页
采用高功率和高频率准分子激光器在高真空及 H2 和 N2 气氛下沉积类金刚石膜 .利用 Raman光谱和电子衍射方法分析了膜的微结构 . Raman光谱呈典型 DLC膜的特征 ,G峰位于 1 5 2 8cm-1,D峰位于1 3 2 7cm-1,为一大的肩峰 ,电子衍射图象呈... 采用高功率和高频率准分子激光器在高真空及 H2 和 N2 气氛下沉积类金刚石膜 .利用 Raman光谱和电子衍射方法分析了膜的微结构 . Raman光谱呈典型 DLC膜的特征 ,G峰位于 1 5 2 8cm-1,D峰位于1 3 2 7cm-1,为一大的肩峰 ,电子衍射图象呈多晶电子衍射特征 ,可观察到 5个同心圆环 ,由此计算出的面间距与金刚石 ( 1 1 1 ) ,( 2 0 0 ) ,( 2 2 0 ) ,( 3 3 1 )和 ( 3 3 2 )面间距相符 .红外吸收光谱测量结果表明 ,在 Ge片上单面镀类金刚石膜具有明显的红外增透效果 ,在 1 0 0 0~ 3 0 0 0 cm-1范围内红外透过率达到 5 5 %以上 .用原子力显微镜和 SEM观察了表面形貌 ,用显微硬度计和显微划痕仪测试了膜的硬度与附着力 . 展开更多
关键词 准分子激光器 类金刚石膜 结构特性 制备 电子衍射方法
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甲醇在热阴极DC-PCVD方法制备金刚石膜过程中的作用 被引量:5
6
作者 姜志刚 金曾孙 +5 位作者 白亦真 曹培江 张露 杨广亮 李俊杰 吕宪义 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期1648-1650,共3页
采用热阴极 DC-PCVD方法制备了金刚石膜 ,研究了甲醇对放电状态和金刚石膜生长特性的影响 .结果表明 ,通入适量的甲醇有利于稳定辉光放电状态 ,保持阴极清洁 ,提高膜的生长质量 .
关键词 热阴极DC-PCVD 甲醇 辉光放电 金刚石膜 生长特性 直流等离子体沉积
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阴/阳极电流密度对铝合金微弧氧化陶瓷膜耐蚀性的影响 被引量:4
7
作者 吴汉华 金曾孙 +2 位作者 龙北红 汪剑波 王秀琴 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2004年第12期9-10,共2页
为了弄清铝合金微弧氧化重要参数对其耐点蚀和微硬度的影响 ,在氢氧化钠和硅酸钠溶液中 ,保持阳极电流密度为 15A/dm2 ,制备了阴 /阳极电流密度比在 0 .6~ 0 .8之间的铝合金微弧氧化陶瓷膜。结果表明 :阴 /阳极电流密度比对陶瓷膜的抗... 为了弄清铝合金微弧氧化重要参数对其耐点蚀和微硬度的影响 ,在氢氧化钠和硅酸钠溶液中 ,保持阳极电流密度为 15A/dm2 ,制备了阴 /阳极电流密度比在 0 .6~ 0 .8之间的铝合金微弧氧化陶瓷膜。结果表明 :阴 /阳极电流密度比对陶瓷膜的抗点腐蚀性和硬度有很强的影响 ;不同阴 /阳极电流密度比所制备的陶瓷膜微观结构差异较大 。 展开更多
关键词 微弧氧化 电流密度比 铝合金 显微硬度 抗点蚀性
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大功率激光制备a-C和a-C∶H类金刚石膜的光学性能研究 被引量:2
8
作者 陈宝玲 赵立新 +4 位作者 张冰 陈玉强 杨昕卉 彭鸿雁 金曾孙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1012-1015,共4页
采用大功率高重复频率准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石碳膜,研究了实验条件对类金刚石膜光学性能的影响,发现氢可以提高膜中sp3键的含量和膜的光学透过率.在实验参数范围内,膜的光学性能随着氢压的增加而提高.根据类金刚石膜的... 采用大功率高重复频率准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石碳膜,研究了实验条件对类金刚石膜光学性能的影响,发现氢可以提高膜中sp3键的含量和膜的光学透过率.在实验参数范围内,膜的光学性能随着氢压的增加而提高.根据类金刚石膜的反应沉积机理对上述结果进行了分析、解释. 展开更多
关键词 激光功率密度 类金刚石膜 光学性能 结构
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氢气流量对金刚石膜生长的影响研究
9
作者 杨广亮 王立秋 +1 位作者 吕宪义 金曾孙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第9期1735-1737,共3页
