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以次磷酸钠为还原剂制备纳米铜粉 被引量:12
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作者 姜雄华 李成海 +1 位作者 董丽辉 邱友楠 《无机盐工业》 CAS 北大核心 2006年第5期34-36,共3页
研究了以化学还原法与均匀沉淀法相结合的方法制备纳米铜粉。实验以次磷酸钠为制备纳米铜粉的还原性沉淀剂。实验得出较佳工艺条件:硫酸铜浓度0.08~0.5mol/L,次磷酸钠的浓度0.4~1mol/L,还原剂的滴加速度35滴/min,表面活性... 研究了以化学还原法与均匀沉淀法相结合的方法制备纳米铜粉。实验以次磷酸钠为制备纳米铜粉的还原性沉淀剂。实验得出较佳工艺条件:硫酸铜浓度0.08~0.5mol/L,次磷酸钠的浓度0.4~1mol/L,还原剂的滴加速度35滴/min,表面活性剂用量占原料质量分数的0.3%,温度50℃,pH=2.0,六偏磷酸钠0.5~2g。对产品进行XRD谱图和TEM电镜分析,证实为纳米级铜粉,但在空气中不稳定,极易被氧化为Cu2O。 展开更多
关键词 铜粉 液相还原法 均匀沉淀法
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