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碱性溶液中醇在Pd电极上失去电子数研究
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作者 郭仕恒 徐常威 《化学世界》 CAS CSCD 北大核心 2011年第11期648-650,668,共4页
用循环伏安法研究了碱性条件下甲醇、乙醇和异丙醇在Pd电极上氧化失去电子能力。甲醇和乙醇氧化是失去6个和4个电子。异丙醇容易失去2个电子氧化为丙酮,丙酮会进一步氧化,但氧化程度很低。乙醇和异丙醇在低于-0.4 V范围内失去电子数比... 用循环伏安法研究了碱性条件下甲醇、乙醇和异丙醇在Pd电极上氧化失去电子能力。甲醇和乙醇氧化是失去6个和4个电子。异丙醇容易失去2个电子氧化为丙酮,丙酮会进一步氧化,但氧化程度很低。乙醇和异丙醇在低于-0.4 V范围内失去电子数比不上甲醇,但在-0.9到-0.4 V的积分电量是甲醇的19.1和41.2倍。说明了乙醇和异丙醇在Pd电极上比甲醇更容易电化学氧化,特别是异丙醇,比乙醇更容易氧化。 展开更多
关键词 燃料电池 醇电化学氧化 乙醇 异丙醇
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2,2'-二氨基苯氧基二硫化物的电极过程动力学研究 被引量:5
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作者 苏育志 郭仕恒 +2 位作者 萧翼之 肖敏 杨绮琴 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第5期518-523,共6页
利用循环伏安法、线性伏安法及旋转圆盘电极技术,研究了2,2'-二氨基苯氧基二硫化物(DAPOD)在含有0.1mol·L-1LiClO4电解质的乙腈/四氢呋喃有机溶液中,铂、金、玻碳及石墨电极上的电化学行为.伏安结果表明DAPOD中的二硫键与硫巯... 利用循环伏安法、线性伏安法及旋转圆盘电极技术,研究了2,2'-二氨基苯氧基二硫化物(DAPOD)在含有0.1mol·L-1LiClO4电解质的乙腈/四氢呋喃有机溶液中,铂、金、玻碳及石墨电极上的电化学行为.伏安结果表明DAPOD中的二硫键与硫巯基之间的氧化还原反应属动力学不可逆过程,这种在室温下表现出的电化学反应不可逆性是有机二硫化物普遍存在的不足,必须通过分子内或分子间的电催化来改善其可逆性能.旋转圆盘电极测试结果显示,DAPOD的阴极还原反应级数为0.5,阳极氧化反应级数为1.由此推知DAPOD电还原属两电子转移反应,分两步完成:第一步为平衡的化学反应步骤;第二步为电子转移步骤,属决速步.同时还测定了DAPOD的阴极与阳极传递系数、交换电流、平衡电势及标准速率常数等相关的动力学常数.通过比较铂、金、玻碳及石墨四种不同材料电极对DAPOD的电极过程的影响,发现石墨对DAPOD的还原过程具有电催化作用. 展开更多
关键词 2 2’-二氨基苯氧基二硫化物 电极过程 动力学常数 电极材料 钠硫电池 温度
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橄榄中总黄酮微波提取工艺研究 被引量:6
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作者 赖雅平 唐春红 +3 位作者 刘汝锋 郭仕恒 王东耀 尚小琴 《食品研究与开发》 CAS 北大核心 2008年第8期39-41,共3页
采用微波提取技术提取橄榄中的总黄酮,通过对比实验比较微波提取法与其它提取方法的差异,采用正交试验方法考察提取时间、乙醇浓度、微波辐射功率、液固比等因素对橄榄中总黄酮提取率的影响,研究优化提取工艺。结果显示,采用微波提取法... 采用微波提取技术提取橄榄中的总黄酮,通过对比实验比较微波提取法与其它提取方法的差异,采用正交试验方法考察提取时间、乙醇浓度、微波辐射功率、液固比等因素对橄榄中总黄酮提取率的影响,研究优化提取工艺。结果显示,采用微波提取法黄酮提取效率明显高于振荡提取法和超声波提取法,最佳微波提取工艺为:乙醇浓度60%、微波功率为500 W,辐射时间25 min,液固比20:1,总黄酮收率可大于1%。 展开更多
关键词 橄榄 总黄酮 微波 提取工艺
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线性扫描伏安法测定痕量铊 被引量:3
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作者 黄松龄 张建华 +5 位作者 李雪琼 廖小燕 陈永亨 郭仕恒 毕艳芬 黄美贞 《理化检验(化学分册)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期121-122,共2页
关键词 监测 中枢神经系统 原子吸收光谱法 致死 人体 线性扫描伏安法 剂量 下限 痕量 化合物
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新型储能材料聚有机二硫化物的研究进展 被引量:4
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作者 苏育志 张建华 +2 位作者 郭仕恒 王国忠 郭庆时 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期160-164,共5页
聚有机二硫化物是一种新型的储能材料,主要用于锂电池的正极。本文分析了这种材料的优势与不足,综述了这种材料的最新研究进展,并指出了这种材料未来研究趋势。
关键词 聚有机二硫化物 储能材料 锂电池
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由苯乙烯基四配位硅单体合成支链含硅共聚物