研究了电子辅助热灯丝法生长金刚石厚膜过程中氢气流量对沉积速度和膜品质的影响 .随氢气流量从 1 0 0增加到 75 0 cm3/min,金刚石膜的沉积速率单调上升 ,但金刚石膜品质不断下降 ,从 75 0到 1 0 0 0cm3/min,金刚石膜沉积速率下降 ,但... 研究了电子辅助热灯丝法生长金刚石厚膜过程中氢气流量对沉积速度和膜品质的影响 .随氢气流量从 1 0 0增加到 75 0 cm3/min,金刚石膜的沉积速率单调上升 ,但金刚石膜品质不断下降 ,从 75 0到 1 0 0 0cm3/min,金刚石膜沉积速率下降 ,但金刚石膜品质随氢气流量增加而提高 .拉曼光谱和电子顺磁共振谱研究发现 ,在所制备的金刚石膜中含有替代形式的氮 ,氮含量随氢气流量的增加而减小 ,1 0 0 0 cm3/min流量下沉积的金刚石膜的含氮量仅为 1 0 0 cm3/min流量下沉积的金刚石膜的 1 /4 0 . 展开更多
关键词 氢气流量 金刚石膜 顺磁氮 顺磁共振 薄膜生长 电子辅助热灯丝法 化学气相沉积
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金刚石膜内晶粒尺寸和取向对其热导率的影响
10
作者 顾长志 金曾孙 +3 位作者 吕宪义 邹广田 张纪法 方容川 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 1997年第9期20-22,共3页
研究了金刚石膜内晶粒尺寸和取向程度对金刚石膜然导率的影响。通过对衬底表面进行不同研磨时间的处理和适当的工艺条件,采用灯丝热解化学气相沉积(HFCVD)的方法在单晶硅衬底上形成了具有不同晶粒尺寸和不同程度(100)晶面取向的金... 研究了金刚石膜内晶粒尺寸和取向程度对金刚石膜然导率的影响。通过对衬底表面进行不同研磨时间的处理和适当的工艺条件,采用灯丝热解化学气相沉积(HFCVD)的方法在单晶硅衬底上形成了具有不同晶粒尺寸和不同程度(100)晶面取向的金刚石膜,并研究了其热导率。结果表明,由大晶粒和较高程度(100)晶面取向的晶粒构成的金刚石膜具有高的热导率特性。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 热导率 晶粒尺寸 超硬材料
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放电电流对热阴极等离子体化学气相沉积金刚石膜影响
11
作者 白亦真 金曾孙 +1 位作者 吕宪义 韩雪梅 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期313-316,共4页
建立了快速沉积高品质金刚石膜的热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积新方法.相对于常规冷阴极辉光放电而言,热阴极辉光放电是一种新型放电形式,具有许多新的特性,其中重要一点是具有较高的放电电流(6.0~10.0A).较高的放电电... 建立了快速沉积高品质金刚石膜的热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积新方法.相对于常规冷阴极辉光放电而言,热阴极辉光放电是一种新型放电形式,具有许多新的特性,其中重要一点是具有较高的放电电流(6.0~10.0A).较高的放电电流既是热阴极辉光放电本身的突出特点,同时对于化学气相沉积金刚石膜工艺也产生重要影响.实验研究了放电电流于金刚石膜沉积速率、表面形貌和热导率的影响,发现由于放电电流影响辉光放电的等离子体区和阳极区,进而对金刚石膜的沉积速率和品质有很大影响.特别是通过放电电流的提高,可以有效地提高金刚石膜的品质,这对于制备优质金刚石膜产品有重大意义. 展开更多
关键词 放电电流 热阴极 等离子体化学气相沉积 金刚石膜
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磁控溅射CN_x薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系 被引量:8
12
作者 李俊杰 王欣 +4 位作者 卞海蛟 郑伟涛 吕宪义 金曾孙 孙龙 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期305-308,共4页
对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,衬底温度(Ts)保持在350℃,衬底偏压(Vb)在0~-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CN... 对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,衬底温度(Ts)保持在350℃,衬底偏压(Vb)在0~-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CNx薄膜的表面粗糙度及对衬底的附着力。AFM和划痕实验的结果显示衬底偏压Vb对CNx薄膜的附着力和表面粗糙程度的影响很大,在-100V偏压下生长的CNx薄膜表面最光滑(粗糙度最小),同时对Si(001)衬底的附着力最好。最后根据实验结果确定了在单晶Si(001)衬底上生长光滑而且附着力好的CNx薄膜的最佳实验条件。 展开更多
关键词 磁控溅射 CNX薄膜 附着力 粗糙度 衬底偏压 碳氮薄膜 薄膜测量
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轰击离子能量对CN_x薄膜中sp^3型C—N键含量的影响 被引量:7
