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题名能量过滤磁控溅射低温沉积ITO膜及其光电性能研究
被引量：2
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作者
樊丽红
王朝勇
路钟杰
关瑞红
姚宁
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机构
郑州大学物理工程学院
河南城建学院数理系
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期1-3,共3页
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基金
国家自然科学基金资助项目(61076041)
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文摘
利用能量过滤磁控溅射技术,于低温条件下,在玻璃衬底上制备ITO薄膜,研究了过滤电极金属网栅目数、溅射功率、衬底温度对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明:在网栅目数为60目、衬底温度为81℃、溅射功率为165W的条件下,所得ITO薄膜的电阻率为4.9×10-4Ω.cm,可见光区平均透过率达到87%。
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关键词
ITO薄膜
能量过滤磁控溅射
光电性能
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Keywords
ITO thin films
energy filtering magnetron sputtering
photoelectric properties
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分类号
TN305.92
[电子电信—物理电子学]
O484
[理学—固体物理]
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题名太阳电池用非晶碳薄膜在黑硅衬底上的生长
被引量：1
- 2
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作者
苏博
姚宁
鲁占灵
路钟杰
关瑞红
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机构
郑州大学物理工程学院
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出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第24期12-15,共4页
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基金
国家自然科学基金(61076041)
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文摘
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在黑硅和抛光单晶硅片衬底上生长非晶碳薄膜,其中变量为CH4流量,分别为10sccm、14sccm、18sccm、22sccm、26sccm。通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射分析(XRD)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱表征了非晶碳薄膜的结构和形貌特征。结果表明,在650℃时随着CH4流量的逐渐增加,在平整的非晶碳薄膜上C-C的sp2相团簇颗粒的直径逐渐变大。AFM测试结果显示,非晶碳薄膜表面的平均粗糙度(Ra)为0.494nm。
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关键词
微波等离子体化学气相沉积
黑硅
非晶碳薄膜
太阳电池
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Keywords
MPCVD, black silicon, amorphous carbon thin films, solar cells
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分类号
TK513.5
[动力工程及工程热物理—热能工程]
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