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作者 宋建华 张建华 +2 位作者 徐敏 董文 郭仕恒 《华东理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1238-1241,共4页
以二氧化硅与乙二醇、氢氧化钾反应制得高反应活性的五配位硅钾化合物,并以此为原料与对苄氯苯乙烯反应制备了含双键官能团的四配位硅单体,然后使其与苯乙烯进行自由基聚合反应,得到了支链含硅的共聚物。用红外光谱(IR)、元素分析(EA)... 以二氧化硅与乙二醇、氢氧化钾反应制得高反应活性的五配位硅钾化合物,并以此为原料与对苄氯苯乙烯反应制备了含双键官能团的四配位硅单体,然后使其与苯乙烯进行自由基聚合反应,得到了支链含硅的共聚物。用红外光谱(IR)、元素分析(EA)、能谱元素分析(EDS)、热重分析(TG)、差示扫描量热分析(DSC)、凝胶渗透色谱分析(GPC)等对四配位硅单体及其共聚物结构进行了表征。结果表明:四配位硅单体在1 630 cm-1附近的C=C伸缩振动吸收峰在共聚物谱中消失了;共聚物在350°C才开始分解,其玻璃化温度为58°C,数均分子量为8.5×104。 展开更多
关键词 配位硅化合物 有机硅聚合物 自由基聚合 苯乙烯 结构表征
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支链含硅共聚物的制备及结构表征
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作者 宋建华 张建华 +2 位作者 徐敏 董文 郭仕恒 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期101-103,108,共4页
以二氧化硅为起始原料,与乙二醇、氢氧化钾反应,生成高反应活性的五配位硅钾化合物,并以此为原料与对苄氯苯乙烯反应制备出含双键官能团的四配位硅单体;然后与甲基丙烯酸甲酯进行自由基聚合反应,得到了支链含硅的共聚物。最后对合成的... 以二氧化硅为起始原料,与乙二醇、氢氧化钾反应,生成高反应活性的五配位硅钾化合物,并以此为原料与对苄氯苯乙烯反应制备出含双键官能团的四配位硅单体;然后与甲基丙烯酸甲酯进行自由基聚合反应,得到了支链含硅的共聚物。最后对合成的四配位硅单体及共聚物进行了IR、TG、DSC、GPC结构表征。IR表明,四配位硅单体在1629.6 cm-1处的C=C伸缩振动吸收峰在共聚物中消失;TG表明四配位硅单体在67℃就开始失重,437℃有机部分基本失重完毕,而共聚物在150℃左右开始失重,550℃有机部分失重完毕;DSC表明,共聚物的玻璃化温度为55.0℃;GPC分析表明,共聚物的分子量为3千左右。 展开更多
关键词 配位硅化合物 自由基聚合 甲基丙烯酸甲酯
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四配位硅与丙烯酸甲酯共聚物的制备及其性能
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作者 宋建华 张建华 +2 位作者 徐敏 董文 郭仕恒 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期173-177,共5页
以SiO_2为起始反应物,与乙二醇、氢氧化钾反应,生成高反应活性的五配位硅钾化合物,并以此为原料与等摩尔比的对苄氯苯乙烯反应制备出含双键单官能团的四配位硅单体;然后与丙烯酸甲酯在甲苯溶剂中进行溶液自由基聚合反应,得到支链含硅共... 以SiO_2为起始反应物,与乙二醇、氢氧化钾反应,生成高反应活性的五配位硅钾化合物,并以此为原料与等摩尔比的对苄氯苯乙烯反应制备出含双键单官能团的四配位硅单体;然后与丙烯酸甲酯在甲苯溶剂中进行溶液自由基聚合反应,得到支链含硅共聚物。对合成的四配位硅单体及其共聚物采用红外光谱、元素分析、能谱元素分析、热失重分析、差示扫描量热谱分析、凝胶渗透色谱等测试技术进行了结构表征与性能分析。结果表明.四配位硅单体在1 630 cm^(-1)附近的C=C伸缩振动吸收峰在共聚物中消失了,说明共聚反应完全;共聚物的热性能较好.在357℃开始失重;共聚物的玻璃化转变温度为23.4℃,刚好界于聚丙烯酸甲酯的T_g(8℃)和苯乙烯基四配位硅的均聚物的T_8(32.8℃)之间;共聚物的数均分子量为2.2×10~4,多分散系数为1.76。通过测定共聚物在潮湿空气中(相对湿度RH=90%)放置一年后的IR谱和分子量,结果表明与新合成物的数据基本一致,说明Si—O—C键接到支链上的共聚物结构很稳定。 展开更多
关键词 配位硅化合物 自由基聚合 丙烯酸甲酯
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新型四配位硅单体改性水性聚氨酯的制备与性能分析
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作者 宋建华 谭惠红 +1 位作者 徐敏 郭仕恒 《化学建材》 CAS 2007年第2期4-6,共3页
采用丙烯酸酯对水性聚氨酯进行改性,制备了具有核壳结构的共聚乳液(PUA乳液),并在此基础上引入乙烯基四配位硅单体对PUA乳液进行改性。研究了MMA添加量对PUA乳液性能的影响,改性对涂膜性能的影响,用红外光谱(IR)、热失重谱(TG)、差示扫... 采用丙烯酸酯对水性聚氨酯进行改性,制备了具有核壳结构的共聚乳液(PUA乳液),并在此基础上引入乙烯基四配位硅单体对PUA乳液进行改性。研究了MMA添加量对PUA乳液性能的影响,改性对涂膜性能的影响,用红外光谱(IR)、热失重谱(TG)、差示扫描量热谱(DSC)等手段对样品进行了结构表征和性能分析.研究表明:随着MMA含量的增加,体系聚合稳定性变差,MMA的适合添加量为PUA总量的20%~30%;PUA涂膜的耐水性和耐溶剂性明显优于PU涂膜,而用四配位硅单体改性后的PUA涂膜,改性效果更加显著。 展开更多
关键词 水性聚氨酯 PMMA PUA 四配位硅
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