13
作者 李俊杰 曹培江 +3 位作者 郑伟涛 吕宪义 卞海蛟 金曾孙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期880-883,共4页
对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CN_x薄膜样品的化学键合及结构进行了研究,利用不同的衬底负偏压(V_h)来控制轰击衬底表面的入射离子能量,从而影响膜中的化学键合的状态。样品的FTIR,Ra-man和XPS分析结果表明,CN_x薄膜中N原子分别... 对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CN_x薄膜样品的化学键合及结构进行了研究,利用不同的衬底负偏压(V_h)来控制轰击衬底表面的入射离子能量,从而影响膜中的化学键合的状态。样品的FTIR,Ra-man和XPS分析结果表明,CN_x薄膜中N原子分别与sp,sp^2和sp^3杂化状态的C原子结合,其中sp^3型C—N键含量先随着衬底偏压(V_b)的升高而增加,并在偏压V_b=-50V时达到最大值,但随着V_b继续升高,sp^3型C—N键含量减少,这表明CN_x薄膜中,sp^3型C—N键的含量与轰击离子的能量变化密切相关。 展开更多
关键词 非晶CNx薄膜 C-N键 磁控溅射 化学键合 结构 氮化碳薄膜 碳氮键
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射频磁控溅射CN_x薄膜的结构与衬底温度关系的研究 被引量:4
14
作者 曹培江 姜志刚 +4 位作者 李俊杰 金曾孙 王欣 郑伟涛 李哲奎 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期275-278,共4页
使用射频磁控溅射方法在不同衬底温度下 ( ts=室温 ,35 0 ,5 0 0℃ )于 Si( 0 0 1 )衬底上沉积了 CNx 膜 ,并利用拉曼 ( Raman)光谱、傅里叶变换红外光谱 ( FTIR)及 X射线衍射光电子能谱 ( XPS)对 CNx 膜的化学结合状态与温度的关系进... 使用射频磁控溅射方法在不同衬底温度下 ( ts=室温 ,35 0 ,5 0 0℃ )于 Si( 0 0 1 )衬底上沉积了 CNx 膜 ,并利用拉曼 ( Raman)光谱、傅里叶变换红外光谱 ( FTIR)及 X射线衍射光电子能谱 ( XPS)对 CNx 膜的化学结合状态与温度的关系进行了研究 .Raman光谱结果表明 ,随衬底温度 ( ts)增加 ,D带向低频方向移动 ,G带向高频方向移动 ;它们的半高宽分别由 375和 1 5 0 cm- 1减小至 32 8和 1 4 2 cm- 1 ;ID/IG 由 3.76减小至 2 .88.FTIR谱中除无序 D带 ( 1 4 0 0 cm- 1 )和石墨 G带 ( 1 5 70 cm- 1 )外 ,还有~ 70 0 cm- 1 ,~ 2 2 1 0 cm- 1 ( C≡ N) ,2 330 cm- 1 ( C—O)及 3 2 5 5~ 335 1 cm- 1 ( N—H)等峰 .XPS测试结果表明 :随衬底温度增加 ,N与 C的物质的量比由 0 .4 9下降至 0 .38,sp2 ( C—N)组分与 sp3( C—N)组分强度比呈增大趋势 .低温 ( 35 0℃ )退火并未对CNx 膜的化学结合状态产生较大影响 ;高温 ( 90 0℃ ) 展开更多
关键词 射频磁控溅射 化学结合状态 结构 氮化碳薄膜 衬底温度 退火温度 FTIR XPS 拉曼光谱
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磁控溅射非晶CN_x薄膜的热稳定性研究 被引量:3
15
作者 李俊杰 金曾孙 +5 位作者 吴汉华 林景波 李哲奎 顾广瑞 盖同祥 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2004年第1期71-74,共4页
为了研究非晶CNx薄膜的热稳定性,采用射频磁控溅射方法沉积了非晶CNx薄膜样品,并在真空中退火至900℃,利用FTIR,Raman和XPS谱探讨了高温退火对CNx薄膜化学成分及键合结构的影响.研究表明:CNx薄膜样品中N原子分别与sp、sp2和sp3杂化状态... 为了研究非晶CNx薄膜的热稳定性,采用射频磁控溅射方法沉积了非晶CNx薄膜样品,并在真空中退火至900℃,利用FTIR,Raman和XPS谱探讨了高温退火对CNx薄膜化学成分及键合结构的影响.研究表明:CNx薄膜样品中N原子分别与sp、sp2和sp3杂化状态的C原子相结合,退火处理极大地影响了CN键合结构的稳定性;当退火温度低于600℃时,膜内N含量的损失较少,CNx薄膜的热稳定性较好,退火温度超过600℃时,将导致CNx膜中大多数C、N间的键合分离,造成N大量损失,膜的热稳定性下降;退火可促使膜内sp3型键向sp2型键转变,在膜中形成大量的sp2型C键,导致CNx膜的石墨化. 展开更多
关键词 磁控溅射 非晶CNx薄膜 热稳定性 真空退火 键合结构
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钽阴极在热阴极辉光放电中行为与防护 被引量:2
16
作者 白亦真 吕宪义 +1 位作者 金曾孙 姜志刚 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期157-159,共3页
为快速沉积高品质金刚石膜,建立了热阴极等离子体化学气相沉积方法.相对于常规冷阴极辉光放电而言,热阴极辉光放电是一种新型放电形式,具有许多新的特性,其中重要一方面是阴极工作在较高的温度(700~1200℃).研究了钽阴极在此... 为快速沉积高品质金刚石膜,建立了热阴极等离子体化学气相沉积方法.相对于常规冷阴极辉光放电而言,热阴极辉光放电是一种新型放电形式,具有许多新的特性,其中重要一方面是阴极工作在较高的温度(700~1200℃).研究了钽阴极在此温度条件下,在PCVD气氛中的反应情况.结果表明,钽与气氛中的碳反应形成了有益于放电和阴极防护的碳化钽表面,而气氛中氧的存在会影响阴极的正常工作,甚至造成阴极损坏.为有效保护阴极,需严格控制真空系统的本底真空度和漏气率. 展开更多
关键词 热阴极 辉光放电
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Synthesis of Thick Diamond Films by Direct Current Hot—Cathode Plasma Chemical Vapour Deposition 被引量:2
17
作者 金曾孙 姜志刚 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2002年第9期1374-1376,共3页
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High-Rate Growth and Nitrogen Distribution in Homoepitaxial Chemical Vapour Deposited Single-crystal Diamond 被引量:8
18
作者 李红东 邹广田 +5 位作者 王启亮 成绍恒 李博 吕建楠 吕宪义 金曾孙 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2008年第5期1803-1806,共4页
High rate (〉 50 μm/h) growth of homoepitaxial single-crystal diamond (SCD) is carried out by microwave plasma chemical vapour deposition (MPCVD) with added nitrogen in the reactant gases of methane and hydroge... High rate (〉 50 μm/h) growth of homoepitaxial single-crystal diamond (SCD) is carried out by microwave plasma chemical vapour deposition (MPCVD) with added nitrogen in the reactant gases of methane and hydrogen, using a polyerystalline-CVD-diamond-film-made seed holder. Photolumineseenee results indicate that the nitrogen concentration is spatially inhomogeneous in a large scale, either on the top surface or in the bulk of those as-grown SCDs. The presence of N-distribution is attributed to the facts: (i) a difference in N-incorporation efficiency and (ii) N-diffusion, resulting from the local growth temperatures changed during the high-rate deposition process. In addition, the formed nitrogen-vacancy eentres play a crucial role in N-diffusion through the growing crystal. Based on the N-distribution observed in the as-grown crystals, we propose a simple method to distinguish natural diamonds and man-made CVD SCDs. Finally, the disappearance of void defect on the top surface of SCDs is discussed to be related to a filling-in mechanism. 展开更多
关键词 MICROWAVE PLASMA CVD TEMPERATURE SAPPHIRE
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Effects of Alcohol Addition on the Deposition of Diamond Thick Films by dc Plasma Chemical Vapor Deposition Method 被引量:4
19
作者 BAI Yi-zhen JIANG Zhi-gang +3 位作者 WANG Chun-lei JIN Zeng-sun LÜXian-yi ZOU Guang-tian 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1998年第3期228-229,共2页
Diamond films have been deposited by dc plasma chemical vapor deposition method.The addition of alcohol in the resource gas largely increases the deposition rate.The effects of alcohol addition on deposition rate and ... Diamond films have been deposited by dc plasma chemical vapor deposition method.The addition of alcohol in the resource gas largely increases the deposition rate.The effects of alcohol addition on deposition rate and film quality are analyzed by scanning electron microscopy and Raman spectrometry.The mechanism of experimental phenomena is discussed. 展开更多
关键词 DIAMOND ALCOHOL FILM
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Superconductivity in Heavily Boron-Doped Diamond Films Prepared by Electron Assisted Chemical Vapour Deposition Method 被引量:3
20
作者 李春燕 李博 +4 位作者 吕宪义 李明吉 王宗利 顾长志 金曾孙 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第10期2856-2858,共3页
Heavily boron-doped thick diamond films with higher superconducting transition temperatures have been prepared by electron assisted chemical vapour deposition method. The results of scanning electron microscopy, Raman... Heavily boron-doped thick diamond films with higher superconducting transition temperatures have been prepared by electron assisted chemical vapour deposition method. The results of scanning electron microscopy, Raman spectroscopy, x-ray diffraction, and Hall effect indicate that the films have nice crystalline facets, a notable decrease in the growth rate, and an increase in the tensile stress. Meanwhile, the film resistivity decreases with the increase of the carrier concentration. Our measurements show that the films with 4.88×10^20 cm^-3 and 1.61×10^21 cm^-3 carrier concentration have superconductivity, with onset temperatures of 9.7 K (8.9K for zero resistance) and 7.8 K (6.1 K for zero resistance), respectively. 展开更多
关键词 THIN-FILMS
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